多调制投影中的相位调制器的时间建模制造技术

双调制投影系统(100)包括光源(102)、相位调制器(104)、幅度调制器(106)和具有时间光场模拟能力(114)的控制器(110)。相位调制器(104)在空间上对来自光源(102)的光场进行调制，以在幅度调制器(106)上生成中间图像。幅度调制器(106)在空间上对中间图像进行调制，以形成最终图像。控制器(110)对相位调制器(104)在相位调制器帧之间的转换期间的相位状态进行建模，并且生成中间图像在转换期间的光场模拟。控制器(110)利用光场模拟以比相位调制器(104)能够切换的速率更快的速率生成幅度驱动值集并将幅度驱动值集提供给幅度调制器(106)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多调制投影中的相位调制器的时间建模相关申请的交叉引用本申请要求于2017年12月22日提交的美国临时专利申请62/609,635以及于2018年4月12日提交的欧洲专利申请18166944.1的优先权的权益，这两份申请通过引用整体并入本文。
本专利技术总体涉及多调制投影系统，并且更具体地涉及用于提高多调制投影系统中的图像质量的系统和方法。
技术介绍
多调制投影系统是已知的。典型的系统使用两个(或更多个)幅度调制空间光调制器(SLM)来产生高动态范围图像。第一SLM(预调制器)在第二SLM(主调制器)上创建低分辨率图像。这两个图像在光学上相乘以创建非常高的对比度。在双调制投影系统中，通过阻挡在两个调制器中的光来实现图像的暗区域。然而，由于某些SLM只能衰减幅度，所以小图像部分的最大亮度与完整图像的最大亮度相同(即，漫反射白色)。另一方法利用光束调向而不是幅度调制以在第二SLM上生成低分辨率图像。使用光束调向SLM(例如，相位调制SLM，倾斜俯仰镜设备等)作为预调制器，将光调向至需要更大强度的位置，而不是导向光转储(ligh本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于生成光场模拟的方法，所述方法在用于控制投影系统的控制器中实施，所述方法包括：/n利用第一驱动值集来驱动相位调制空间光调制器(SLM)，以将所述相位调制SLM置于在第一时间处的第一相位状态；/n至少部分地基于所述相位调制SLM的所述第一相位状态来生成由所述相位调制SLM在所述第一时间处生成的光场的光场模拟；/n利用第二驱动值集来驱动所述相位调制SLM，所述第二驱动值集使得所述相位调制SLM进行从所述相位调制SLM的所述第一相位状态到所述相位调制SLM在第二时间处的第二相位状态的转换；/n至少部分地基于所述相位调制SLM的所述第二相位状态来生成由所述相位调制SLM在所述第二时间处生成的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180412 EP 18166944.1;20171222 US 62/609,6351.一种用于生成光场模拟的方法，所述方法在用于控制投影系统的控制器中实施，所述方法包括：
利用第一驱动值集来驱动相位调制空间光调制器(SLM)，以将所述相位调制SLM置于在第一时间处的第一相位状态；
至少部分地基于所述相位调制SLM的所述第一相位状态来生成由所述相位调制SLM在所述第一时间处生成的光场的光场模拟；
利用第二驱动值集来驱动所述相位调制SLM，所述第二驱动值集使得所述相位调制SLM进行从所述相位调制SLM的所述第一相位状态到所述相位调制SLM在第二时间处的第二相位状态的转换；
至少部分地基于所述相位调制SLM的所述第二相位状态来生成由所述相位调制SLM在所述第二时间处生成的光场的光场模拟；
通过生成转换函数来对所述相位调制SLM从所述第一相位状态到所述第二相位状态的所述转换进行建模并确定所述转换函数在所述第三时间处的值，所述转换函数指示时间和由所述相位调制SLM的像素赋予入射光场的相位延迟之间的关系；
至少部分地基于所述相位调制SLM的所述转换的所述模型来确定所述相位调制SLM在第三时间处的第三相位状态，所述第三时间在所述第一时间和所述第二时间之间发生；并且
至少部分地基于所述相位调制SLM的所述第三相位状态来生成由所述相位调制SLM在所述第三时间处生成的光场的光场模拟。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，对所述相位调制SLM从所述第一相位状态到所述第二相位状态的所述转换进行建模的所述步骤包括：至少部分地基于所述相位调制SLM的龄值来对所述相位调制SLM的所述转换进行建模。


3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，对所述相位调制SLM从所述第一相位状态到所述第二相位状态的所述转换进行建模的所述步骤包括：至少部分地基于所述相位调制SLM的所述第一相位状态和所述第二相位状态来对所述相位调制SLM的所述转换进行建模。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，对所述相位调制SLM从所述第一相位状态到所述第二相位状态的所述转换进行建模的所述步骤包括：至少部分地基于所述相位调制SLM的液晶层的物理特性来对所述相位调制SLM的所述转换进行建模。


5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中，
所述相位调制SLM包括多个像素；并且
对所述相位调制SLM从所述第一相位状态到所述第二相位状态的所述转换进行建模的所述步骤包括：以逐像素的方式对所述相位调制SLM的所述转换进行建模。


6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，
所述相位调制SLM包括多个像素；并且
对所述相位调制SLM从所述第一相位状态到所述第二相位状态的所述转换进行建模的所述步骤包括：至少部分地基于所述多个像素中的像素之间的串扰来对所述相位调制SLM的所述转换进行建模。


7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其中，对所述相位调制SLM从所述第一相位状态到所述第二相位状态的所述转换进行建模的所述步骤包括：至少部分地基于所述相位调制SLM的温度来对所述相位调制SLM的所述转换进行建模。
<...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·戴维斯，M·J·理查兹，B·利佩伊，J·P·佩蒂耶拉，C·J·奥利克，P·F·范凯塞尔，
申请(专利权)人：杜比实验室特许公司，
类型：发明
国别省市：美国;US