光学膜、柔性显示装置及树脂组合物制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光学膜、柔性显示装置及树脂组合物。本发明专利技术的课题为提供具有高的耐摩擦性及高的弹性模量的光学膜。本发明专利技术的解决手段为下述光学膜：其为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少一种树脂的光学膜，该光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的K的离子强度(I

【技术实现步骤摘要】
光学膜、柔性显示装置及树脂组合物
本专利技术涉及光学膜、柔性显示装置及树脂组合物。
技术介绍
目前，液晶显示装置、有机EL显示装置等图像显示装置在移动电话、智能手表这样的各种用途中被广泛利用。作为这样的图像显示装置的前面板，已使用了玻璃，但玻璃刚性非常强，容易破裂，因此难以作为例如柔性显示装置的前面板材料来利用。因此，作为代替玻璃的材料之一，研究了高分子材料的有效利用，例如正在研究使用聚酰亚胺系树脂的光学膜(例如专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2018-119132号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在制造包含光学膜的柔性显示装置时，进行向光学膜贴合保护膜的工序、将光学膜卷绕为卷状的工序、输送光学膜的工序等。在这些工序中，存在光学膜与保护膜及/或包装膜相互摩擦的情况，有时因摩擦而在光学膜的表面产生微细的损伤。另外，在将包含聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂等的光学膜用于柔性显示装置等时，存在因弯曲、与外部因素的接触而在光学膜中产生损伤、褶皱等缺陷的情况，从防止这些现象的观点考虑，也要求提高光学膜的弹性模量、提高耐冲击性。因此，本专利技术的课题在于提供具有高的耐摩擦性及高的弹性模量的光学膜。用于解决课题的手段为了解决上述课题，本申请的专利技术人着眼于树脂膜中包含的成分的种类和量，进行了深入研究。结果发现，当光学膜中的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的K的离子强度(IK)相对于CH3的离子强度(ICH3)的比例(IK/ICH3)为0.2以上时，令人惊讶地，容易提高光学膜的耐摩擦性及弹性模量，从而完成了本专利技术。即，本专利技术包括以下的优选方式。〔1〕光学膜，其为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少一种树脂的光学膜，该光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的K的离子强度(IK)相对于CH3的离子强度(ICH3)的比例(IK/ICH3)为0.2以上。〔2〕如上述〔1〕所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂为芳香族系树脂。〔3〕如上述〔1〕或〔2〕所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂中的来自芳香族系单体的结构单元相对于全部结构单元的比例为60摩尔％以上。〔4〕如上述〔1〕～〔3〕中任一项所述的光学膜，其厚度为10～100μm，全光线透过率为80％以上。〔5〕如上述〔1〕～〔4〕中任一项所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂的重均分子量为200,000以上。〔6〕如上述〔1〕～〔5〕中任一项所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂为聚酰胺酰亚胺树脂。〔7〕如上述〔1〕～〔6〕中任一项所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂包含来自对苯二甲酸的结构单元。〔8〕如上述〔1〕～〔7〕中任一项所述的光学膜，其弹性模量为5.0GPa以上。〔9〕如上述〔1〕～〔8〕中任一项所述的光学膜，其为用于柔性显示装置的前面板的膜。〔10〕柔性显示装置，其具备上述〔1〕～〔9〕中任一项所述的光学膜。〔11〕如上述〔10〕所述的柔性显示装置，其还具备触摸传感器。〔12〕如上述〔10〕或〔11〕所述的柔性显示装置，其还具备偏光板。〔13〕树脂组合物，其至少包含：选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少一种树脂；选自由含钾原子的化合物、钾及钾离子组成的组中的至少一种含钾成分；和溶剂。专利技术的效果本专利技术的光学膜具有高的耐摩擦性及高的弹性模量。附图说明[图1]为用于对摩擦性试验的试验方法进行说明的图。[图2]为用于对摩擦性试验的试验方法进行说明的图。[图3]为用于对摩擦性试验的试验方法进行说明的图。附图标记说明1光学膜2膜3光学膜试验试样31玻璃板32胶带33标记4膜试验试样41玻璃板421双面胶带422双面胶带51重物52测定台具体实施方式以下，对本专利技术的实施方式详细地进行说明。需要说明的是，本专利技术的范围并不限定于此处说明的实施方式，可以在不超出本专利技术的主旨的范围内进行各种变更。本专利技术的光学膜为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少一种树脂的光学膜，该光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法(TOF-SIMS)得到的K的离子强度(IK)相对于CH3的离子强度(ICH3)的比例(IK/ICH3)为0.2以上。本专利技术的光学膜中，K的离子强度(IK)相对于CH3的离子强度(ICH3)的比例(IK/ICH3)是利用飞行时间型二次离子质谱法(Time-of-FlightSecondaryIonMassSpectrometry：本说明书中，也称为“TOF-SIMS”)测定光学膜的CH3的离子强度(ICH3)及K的离子强度(IK)，并将IK除以ICH3，由此算出的。需要说明的是，本说明书中，关于利用飞行时间型二次离子质谱法测定的CH3的离子强度(ICH3)及K的离子强度(IK)，在测定数据中，将归属于CH3离子的峰的积分值作为CH3的离子强度(ICH3)，将归属于K离子的峰的积分值作为K的离子强度(IK)。TOF-SIMS为质谱法的一种，通过TOF-SIMS，能够以非常高的检测灵敏度得到试样的最外表面中存在的元素或分子种类，另外，也能够研究试样的最外表面中存在的元素或分子种类的分布。TOF-SIMS是在高真空中向试样照射离子束(一次离子)、并将从表面释放出的离子利用其飞行时间差进行质量分离的方法。照射一次离子时，带正或负的电荷的离子(二次离子)从试样表面释放出，由于越轻的离子越快地飞行、越重的离子越慢地飞行，因此，若对从二次离子产生起直至被检测出为止的时间(飞行时间)进行测定，则能够计算出产生的二次离子的质量。在基于TOF-SIMS的测定中，CH3离子在质量15.02u附近被检测出，K离子在质量38.96u附近被检测出。另外，这些离子是可在正(positive)离子分析和负(negative)离子分析的任一者中被检测出的离子。本专利技术中，K的离子强度(IK)相对于CH3的离子强度(ICH3)的比例(IK/ICH3)可以为在正离子分析中检测出的比例，也可以为在负离子分析中检测出的比例，上述比例中的至少一者的比例为0.2以上时，即满足本专利技术中的比例(IK/ICH3)为0.2以上这样的要件。从获得更高的检测灵敏度的观点考虑，优选为使用正离子分析的条件。就基于TOF-SIMS的测定而言，可以针对光学膜，使用飞行时间型二次离子质谱分析装置，在一次离子为Bi3++、一次离子的加速电压为25kV、照射离子电流为0.23pA、测定范围为200μm×200μm的条件下，利用正离子分析或负离子分析来实施。基于TOF-SIMS的测定可以按照例如实施例中记载的方法进行。针对光学膜的表面或截面的至少一部分测得的上述比例(IK/ICH3)在上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光学膜，其为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少一种树脂的光学膜，所述光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的K的离子强度(I

【技术特征摘要】
20190131 JP 2019-0159371.光学膜，其为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少一种树脂的光学膜，所述光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的K的离子强度(IK)相对于CH3的离子强度(ICH3)的比例(IK/ICH3)为0.2以上。


2.如权利要求1所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂为芳香族系树脂。


3.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂中的来自芳香族系单体的结构单元相对于全部结构单元的比例为60摩尔％以上。


4.如权利要求1～3中任一项所述的光学膜，其厚度为10～100μm，全光线透过率为80％以上。


5.如权利要求1～4中任一项所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂的重均分子量为200,000以上。

<...

【专利技术属性】
技术研发人员：西冈宏司，杉山纮子，有村孝，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP