基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法技术

技术编号:25216589 阅读:42 留言:0更新日期:2020-08-11 23:05
本发明专利技术公开了基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法,其具体的工艺过程包括配料、装炉、抽真空及充气、升温、引晶、晶体放肩生长、晶体等宽生长、降温及原位退火、取出晶体等9个过程。本发明专利技术利用横向平移结晶法,同时具有定向结晶法和垂直区熔法的优点,制备Ce,Nd:YAG晶体具有成本低、生长周期短、晶体质量高、产品均一性好、无核心侧心、产品利用率高等优势。

【技术实现步骤摘要】
基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法
本专利技术涉及晶体制备领域,具体涉及基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法。
技术介绍
Ce,Nd:YAG是一种广泛使用的双摻钇铝石榴石晶体材料,具有良好的抗紫外辐射特性和良好的热稳定性,且阈值低、效率高、机械强度高、抗热冲击性能好,是无水冷激光器以及重复频率风冷激光器最理想的工作物质,广泛用于中小型测距机和激光医疗仪。Ce离子作为敏化剂,可以通过辐射吸收转移与无辐射转移两种模式向Nd离子发生有效的能量转移,明显提高了晶体的光泵能量利用率与发光效率。现有技术中,一般使用提拉法来生长Ce,Nd:YAG晶体,但生长过程中需要进行旋转和提拉的机械运动,会在熔体中形成强迫对流,增大固液界面附近温度梯度,导致晶体中残余应力较大,位错密度较高。同时用提拉法生长Ce,Nd:YAG会在晶体中间产生不可使用的核心,周围易产生同样无法利用的侧心,减少晶体利用率,且难以制备大尺寸的晶体。因此,如何减少Ce,Nd:YAG生长过程中的核心,减少晶体缺陷,提高晶体利用率,得到大尺寸的晶体,成为了本领域技术人员急需解决的问题。
技术实现思路
针对现有技术存在的上述不足,本专利技术实际需要解决的问题是:如何减少Ce,Nd:YAG生长过程中的核心,减少晶体缺陷,提高晶体利用率,得到大尺寸的晶体。本专利技术采用了如下的技术方案:基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法,包括:S1、将原料均匀混合后压制烧结成块状,将块状原料置于坩埚中,将籽晶置于坩埚前端,原料由Al2O3粉料、CeO2粉料及Nd2O3粉料组成,Ce离子的掺杂摩尔比例为0.05—10%,Nd离子的掺杂摩尔比例为0.05—10%;S2、将坩埚放入横向平移结晶炉中,密封横向平移结晶炉,开启冷却用循环水,移动坩埚位置使观察窗口对向坩埚中间部位;S3、对横向平移结晶炉抽真空,直到横向平移结晶炉内气压处于1×10-3Pa以下,向横向平移结晶炉中充入氩气,使横向平移结晶炉内气压达到1.5—2个大气压;S4、以预设速率升高横向平移结晶炉电压,当坩埚内块状原料完全熔化后保持当前电压;S5、调整坩埚位置,使籽晶既不融化,籽晶周围的原料熔融液也不凝固,将籽晶向高温区移动预设距离,保持此状态5-10min,以2-3mm/h的速度使籽晶向远离高温区的方向横向移动进行引晶,所述高温区为横向平移结晶炉加热器所在区域;S6、引晶完成后,开始晶体的放肩生长阶段,保持原移动方向不变,以4-5mm/h的移动速度持续移动坩埚,使坩埚内晶体沿着固定方向持续凝固,放肩角为80—110度;S7、观察到放肩阶段结束后,将移动速度改为6-10mm/h,开始晶体的等宽生长,直到坩埚完全离开高温区;S8、在20个小时内缓慢降低横向平移结晶炉功率,使高温区温度为1300—1500度,将晶体移动到高温区,恒温24小时,再在60小时内缓慢降低横向平移结晶炉功率至0,等待至晶体炉内部温度达到室温;S9、将横向平移结晶炉内部与外界联通,待横向平移结晶炉内部气压稳定为大气压后打开晶体炉,取出晶体。优选地,Al2O3粉料、CeO2粉料及Nd2O3粉料的化学计量比为10200:3:3至2503:150:150。优选地,横向平移结晶炉中还围绕坩埚设有反射屏。优选地,所述坩埚为船型钨坩埚,壁厚1mm-3mm。优选地,所述籽晶晶向为[111]向。综上所述,与现有技术相比,本专利技术具有以下技术效果:1、生长出的Ce,Nd:YAG晶体尺寸大,可达220×150×50mm。尺寸可通过改变坩埚尺寸进行调整,提高了晶体利用率,减少了加工余量,生长出的晶体可用于制备圆片或板条状晶体。2、在加热前将粉料混合烧结为块状,增大了原料密度,能够使坩埚盛装更多原料且原料不溢出。3、通过调节摻入CeO2粉料和Nd2O3粉料的比例可以有效调节掺杂浓度,进而调节晶体性能以及结晶完整度。4、利用横向平移结晶炉在生长结束后完成原位退火,可有效降低晶体内部应力。5、使用厚壁钨坩埚,厚壁钨坩埚具有耐高温、变形少的特点,能够多次使用,有利于控制晶体形状及温场稳定性,并且,采用船形坩埚,生长晶体时自由的上表面占晶体表面积的35%以上,降低了晶体的位错密度。6、通过改变籽晶的方向可以得到沿特定方向生长的晶体。7、生长过程无旋转运动,晶体无核心、侧心。8、正压氩气气氛可以有效抑制原料、掺杂离子以及钨钼的挥发,钨钼挥发进入晶体中会对晶体质量产生较大影响。9、加热器四周采用钼片作为反射屏,使温场温度梯度小,炉腔内低温区也可以保持较高温度,进而防止晶体开裂。附图说明为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请作进一步的详细描述,其中:如图1所示为本专利技术公开的基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法的流程图。具体实施方式下面结合附图对本申请作进一步的详细说明。如图1所示,本专利技术公开了基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法,包括:S1、将原料均匀混合后压制烧结成块状,将块状原料置于坩埚中,将籽晶置于坩埚前端,原料由Al2O3粉料、CeO2粉料及Nd2O3粉料组成,Ce离子的掺杂摩尔比例为0.05—10%,Nd离子的掺杂摩尔比例为0.05—10%;本专利技术中原料可选用适合质量的5N纯度Y2O3与Al2O3粉料,4N或更高纯度的CeO2及Nd2O3粉料。将原料混合均匀后利用压料机压制,压制后在500℃下烧结原料,然后将块状原料放置在船形钨坩埚中,将籽晶放在船形钨坩埚前端。保持全过程无杂质混入原料。根据坩埚尺寸及所需晶块厚度不同,原料总质量为1kg-5kg。在加热前将粉料混合烧结为块状,增大了原料密度,能够使坩埚盛装更多原料且原料不溢出。S2、将坩埚放入横向平移结晶炉中,密封横向平移结晶炉,开启冷却用循环水,移动坩埚位置使观察窗口对向坩埚中间部位;S3、打开低真空机械泵,同时开始高真空扩散泵的预热,一段时间后打开高真空扩散泵,对横向平移结晶炉抽真空,直到横向平移结晶炉内气压处于1×10-3Pa以下,向横向平移结晶炉中充入氩气,使横向平移结晶炉内气压达到1.5—2个大气压;正压氩气气氛可以有效抑制原料、掺杂离子以及钨钼的挥发,钨钼挥发进入晶体中会对晶体质量产生较大影响。S4、以预设速率升高横向平移结晶炉电压,当坩埚内块状原料完全熔化后保持当前电压;S5、调整坩埚位置,使籽晶既不融化,籽晶周围的原料熔融液也不凝固,将籽晶向高温区移动预设距离,保持此状态5-10min,以2-3mm/h的速度使籽晶向远离高温区的方向横向移动进行引晶,所述高温区为横向平移结晶炉加热器所在区域;S6、引晶完成(4-6个小时)后,开始晶体的放肩生长阶段,保持原移动方向不变,以4-5mm/本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法,其特征在于,包括:/nS1、将原料均匀混合后压制烧结成块状,将块状原料置于坩埚中,将籽晶置于坩埚前端,原料由Al

【技术特征摘要】
1.基于横向平移结晶法制备大尺寸Ce,Nd:YAG晶体的方法,其特征在于,包括:
S1、将原料均匀混合后压制烧结成块状,将块状原料置于坩埚中,将籽晶置于坩埚前端,原料由Al2O3粉料、CeO2粉料及Nd2O3粉料组成,Ce离子的掺杂摩尔比例为0.05—10%,Nd离子的掺杂摩尔比例为0.05—10%;
S2、将坩埚放入横向平移结晶炉中,密封横向平移结晶炉,开启冷却用循环水,移动坩埚位置使观察窗口对向坩埚中间部位;
S3、对横向平移结晶炉抽真空,直到横向平移结晶炉内气压处于1×10-3Pa以下,向横向平移结晶炉中充入氩气,使横向平移结晶炉内气压达到1.5—2个大气压;
S4、以预设速率升高横向平移结晶炉电压,当坩埚内块状原料完全熔化后保持当前电压;
S5、调整坩埚位置,使籽晶既不融化,籽晶周围的原料熔融液也不凝固,将籽晶向高温区移动预设距离,保持此状态5-10min,以2-3mm/h的速度使籽晶向远离高温区的方向横向移动进行引晶,所述高温区为横向平移结晶炉加热器所在区域;
S6、引晶完成后,开始晶体的放肩生长阶段,保持原移动方向不变,以4-5mm/h的移动速度持续移动坩埚,使坩埚内晶体沿着固定方向持续凝固,放肩角为80—110度;<...

【专利技术属性】
技术研发人员:顾跃毛世平丁雨憧
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第二十六研究所
类型:发明
国别省市:重庆;50

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