四氮杂卟啉化合物制造技术

技术编号:25195890 阅读:21 留言:0更新日期:2020-08-07 21:21
下述通式(1)所示的结构的四氮杂卟啉化合物。(在通式(1)中,R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】四氮杂卟啉化合物
本专利技术涉以及一种四氮杂卟啉化合物。
技术介绍
为了从照明装置、显示器装置等发出的光中滤除特定波长的光而使用光学滤波器。例如,公开了含有在550~620nm附近的波长区域具有吸收极大波长的四氮杂卟啉化合物的光学滤波器(例如,专利文献1、2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011-221456号公报专利文献2:日本特开2012-63629号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题近年来,作为光学滤波器,所滤除的光的波长特别狭窄、具有陡峭的吸收光谱的滤波器特别受到期待。通过使用具有陡峭的吸收光谱的滤波器,能够仅将成为色调模糊的原因的波长的光滤除而显示鲜艳的色调。专利文献1以及专利文献2中公开的四氮杂卟啉化合物是能够用于光学滤波器用途的化合物,但是其吸收光谱在吸收极大波长的长波长侧具有从表示吸收极大的峰到基线为止平缓地扩展的部分(在本说明书中称为山麓部分)。如果具有这样的山麓部分,则即使表示吸收极大波长的峰的部分的形状(前端部分的形状本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.下述通式(1)所示的结构的四氮杂卟啉化合物,其中,/n[化1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171227 JP 2017-2515251.下述通式(1)所示的结构的四氮杂卟啉化合物,其中,
[化1]



在通式(1)中,R101a~R101d以及R102a~R102d分别独立地表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,
X表示可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的芳烷基或下述通式(X1)~(X4)所示的基团,
[化2]



Y表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的芳烷基或下述通式(Y1)所示的基团,
[化3]



R201、R202分别独立地表示可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的二茂铁或可以具有取代基的芳氧基,
R301、R302分别独立地表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,
R401表示可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基或可以具有取代基的芳氧基,
R501~R503分别独立地表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基,
通式(X1)~(X4)以及通式(Y1)中的*表示与氧原子的键合部位。


2.根据权利要求1所述的化合物,其中,X表示可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基或所述通式(X1)~(X4)所示的基团,
Y表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基或所述通式(Y1)所示的基团,
R201、R202分别独立地表示可以具有取代基的烷基、可...

【专利技术属性】
技术研发人员:真锅阳介高石悠大家健一郎中山智博
申请(专利权)人:山田化学工业株式会社住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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