激光装置和激光处理方法制造方法及图纸

根据本公开内容的一个实施方式的激光装置包括光源和反射型偏振器。光源使激光振荡。反射型偏振器设置在激光的光路上并且具有与激光的偏振方向一致的透射轴。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光装置和激光处理方法
本公开内容例如涉及一种修改或处理要被激光照射的物体的激光装置以及使用该激光装置的激光处理方法。
技术介绍
近年来，已经开发了包括包含热敏显色组合物和吸收红外线的光热转换剂的记录层的热敏记录介质。这种热敏记录介质允许通过利用光热转换效应以非接触状态将信息记录在记录层上。例如，已经开发了一种如专利文献1中所描述的能够应用具有不同波长的多种类型的激光的记录装置。引用列表专利文献专利文献1：日本未审专利申请公开第2004-249539号
技术实现思路
顺便提及，对于如上所述的热敏记录介质，要求提高记录速度和显示质量。期望开发一种能够提高激光利用效率的记录装置。期望提供一种能够提高激光利用效率的激光装置和激光处理方法。根据本公开内容的一个实施方式的激光装置包括光源和反射型偏振器。光源使激光振荡。反射型偏振器设置在激光的光路上并且具有与激光的偏振方向一致的透射轴。根据本公开内容的一个实施方式的激光处理方法包括：将来自光源的振荡激光通过透射轴与激光的偏振方向一致的反射型偏振器来照射被照射体。在根据本公开内容的一个实施方式的激光装置和激光处理方法中，在激光的光路上设置具有与激光的偏振方向一致的透射轴的反射型偏振器。这使得可以在被照射体和反射型偏振器之间多次反射激光。根据本公开内容的一个实施方式的激光装置和激光处理方法，由于在使激光振荡的光源与被照射体之间设置透射轴与激光的偏振方向一致的反射型偏振器，因此激光在反射型偏振器和被照射体之间被多次反射。因此，可以提高被照射体的激光利用效率。注意，必然不限于在此描述的效果，并且可以提供本公开内容中描述的任何效果。附图说明图1是用于说明根据本公开内容的第一实施方式的激光装置(记录装置)的主要部分的配置和记录方法的示例的示意图。图2是示出图1所示的激光装置的整体配置的示例的概括图。图3是用于说明根据本公开内容的第二实施方式的激光装置(记录装置)的主要部分的配置和记录方法的示例的示意图。图4是示出在使用λ/8板的情况下，入射光和出射光的波长与强度之间的关系的特性图。图5是示出在使用方解石的情况下，入射光和出射光的波长与强度之间的关系的特性图。图6是示出根据本公开内容的第三实施方式的激光装置(退火装置)的整体配置的示例的概括图。图7是示出根据本公开内容的第四实施方式的激光装置(处理装置)的整体配置的示例的概括图。图8A是示出第一应用例的外观的示例的透视图。图8B是示出第一应用例的外观的另一示例的透视图。图9A是示出第二应用例的外观(正面侧)的示例的透视图。图9B是示出第二应用例的外观(背面侧)的示例的透视图。图10A是示出第三应用例的外观的示例的透视图。图10B是示出第三应用例的外观的另一示例的透视图。图11是示出第四应用例的一个示例性配置的示例图。图12是示出在每一实验例1和2中，由记录层吸收的光的强度和IR反射率之间的关系的特性图。具体实施方式以下将参照附图详细描述本公开内容的一些实施方式。以下描述是本公开内容的一个具体示例，本公开内容不限于以下方式。此外，本公开内容的每个部件的布置、尺寸、尺寸比等不限于每个图中示出的那些。注意，描述的顺序如下。1.第一实施方式(在光源与被照射体之间设置反射型偏振器的示例)1-1.记录装置的配置1-2.在记录介质上记录的方法1-3.工作和效果2.第二实施方式(在反射型偏振器与被照射体之间进一步设置延迟器的示例)3.第三实施方式(退火装置)4.第四实施方式(处理装置)5.应用例6.实施例<1.第一实施方式>图1示意性地示出了根据本公开内容的第一实施方式的激光装置(记录装置1)的主要部分以及被照射体(记录介质2A)的配置。记录装置1通过使用例如半导体激光器(例如，半导体激光器111A；参照图2)作为光源11，并通过用来自半导体激光器111A的振荡激光(激光Li)照射记录介质2A，从而在记录介质2A上记录信息。在根据本实施方式的记录装置1的配置中，在来自光源11的振荡激光Li的光路上设置反射型偏振器12。(1-1.记录装置的配置)图2示出了记录装置1中包括的每个光学系统的整体配置的示例。根据本实施方式的记录装置1在包括例如包含呈现彼此具有不同波长的颜色的三层(记录层24M、24C和24Y)的记录层24上记录信息。根据本实施方式的记录装置1例如包括：作为光源11的三个光源11A、11B和11C；反射型偏振器12；光束整形透镜13；二向色镜14和15；以及聚光透镜16。光源11A、11B和11C分别包括例如一个或多个半导体激光器111A、111B和111C，并且每个半导体激光器111A、111B和111C设置在例如散热器112上。半导体激光器111A、111B和111C分别使彼此具有不同波长的激光Lia、激光Lib和激光Lic振荡。作为示例，半导体激光器111A例如使波长为915nm的激光Lia振荡。半导体激光器111B例如使波长为860nm的激光Lib振荡。半导体激光器111C例如使波长为760nm的激光Lic振荡。反射型偏振器12透射彼此正交的两种类型的偏振光中的一种并且反射另一种。例如，反射型偏振器12透射X偏振光并且反射Y偏振光。在本实施方式中，反射型偏振器12与记录介质2A相对，并且设置为使得透射轴与激光Lia、激光Lib和激光Lic的偏振方向一致。此外，优选地，反射型偏振器12被设置成大致垂直于激光Lia、激光Lib和激光Lic的每一者的光轴。这使得可以将由记录介质2A反射的激光Li有效地反射到记录介质2A。作为反射型偏振器12，例如可以使用线栅型偏振器(由Moxtek,Inc.制造)、反射型偏振膜(由3M公司制造)或类似者。光束整形透镜13将分别从半导体激光器111A、111B和111C发射的激光Lia、激光Lib和激光Lic整形为期望的形状，并且例如包括多个组合透镜。光束整形透镜13例如设置在各个半导体激光器111A、111B和111C的光轴上。二向色镜14和15具有选择性地反射预定波段的光并透射其他波段的光的特性。二向色镜14例如设置在从半导体激光器111A发出的激光Lia与从半导体激光器111B发出的激光Lib相交的位置处。二向色镜14反射激光Lib并透射激光Lia。二向色镜15例如设置在从半导体激光器111A发出的激光Lia与从半导体激光器111C发出的激光Lic相交的位置处。二向色镜15反射激光Lic并透射激光Lia和由二向色镜14反射的激光Lib。这使得激光Lia、激光Lib和激光Lic被多路复用并沿着同一方向行进。聚光透镜16使光聚集在期望的方向上或期望的位置上。已经穿过二向色镜15或者已经被二向色镜15反射的激光Lia、激光Lib和激光Lic穿过聚光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光装置，包括：/n光源，所述光源使激光振荡；和/n反射型偏振器，所述反射型偏振器设置在所述激光的光路上并且具有与所述激光的偏振方向一致的透射轴。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171220 JP 2017-2435451.一种激光装置，包括：
光源，所述光源使激光振荡；和
反射型偏振器，所述反射型偏振器设置在所述激光的光路上并且具有与所述激光的偏振方向一致的透射轴。


2.根据权利要求1所述的激光装置，其中所述反射型偏振器包括入射面，所述入射面被设置成与所述激光的光轴大致垂直。


3.根据权利要求1所述的激光装置，其中在从所述反射型偏振器射出的所述激光的前方设置有延迟器。


4.根据权利要求3所述的激光装...

【专利技术属性】
技术研发人员：星光成，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP