【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及配置在斐索型干涉仪装置的被测体和基准面之间的干涉仪装置用光量比调节滤光片及使用它的干涉仪装置还有光干涉测定方法，特别是涉及转换并测定金属表面等高反射率物体和玻璃表面等低反射率物体等光反射率相互区别很大的被测体时所使用的干涉仪装置用光量比调节滤光片。
技术介绍
一般已知在干涉仪装置中，从被测体发出的被检测光和从基准面发出的参照光被合成时，其光量差小时获得高对比度良好的干涉波信息，其范围是例如被检测光和参照光的光量比率为5～1/5左右。从而，在必须转换并顺次测定低反射率的被检测光和高反射率的被测体的状况下，采用与低反射面的被检测光的反射率大致同等地设定基准面的反射率，而高反射率的被测体测定时，在基准面和被检测面之间插入光衰减滤光片使被检测光衰减的方法。不过，这种方法，在测定平面状的被检测面时不存在问题，而在测定球面状被检测面时，由于很难在基准面和被检测面之间确保光衰减滤光片的插入空间和为了使从光衰减滤光片表面发出的反射光不会对测定造成不好影响而倾斜插入光衰减滤光片，因而存在被检测光上发生的像差损害测定精度的问题(参照美国专利公报4820049号公报(...
【技术保护点】
一种干涉仪装置用光量比调节滤光片，其自由插入脱离地配置在斐索型干涉仪装置的被测体和基准面之间，该斐索型干涉仪装置使从上述被测体发出的被检测光和从上述基准面发出的参照光发生干涉而获得该被测体的干涉波信息，其特征在于：在透明基板的上述被 测体对置面或上述基准面对置面中任意一方的面上附着设置多层膜结构的光量比调节膜，该光量比调节膜由至少一层光反射吸收层和至少一层电介体防止反射层从上述基准面看以该顺序层叠而成；该光量比调节膜的膜构成是：相对于从上述透明基板的上述基准面对 置面侧入射的入射光，反射其一部分、吸收剩余一部分后、再将其余下的光向上述被测体射出，...
【技术特征摘要】
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