动体测定用干涉仪装置以及动体测定用光干涉测量方法制造方法及图纸

技术编号:2508811 阅读:123 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开一种动体测定用干涉仪装置以及动体测定用光干涉测量方法,所述干涉仪装置具备:同步信号生成部(43),其将瞬间的摄像期间设定为包含于摄像面(33)的受光容许期间内;AOM(13)和AOM驱动器(14),所述AOM用于使从半导体激光光源(11)出射的测定用光束,仅在该瞬间的摄像期间照射被检测体(7)。摄像机(32),根据在瞬间的摄像期间由摄像面(33)所受光的干涉光,得到载持了该瞬间的摄像期间的被检测体(7)的相位信息的干涉条纹图像信息。从而,能够对成为测定对象的部分顺次移动的那样的被检测体,进行光干涉测量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用以求出被检测面的形状或透明被检测体的折射率分布等相位信息的干涉仪装置以及光干涉测量方法,特别是,涉及用于对相对于干涉仪装置移动(除空间的位置变动或旋转运动等以外,还包含被检测面的变形或折射率分布的变化等)的被检测体进行光干涉测量的最佳。
技术介绍
以往,作为对伴随工作的被检测体进行光测量的器件,通常是用于对被检测体随着时间而产生的变形进行测定的波谱干涉仪装置,但是已经周知有以如下方式而设计的例子,即在莫尔条纹测定装置中,对所移动的被检测体间歇地进行频闪(strobo)照射而得到各照射时间的莫尔条纹图像。另外,已经提案了以如下方式设计的干涉仪装置其与周期运动的被检测体的运动周期相同步地,间歇地照射短脉冲光,并对由各照射所得到的反射光进行多重曝光,从而对被检测体的同一位置的干涉条纹图像进行摄像。〔专利文献1)特开2003-222508号公报〔专利文献2)特开昭59-105508号公报近年来,对在制造生产线中移动的被检测体,以在线(实时)状体进行光干涉测量的愿望正在逐渐升高。例如,在用于液晶显示器或等离子体显示器等的薄膜材(由PET或PEN等聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、无定型聚烯树脂、丙烯酸树脂等形成)的制造领域,希望能够实现如下方式即在以薄膜材料流动的方式而移动的制造生产线的规定位置中,每隔规定的时间间隔对由制造环境或制造条件所决定的膜厚不均进行在线测量,并将其测量结果反馈到制造条件等的控制。以往,作为对透明性高的薄膜状的被检测体的厚度不均等进行光干涉测量的方法,已知有记载于上述专利文献2的方法等,但是至今为止的方法,均是假定进行离线测量的方法,并非构成为以对移动的被检测体进行光干涉测量。另外,上述专利文献1所记载的方法,是以保持周期性地而反复运动的被检测体为对象的方法,存在如下问题即由于诸如上述的薄膜材料之类的成为测定对象的部分顺次移动,因此不适用于对同一位置多次摄像困难的被检测体。
技术实现思路
本专利技术针对这类情形而提出的,其目的为提供一种能够对成为测定对象的部分顺次移动的被检测体进行光干涉测量的。为了解决上述课题,在本专利技术中,设计为仅在设定于摄像面的受光容许期间内的瞬间的摄像期间向摄像面入射干涉光,并得到载持了瞬间的摄像期间的被检测体的相位信息的干涉条纹图像信息。也就是说,本专利技术所涉及的动体测定用干涉仪装置,对移动的被检测体进行光干涉测量,其特征在于,具备光束输出机构,其输出测定用光束;干涉光学系统,其对相对于该干涉仪装置而移动的所述被检测体照射所述测定用光束,使由该被检测体所反射的反射被检测光或透过该被检测体的透过被检测光,与基准光干涉而得到干涉光;摄像机构,其通过用摄像面受光所述干涉光而得到图像信息;和摄像定时控制机构,其将可视为所述被检测体相对于该干涉仪装置大致静止的瞬间的摄像期间,设定为包含于所述摄像面的受光容许期间内,并以仅在该瞬间的摄像期间将所述干涉光入射到所述摄像面的方式进行控制;其中所述摄像机构,以如下方式构成,即根据在所述瞬间的摄像期间由所述摄像面所受光的所述干涉光,得到载持了该瞬间的摄像期间的所述被检测体的相位信息的干涉条纹图像。在本专利技术的动体测定用干涉仪装置中,摄像定时控制机构,能够设计为以如下方式构成的器件即仅在所述瞬间的摄像期间向被检测体照射测定用光束,并切换测定用光束的出射方向,该情况下,优选为具备利用声音光学效应而对所述测定用光束的出射方向进行切换的光偏转机构。另外,优选所述瞬间的摄像期间被设为,该瞬间的摄像期间中的被检测体的移动量在所述摄像面上与该摄像面的像素尺寸的二分之一以下相当的期间。另外,本专利技术的动体测定用干涉仪装置,可以具备配置于测定用光束的光路上的透过型基准板,并以如下方式构成即在该基准板的基准面上,将入射到该基准面的所述测定用光束分离为逆向反射而成为基准光的光束,以及透过而照射被检测体的光束;此时,在被检测体相对于所述测定用光束具有透明性的情况下,优选具备以夹持所述被检测体并与所述透过型基准板大致相面对(对向)的方式而配置的反射板,并构成为在该反射板的反射面,将透过被检测体而入射的测定用光束,向着透过型基准板而反射。另外,此时对透过型基准板的基准面,设置光量比调整膜,该光量比调整膜从所述基准板观察,依次层叠至少一层的光反射吸收层和至少一层的电介质反射防止层而成,并具有如下功能即对从所述基准面侧入射的所述测定用光束反射其一部分,将剩余的其中一部分吸收后将其余的部分向所述被检测体射出;同时还具有如下功能即对于从所述被检测体侧入射的、来自所述反射板的返回光,一方面将其一部分吸收,并抑制反射,将剩余的作为所述透过被检测光而出射到所述基准面的方向,而在反射板的反射面上,设有对测定用光束的反射率高的高反射膜。另一方面,也可以作为这种方式的替代,而设计为,在所述透过型基准板的所述基准面和所述被检测体之间插拨自如地配置光量比调整滤光片,在反射板的所述反射面,设有对所述测定用光束具有高反射率的反射膜,光量比调整滤光片,设有多层膜构造的光量比调整膜,所述光量比调整膜,是在透明基板的与所述被检测体相面对的面或与所述基准面相面对的面的任意一个面上,从所述基准面观察,依次层叠至少一层的光反射吸收层和至少一层的电介质反射防止层而成,该光量比调整膜设为具有如下功能的膜构成对于来自所述透明基板的与所述基准面相面对的面一侧的入射光,反射其一部分,将剩余的一部分吸收后将其余的部分向所述被检测体射出;同时具有如下功能对于从与所述被检测体相面对的面一侧入射的、来自被检测体的返回光,一方面将其一部分吸收,并抑制反射,将剩余的作为所述被检测光而出射到基准面方向。另外,本专利技术的动体测定用干涉仪装置,可以具备解析机构,其进行基于所述干涉条纹图像信息的条纹解析,并求出所述相位信息,此时,在规定时间内设定有多个所述瞬间的摄像期间的情况下,优选该解析机构被构成为,能够并行地处理得到分别基于各个在瞬间的摄像期间所得到的所述干涉条纹图像信息的各条纹解析。另外,该解析机构,可以通过傅里叶变换解析法进行条纹解析,此时,干涉光学系统,优选以在所述干涉光上叠加所述傅里叶变换解析法所需要的空间载波条纹的方式而被配置。另外,在所述被检测体具有互相大致平行而延伸的条纹图案的情况下,优选所述干涉光学系统,以所述空间载波条纹与所述条纹状图案大致垂直的方式而被配置,在所述被检测体具有光学各向异性的情况下,优选将所述测定用光束为直线偏振光,该直线偏振光的电场的振动方向,根据所述被检测体的光学轴的方向,被调整为抑制双折射的方向。另外,本专利技术所涉及的动体测定用光干涉测量方法,使用干涉仪装置,对移动的被检测体进行光干涉测量,其特征在于,进行如下步骤光束输出步骤,输出测定用光束;干涉光生成步骤,对相对于所述干涉仪装置而移动的所述被检测体照射所述测定用光束,使由该被检测体所反射的反射被检测光或透过该被检测体的透过被检测光,与基准光干涉而得到干涉光;摄像步骤,用摄像面受光所述干涉光而得到图像信息;摄像定时控制步骤,将可以视为所述被检测体相对于该干涉仪装置大致静止的瞬间的摄像期间,设定为包含于所述摄像面的受光容许期间内,并以仅在该瞬间的摄像期间将所述干涉光入射到所述摄像面的方式进行控制,并根据在所述瞬间的摄像期间由所述摄像面所本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种动体测定用干涉仪装置,对移动的被检测体进行光干涉测量,其中,具备:光束输出机构,其输出测定用光束;干涉光学系统,其对相对于该干涉仪装置而移动的所述被检测体照射所述测定用光束,使由该被检测体所反射的反射被检测光或透过该被检 测体的透过被检测光,与基准光干涉而得到干涉光;摄像机构,其通过用摄像面受光所述干涉光而得到图像信息;摄像定时控制机构,其将可视为所述被检测体相对于该干涉仪装置大致静止的瞬间的摄像期间,设定为包含于所述摄像面的受光容许期间内, 并以仅在该瞬间的摄像期间使所述干涉光入射到所述摄像面的方式进行控制,所述摄像机构,构成为:根据在所述瞬间的摄像期间由所述摄像面所受光的所述干涉光,得到载持了该瞬间的摄像期间的所述被检测体的相位信息的干涉条纹图像。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:植木伸明高桥秀典
申请(专利权)人:富士能株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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