【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离子化方法和试样支承体
本专利技术涉及离子化方法和试样支承体。
技术介绍
一直以来,在生物体试样等试样的质量分析中,已知用于将试样离子化的试样支承体(例如参照专利文献1)。这样的试样支承体具有基片,该基片形成有在彼此相对的第1表面和第2表面具有开口的多个贯通孔。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利第6093492号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题在上述的质量分析中,检测被离子化的试样(试样离子),基于其检测结果实施试样的质量分析。在这样的质量分析中,希望提高信号强度(灵敏度)。于是,本专利技术的目的在于提供一种能够提高检测试样离子时的信号强度的离子化方法和试样支承体。用于解决问题的技术方案本专利技术的第1方面的离子化方法包括:第1步骤,准备具有基片和导电层的试样支承体,其中,基片形成有多个贯通孔,多个贯通孔在基片的彼此相对的第1表面和第2表面具有开口,导电层至少设置于第1表面且对水的亲和性比第2表面低;第2步骤,在试样支承体以第2表面相比于第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,对第2表面滴下含有试样的溶液;第3步骤,在试样支承体以第2表面相比于第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,使试样的成分从第2表面侧向多个贯通孔内移动,并且使移动到多个贯通孔内的试样的成分干燥;和第4步骤,通过一边对导电层施加电压一边对第1表面照射能量线,来将试样的成分离子化。第1方面的离子化方法中,在试样支承体以第2表面相比于第1表面位 ...
【技术保护点】
1.一种离子化方法,其特征在于,包括:/n第1步骤,准备具有基片和导电层的试样支承体,其中,所述基片形成有多个贯通孔,所述多个贯通孔在所述基片的彼此相对的第1表面和第2表面具有开口,所述导电层至少设置于所述第1表面且对水的亲和性比所述第2表面低;/n第2步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,对所述第2表面滴下含有试样的溶液;/n第3步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,使所述试样的成分从所述第2表面侧向所述多个贯通孔内移动,并且使移动到所述多个贯通孔内的所述试样的成分干燥;和/n第4步骤,通过一边对所述导电层施加电压一边对所述第1表面照射能量线,来将所述试样的成分离子化。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180209 JP 2018-0219021.一种离子化方法,其特征在于,包括:
第1步骤,准备具有基片和导电层的试样支承体,其中,所述基片形成有多个贯通孔,所述多个贯通孔在所述基片的彼此相对的第1表面和第2表面具有开口,所述导电层至少设置于所述第1表面且对水的亲和性比所述第2表面低;
第2步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,对所述第2表面滴下含有试样的溶液;
第3步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,使所述试样的成分从所述第2表面侧向所述多个贯通孔内移动,并且使移动到所述多个贯通孔内的所述试样的成分干燥;和
第4步骤,通过一边对所述导电层施加电压一边对所述第1表面照射能量线,来将所述试样的成分离子化。
2.如权利要求1所述的离子化方法,其特征在于:
在所述第1步骤中,准备在所述第2表面和所述贯通孔的包含所述第2表面侧的缘部的部分的内表面设置有亲水性的覆盖层的所述试样支承体。
3.如权利要求1或2所述的离子化方法,其特征在于:
在所述第1步骤中,准备在所述导电层的与所述基片相反侧的表面设置有对水的亲和性比所述导电层低的疏水性的覆盖层的所述试样支承体。
4.一种离子化方法,其特征在于,包括:
第1步骤,其准备具有基片的试样支承体,其中,所述基片具有导电性且形成有多个贯通孔,所述多个贯通孔在所述基片的彼此相对的第1表面和第2表面具有开口,所述试样支承体的所述第1表面侧的面与所述第2表面侧的面相比对水的亲和性低;
第2步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,对所述第2表面滴下含有试样的溶液;
第3步骤,在所述试样支承体以所述第2表面相比于所述第1表面位于上侧的方式被支承的状态下,使所述试样的成分从所述第2表面侧向所述多个贯通孔内移动,并且使移动到所述多个贯通孔内的所述试样的成分干燥;和
第4步骤,通过一边对所述基片施加电压一边对所述第1表面照射能量线,来将所述试样的成分离子化。
5.如权利要求4所述的离子化方法,其特征在于:
在所述第1步骤中,准备在所述第2表面和所述贯通孔的包含所述第2表面侧的缘部的部分的内表面设置有亲水性的覆盖层的所述试样支承体。
6.权利要求4或5所述的离子化方法,其特征在于:
在所述第1步骤中...
【专利技术属性】
技术研发人员:小谷政弘,大村孝幸,
申请(专利权)人:浜松光子学株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。