大型平台变形量的光电测量方法技术

技术编号:2506534 阅读:180 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种大型平台变形量的光电测量方法,将若干个竖直布置于平台待测位置的CCD线阵图像传感器接收到的位置信息作为该点的相对高程信息输出到计算机;将某两个或三个CCD线阵图像传感器接收到的高程信息位置点作为基线或基准面,所有高程信息转变为标高输出值;将各种不同载荷条件、不同时刻的标高输出值数据进行比较,从而得到平台在各种不同载荷条件、不同时刻之间的相对变形量数据。本发明专利技术能够大大提高大型平台变形量的测量精度,并且测量速度快,自动化程度高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种测量方法,特别是一种实时监测大型平台变形量的测量方法。
技术介绍
本专利技术所述的平台是指对于变形量有特别关注的平台,特别是指变形量对其使用 性能具有较大影响的较为复杂的光学测试平台。当前对于各类平台变形量自动监测方法种类很多,有机械式、磁电式、光学式、 光电式等。机械式测量方法以各类卡尺的卡量方法为典型方法,磁电式测量方法是通 过磁电方法将位移量转换为电信号进行记录测量。用于线性测量中的光学方法主要有 两类(1)采用光波干涉或成像放大对小尺寸或小位移进行非常精密测量的全成像放 大方法;(2)使用带附件的对准望远镜和投影系统对大尺寸进行测量的局部放大方法。 而当前的光电式测量方法则主要是将待测对象进行图像采集后进行图像判读,得到待 测参数。机械式测量方法对于大尺度(数米以上尺度)以及某些不便接触或难以接触的对 象的测量将变得十分困难;磁电式测量方法对于大尺度测量对象由于难以找到测量基 准,致使平台变形量测量无法实现。光电式测量方法具有诸多优越之处,但是以往的 光电式测量方法主要是将CCD传感器作为图像传感器使用(至今业内仍习惯将CCD 传感器称之为CCD线阵图像本文档来自技高网...

【技术保护点】
大型平台变形量的光电测量方法,其特征在于包括下述步骤: (a)将若干个CCD线阵图像传感器作为测量标尺面向光源竖直布置于平台待测位置,将一字线激光器的水平一字激光束同时照射到各个CCD线阵图像传感器的像元阵列区域内,将各个CCD线阵图像传感器接收到的位置信息作为该点的相对高程信息输出到计算机中进行处理; (b)将平台上某两个CCD线阵图像传感器接收到的高程信息位置点的连线作为基线,所有CCD线阵图像传感器接收到的高程信息均采用线性坐标代换法,转变为与基线重合坐标的标高输出值; (c)将各种不同载荷条件、不同时刻的标高输出值数据进行比较,从而得到平台在各种不同载荷条件、不同时刻之间的相对变形量数...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:霍宏发李明蒋阳
申请(专利权)人:西北核技术研究所
类型:发明
国别省市:87[]

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