【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】增强的镀镍工艺相关申请的交叉引用本专利申请要求于2019年11月6日提交的名称为“ENHANCEDNICKELPLATINGPROCESS”的美国专利申请16/676,344以及于2018年11月8日提交的名称为“ENHANCEDNICKELPLATINGPROCESS”的美国专利申请62/757,658的优先权和权益,这两个专利申请的全部内容以引用方式并入本文。
本专利技术整体涉及玻璃衬底特别是用于磁记录介质诸如硬盘驱动器中的衬底的化学镀镍。
技术介绍
化学镀镍(“ENP”)是用于在固体衬底的表面上沉积镍或镍合金层的工艺。该工艺通常涉及将衬底浸入含有镍离子的镀覆溶液的浴中。还原剂诸如水合次磷酸钠(NaPO2H2·H2O)与衬底的表面材料反应以沉积镍或镍合金。铝常常用作形成硬盘驱动器(HDD)盘片的衬底,并且在制造期间,此类铝衬底可使用化学镀镍用镍来镀覆。然而,常规铝衬底在0.6mm以下的厚度下具有不良刚度和平坦度,并且当由铝制成时,此类减小尺寸的HDD盘片可能遭受颤振(旋转期间的振动)。为了产生具有低颤振的厚度减小的盘片,此类HDD盘片可使用玻璃衬底来制造。用ENP在玻璃衬底上形成镍层(例如用于生产硬盘驱动器的盘)需要与使用铝衬底时不同的步骤。日本专利公布2000-163743中公开了这种工艺的一种替代形式,涉及将PdCl2溶液施加到硅烷化玻璃表面上,之后在200℃至350℃下进行热处理以使镍层退火到玻璃表面。美国专利公布20060210837提出类似的ENP工艺,该工艺涉及使用Pd
【技术保护点】
1.一种用于将镍或镍合金层镀覆到具有玻璃表面的衬底上的方法,依次包括以下步骤:/n(a)提供所述衬底;/n(b)使所述衬底的所述表面经受机械粗糙化以便形成粗糙化表面;/n(c)使所述衬底的所述粗糙化表面与氧化剂接触,由此提供具有共价键合的羟基的氧化表面;/n(d)使所述氧化表面与包含具有一个或多个硅醇基的硅烷化合物的溶液接触,其中所述溶液中的所述硅烷化合物与所述氧化表面的羟基残基反应并且通过硅醇键键合到所述玻璃表面,由此提供硅烷化玻璃表面;/n(e)使所述硅烷化玻璃表面与包含钯离子和锡离子的混合物的溶液(“Pd/Sn溶液”)接触,其中来自所述Pd/Sn溶液的钯沉积在所述硅烷化玻璃表面上,由此形成活化表面;/n(f)使所述活化表面与包含硝酸钠和草酸的促进剂溶液接触;/n(g)使所述衬底表面与具有介于20℃与30℃之间的温度的含镍离子溶液接触,以便执行镍化学预镀步骤;和/n(h)使所述衬底表面与具有介于40℃与80℃之间的温度的含镍离子溶液接触,由此在所述玻璃表面上形成镍或镍合金层。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181108 US 62/757,658;20191106 US 16/676,3441.一种用于将镍或镍合金层镀覆到具有玻璃表面的衬底上的方法,依次包括以下步骤:
(a)提供所述衬底;
(b)使所述衬底的所述表面经受机械粗糙化以便形成粗糙化表面;
(c)使所述衬底的所述粗糙化表面与氧化剂接触,由此提供具有共价键合的羟基的氧化表面;
(d)使所述氧化表面与包含具有一个或多个硅醇基的硅烷化合物的溶液接触,其中所述溶液中的所述硅烷化合物与所述氧化表面的羟基残基反应并且通过硅醇键键合到所述玻璃表面,由此提供硅烷化玻璃表面;
(e)使所述硅烷化玻璃表面与包含钯离子和锡离子的混合物的溶液(“Pd/Sn溶液”)接触,其中来自所述Pd/Sn溶液的钯沉积在所述硅烷化玻璃表面上,由此形成活化表面;
(f)使所述活化表面与包含硝酸钠和草酸的促进剂溶液接触;
(g)使所述衬底表面与具有介于20℃与30℃之间的温度的含镍离子溶液接触,以便执行镍化学预镀步骤;和
(h)使所述衬底表面与具有介于40℃与80℃之间的温度的含镍离子溶液接触,由此在所述玻璃表面上形成镍或镍合金层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述衬底由玻璃材料形成,并且所述玻璃表面为所述衬底的表面。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述玻璃材料为硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、无碱玻璃、硅铝酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃或铝硼硅酸盐玻璃。
4.根据权利要求2所述的方法,其中所述玻璃材料为无定形玻璃。
5.根据权利要求2所述的方法,其中所述玻璃材料为部分结晶的。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述使所述衬底的所述表面经受机械粗糙化的步骤包括向所述表面施加磨料。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述磨料为具有介于4μm与10μm之间的直...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·A·阿卜杜勒瓦迪,S·M·刘,S·L·林,
申请(专利权)人:西部数据技术公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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