一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩以及安装结构制造技术

本实用新型专利技术公开的一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩以及安装结构，包括设置在两端的安装法兰盘以及设置在两端的安装法兰盘之间的片体，所述片体沿环向均匀的布置有若干个，片体与其所围合成的圆形的径向呈夹角布置。本实用新型专利技术通过上述包含倾斜式片体的屏蔽罩结构来代替现有技术中表面光滑的圆柱形屏蔽罩，当溅射粒子打到片体上之后，由于其倾斜式的设计形式，可以避免低能量的溅射粒子反射到管件的表面形成涂层的一部分，保证只有没有经过反射的高能粒子打到管件的表面，提高涂层的结合力，提高涂层的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩以及安装结构
本技术涉及镀膜辅助设备领域，尤其涉及一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩以及安装结构。
技术介绍
PVD(物理气相沉积)技术，是在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术，PVD技术极具广阔应用前景并已得到广泛应用，如制备光伏薄膜电池、太阳选择性吸收涂层、减反射涂层、渐变膜等单层或者多层膜。在公开号为“CN209393407U”的技术专利说明书中公开了“一种金属内管涂镀支撑机构”，其结构如图1所示，包括底座1-1，底座1-1的两侧固定设置有左支撑架1-2与右支撑架1-3，左支撑架1-2与右支撑架1-3之间转动设置有转动主轴1-4，转动主轴1-4连接有驱动电机1-5，转动主轴1-4上固定设置有左固定盘1-6与右固定盘1-7，左固定盘1-6与右固定盘1-7对应设置有弹性固定装置1-8与连接插杆1-9，连接插杆1-9转动设置在右固定盘1-7上，待镀膜的管件1-10通过弹性固定装置1-8与连接插杆1-9进行固定，连接插杆1-9的右端固定有行星齿轮1-11，底座1-1上通过中间支架1-12固定设置有定齿轮1-13，定齿轮1-13同轴套装在转动主轴1-4的外侧，行星齿轮1-11与定齿轮1-13啮合设置，在工作的时候，转动主轴1-4转动，左固定盘1-6与右固定盘1-7随之带动管件1-10进行周向的转动，由于行星齿轮1-11与定齿轮1-13的啮合设置关系，使得管件1-10在进行周向转动的过程中也会进行自身的自转，实现均匀的涂镀效果，此外，在上述设备中，为了有效的阻挡靶材的交叉溅射，进一步提高薄膜质量，尤其是多层膜的成膜质量，在转动主轴1-4上套装有圆柱形屏蔽罩1-14，通过设置该圆柱形屏蔽罩1-14，但是由于该圆柱形屏蔽罩的表面为光滑结构，如果在镀膜的过程中，低能量的溅射粒子通过圆柱形屏蔽罩反射到管件的表面形成涂层的一部分，由于其能量不足，会导致涂层结合力弱，影响涂层的质量。
技术实现思路
本技术的目的在于避免现有技术的不足之处，提供一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩以及安装结构，从而有效解决现有技术中存在的不足之处。为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩，包括设置在两端的安装法兰盘以及设置在两端的安装法兰盘之间的片体，所述片体沿环向均匀的布置有若干个，片体与其所围合成的圆形的径向呈夹角布置。进一步，所述片体的两端与安装法兰盘可拆卸的连接。进一步，所述片体与安装法兰盘通过螺钉固定连接。进一步，所述安装法兰盘上配合片体设置有第一插槽。进一步，所述安装法兰盘上设置有安装孔。一种包括上述用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩的安装结构，包括转动主轴，转动主轴的两侧分别固定设置有左固定盘与右固定盘，两端的所述安装法兰盘分别通过螺钉安装在左固定盘与右固定盘的内侧。进一步，所述转动主轴在左固定盘与右固定盘之间固定设置有支撑盘，所述支撑盘上配合片体设置有第二插槽。本技术的上述技术方案具有以下有益效果：本技术通过上述包含倾斜式片体的屏蔽罩结构来代替现有技术中表面光滑的圆柱形屏蔽罩，当溅射粒子打到片体上之后，由于其倾斜式的设计形式，可以避免低能量的溅射粒子反射到管件的表面形成涂层的一部分，保证只有没有经过反射的高能粒子打到管件的表面，提高涂层的结合力，提高涂层的质量。附图说明图1为现有技术中辅助镀膜装置的结构示意图；图2为本技术实施例屏蔽罩的立体结构示意图；图3为图2的剖视图；图4为图2中A处的局部放大图；图5为本技术实施例屏蔽罩中安装法兰盘的立体结构示意图；图6为图5中B处的局部放大图；图7为本技术实施例屏蔽罩中片体的结构示意图；图8为本技术实施例安装结构的结构示意图一；图9为图8中C处的局部放大图；图10为图8中D处的局部放大图；图11为本技术实施例安装结构的结构示意图二；图12为图11中E处的局部放大图；图13为本技术实施例安装结构隐藏了片体的结构示意图；图14为图13中F处的局部放大图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不能用来限制本技术的范围。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。如图2-7所示，本实施例所述的一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩，包括设置在两端的安装法兰盘10以及设置在两端的安装法兰盘10之间的片体20，片体20沿环向均匀的布置有若干个，片体20与其所围合成的圆形的径向呈夹角布置，如图3所示，该夹角a的范围为20-50°。本技术通过上述包含倾斜式片体的屏蔽罩结构来代替现有技术中表面光滑的圆柱形屏蔽罩，当溅射粒子打到片体20上之后，由于其倾斜式的设计形式，可以避免低能量的溅射粒子反射到管件的表面形成涂层的一部分，保证只有没有经过反射的高能粒子打到管件的表面，提高涂层的结合力，提高涂层的质量。为了利于对片体20的清洗，将片体20的两端与安装法兰盘10可拆卸的连接。如图4所示，片体20与安装法兰盘10通过螺钉30固定连接，如图7所示，片体20的两端配合螺钉30设置有安装孔21。如图6所示，安装法兰盘10上配合片体20设置有第一插槽11。安装法兰盘10上设置有安装孔12。如图8-14所示，一种包括上述用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩的安装结构，包括转动主轴30，转动主轴30的两侧分别固定设置有左固定盘40与右固定盘50，关于转动主轴30如何具体的安装以及左固定盘40与右固定盘50上的其他结构，在公开号为“CN209393407U”的技术专利说明书中有详细的介绍，在此不再赘述，两端的安装法兰盘10分别通过螺钉安装在左固定盘40与右固定盘50的内侧。如图10、13、14所示，转动主轴30在左固定盘40与右固定盘50之间固定设置有支撑盘60，支撑盘60上配合片体20设置有第二插槽61，支撑盘60起到辅助支撑的作用。本实用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩，其特征在于：包括设置在两端的安装法兰盘以及设置在两端的安装法兰盘之间的片体，所述片体沿环向均匀的布置有若干个，片体与其所围合成的圆形的径向呈夹角布置。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩，其特征在于：包括设置在两端的安装法兰盘以及设置在两端的安装法兰盘之间的片体，所述片体沿环向均匀的布置有若干个，片体与其所围合成的圆形的径向呈夹角布置。


2.根据权利要求1所述的一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩，其特征在于：所述片体的两端与安装法兰盘可拆卸的连接。


3.根据权利要求2所述的一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩，其特征在于：所述片体与安装法兰盘通过螺钉固定连接。


4.根据权利要求3所述的一种用于磁控溅射镀膜工艺的屏蔽罩，其特征在于：所述安装法兰...

【专利技术属性】
技术研发人员：王鑫，曹明刚，孙青林，宋连义，安德吉，张磊，金作林，焦新宇，
申请(专利权)人：沧州天瑞星光热技术有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13