一种半导体光刻板清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半导体光刻板清洗机，其结构包括警示灯、控制面板、可视窗口、清洗机工作平台、电源连接孔、底座、检修挡板、清洗机外壳、显示屏,警示灯位于控制面板左侧，本实用新型专利技术一种半导体光刻板清洗机，在结构上设置了清洗机工作平台，将光刻板放入清洗篮中，清洗篮提杠挂在传送带上，液压缸将导轨上升，导轨触碰清洗篮，清洗篮提杠自由落体，清洗篮挂杆落入导轨中，清洗篮落入第一个高压冲洗池中，当预定清洗时间结束时，导轨上升，将清洗篮挂杆顶入传送带上，到达第二个池上方，导轨上升，将清洗篮挂杆落入导轨中，导轨下降进入第二个池清洗，依次反复直到清洗结束，自动化输送，达到批量清洗，节约了清洗时间，提高了工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体光刻板清洗机
本技术是一种半导体光刻板清洗机，属于半导体清洗领域。
技术介绍
清洗机，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或侵入的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的高性能、高可靠度和长寿命。现有技术在清洗机中，在对半导体光刻板清洗中清洗效率不高，自动化水平低，批量清洗能力弱，从而降低了半导体光刻板清洗效率的问题。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术目的是提供一种半导体光刻板清洗机，以解决在清洗机中，在对半导体光刻板清洗中清洗效率不高，自动化水平低，批量清洗能力弱，从而降低了半导体光刻板清洗效率的问题。为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：一种半导体光刻板清洗机，其结构包括警示灯、控制面板、可视窗口、清洗机工作平台、电源连接孔、底座、检修挡板、清洗机外壳、显示屏，所述警示灯位于控制面板左侧，所述控制面板安装于清洗机箱体上方，所述可视窗口安装于清洗机工作平台上方，所述清洗机工作平台与电源连接孔固定连接，所述电源连接孔位于底座上方，所述底座位于检修挡板的下方，所述检修挡板安装于显示屏的下方，所述显示屏与清洗机外壳相嵌合。进一步地，所述清洗机工作平台包括液压缸、导轨、清洗机工作平台外壳、传送带、清洗篮、高压冲洗池、清水池、除锈池、加温池、清洗剂池、超声波池，所述液压缸安装于导轨下方，所述导轨与清洗机工作平台外壳侧端平行，所述传送带与清洗篮上端相连接，所述清洗篮放置于高压冲洗池内，所述高压冲洗池位于清水池左侧，所述清洗机工作平台外壳与除锈池为一体化结构，所述清洗机工作平台外壳与加温池为一体化结构，所述清洗剂池与超声波池中间隔阂着导轨，所述可视窗口安装于清洗机工作平台外壳上方。进一步地，所述底座半径6CM、高6CM。进一步地，所述底座为重叠的两个圆柱形结构并且焊接于清洗机外壳底部。进一步地，所述液压缸为液压缸，结构简单、工作可靠。进一步地，所述清洗篮材料为SUS304不锈钢寿命长、美观大方。有益效果本技术一种半导体光刻板清洗机，在结构上设置了清洗机工作平台，将光刻板放入清洗篮中，清洗篮提杠挂在传送带上，液压缸将导轨上升，导轨触碰清洗篮，清洗篮提杠自由落体，清洗篮挂杆落入导轨中，清洗篮落入第一个高压冲洗池中，当预定清洗时间结束时，导轨上升，将清洗篮挂杆顶入传送带上，到达第二个池上方，导轨上升，将清洗篮挂杆落入导轨中，导轨下降进入第二个池清洗，依次反复直到清洗结束，自动化输送，达到批量清洗，节约了清洗时间，提高了工作效率。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为本技术一种半导体光刻板清洗机的结构示意图；图2为本技术一种半导体光刻板清洗机的结构示意图。图中：警示灯-1、控制面板-2、可视窗口-3、清洗机工作平台-4、电源连接孔-5、底座-6、检修挡板-7、清洗机外壳-8、显示屏-9、液压缸-401、导轨-402、清洗机工作平台外壳-403、传送带-404、清洗篮-405、高压冲洗池-406、清水池-407、除锈池-408、加温池-409、清洗剂池-410、超声波池-411。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。请参阅图1、图2，本技术提供一种半导体光刻板清洗机技术方案：其结构包括警示灯1、控制面板2、可视窗口3、清洗机工作平台4、电源连接孔5、底座6、检修挡板7、清洗机外壳8、显示屏9，所述警示灯1位于控制面板2左侧，所述控制面板2安装于清洗机箱体8上方，所述可视窗口3安装于清洗机工作平台4上方，所述清洗机工作平台4与电源连接孔5固定连接，所述电源连接孔5位于底座6上方，所述底座6位于检修挡板7的下方，所述检修挡板7安装于显示屏9的下方，所述显示屏9与清洗机外壳8相嵌合，所述清洗机工作平台4包括液压缸401、导轨402、清洗机工作平台外壳403、传送带404、清洗篮405、高压冲洗池406、清水池407、除锈池408、加温池409、清洗剂池410、超声波池411，所述液压缸401安装于导轨402下方，所述导轨402与清洗机工作平台外壳403侧端平行，所述传送带404与清洗篮405上端相连接，所述清洗篮405放置于高压冲洗池406内，所述高压冲洗池406位于清水池407左侧，所述清洗机工作平台外壳403与除锈池408为一体化结构，所述清洗机工作平台外壳403与加温池409为一体化结构，所述清洗剂池410与超声波池411中间隔阂着导轨402，所述可视窗口3安装于清洗机工作平台外壳403上方，所述底座6半径6CM、高6CM。所述底座6为重叠的两个圆柱形结构并且焊接于清洗机外壳8底部。本专利所说的液压缸401是指将液压能转变为机械能的、做直线往复运动或摆动运动的液压执行元件，所述导轨402是指金属或其它材料制成的槽或脊，可承受、固定、引导移动装置或设备并减少其摩擦的一种装置，用于直线往复运动场合，拥有比直线轴承更高的额定负载，同时可以承担一定的扭矩，可在高负载的情况下实现高精度的直线运动。例如，工作人员将光刻板放入清洗篮405中，清洗篮405提杠挂在传送带404上，液压缸401将导轨402上升，导轨402触碰清洗篮405，清洗篮405提杠自由落体，清洗篮405挂杆落入导轨402中，清洗篮405落入第一个高压冲洗池406中，当预定清洗时间结束时，导轨402上升，将清洗篮405挂杆顶入传送带404上，到达第二个池上方，导轨402上升，将清洗篮405挂杆落入导轨402中，导轨402下降进入第二个池清洗，依次反复直到清洗结束。本技术解决了在对半导体光刻板清洗中清洗效率不高，自动化水平低，批量清洗能力弱，从而降低了半导体光刻板清洗效率的问题，本技术通过上述部件的互相组合，自动化输送，达到批量清洗，节约了清洗时间，提高了工作效率。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点，对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体光刻板清洗机，其结构包括警示灯(1)、控制面板(2)、可视窗口(3)、清洗机工作平台(4)、电源连接孔(5)、底座(6)、检修挡板(7)、清洗机外壳(8)、显示屏(9)，其特征在于：/n所述警示灯(1)位于控制面板(2)左侧，所述控制面板(2)安装于清洗机外壳(8)上方，所述可视窗口(3)安装于清洗机工作平台(4)上方，所述清洗机工作平台(4)与电源连接孔(5)固定连接，所述电源连接孔(5)位于底座(6)上方，所述底座(6)位于检修挡板(7)的下方，所述检修挡板(7)安装于显示屏(9)的下方，所述显示屏(9)与清洗机外壳(8)相嵌合。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体光刻板清洗机，其结构包括警示灯(1)、控制面板(2)、可视窗口(3)、清洗机工作平台(4)、电源连接孔(5)、底座(6)、检修挡板(7)、清洗机外壳(8)、显示屏(9)，其特征在于：
所述警示灯(1)位于控制面板(2)左侧，所述控制面板(2)安装于清洗机外壳(8)上方，所述可视窗口(3)安装于清洗机工作平台(4)上方，所述清洗机工作平台(4)与电源连接孔(5)固定连接，所述电源连接孔(5)位于底座(6)上方，所述底座(6)位于检修挡板(7)的下方，所述检修挡板(7)安装于显示屏(9)的下方，所述显示屏(9)与清洗机外壳(8)相嵌合。


2.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板清洗机，其特征在于：所述清洗机工作平台(4)包括液压缸(401)、导轨(402)、清洗机工作平台外壳(403)、传送带(404)、清洗篮(405)、高压冲洗池(406)、清水池(407)、除锈池(408)、加温...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄辉成，
申请(专利权)人：苏州冠博控制科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32