晶圆制造技术

本发明专利技术的晶圆具备：基板层；第1镜层，其具有二维配置的多个第1镜部；及第2镜层，其具有二维配置的多个第2镜部。在有效区域中，通过在第1镜部与第2镜部之间形成空隙，而构成多个法布里‑帕罗干涉滤光器部。在沿基板层的外缘且包围有效区域的虚设区域中，通过在第1镜部与第2镜部之间设置中间层，而构成多个虚设滤光器部。在多个法布里‑帕罗干涉滤光器部及多个虚设滤光器部的各个中，至少第2镜部被第1槽包围。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】晶圆
本公开涉及一种用以获得法布里-帕罗干涉滤光器的晶圆。
技术介绍
作为现有的法布里-帕罗干涉滤光器，已知有具备基板，及在基板上经由空隙互相相对的固定镜及可动镜者(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献[专利文献1]日本特表2013-506154号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]由于如上述的法布里-帕罗干涉滤光器为微细的构造体，故在制造法布里-帕罗干涉滤光器时，提高制造效率及良率的两者较困难。因此，本公开的目的在于提供一种可效率良好且良率良好地获得多个法布里-帕罗干涉滤光器的晶圆。[解决问题的技术手段]本公开的一方面的晶圆具备：基板层，其具有互相相对的第1表面及第2表面；第1镜层，其具有于第1表面二维配置的多个第1镜部；及第2镜层，其具有于第1镜层上二维配置的多个第2镜部，且于有效区域中，通过于互相相对的第1镜部与第2镜部之间形成空隙，而构成互相相对的第1镜部与第2镜部间的距离通过静电力而变化的多个法布里-帕罗干涉滤光器，在沿基板层的外缘且包围有效区域的虚设区域中，通过于互相相对的第1镜部与第2镜部之间设置中间层，而构成多个虚设滤光器部，多个法布里-帕罗干涉滤光器部及多个虚设滤光器部的各个中，至少第2镜部由在基板层的相反侧开口的第1槽包围。该晶圆中，成为多个法布里-帕罗干涉滤光器的多个法布里-帕罗干涉滤光器部设置于有效区域。另一方面，在沿基板层的外缘且包围有效区域的虚设区域，设有多个虚设滤光器部，在各虚设滤光器部中，在互相相对的第1镜部与第2镜部之间设有中间层。由此，充分确保晶圆整体的强度。因此，例如自晶圆切出多个法布里-帕罗干涉滤光器时的晶圆的处理变容易。假设在各虚设滤光器部，在互相相对的第1镜部与第2镜部间形成有空隙，则例如通过固持具固持晶圆的虚设区域时，有第2镜部破损，第2镜部的破片附着于法布里-帕罗干涉滤光器部，法布里-帕罗干涉滤光器部的外观、特性等劣化的担忧。该晶圆中，由于在各虚设滤光器部，在互相相对的第1镜部与第2镜部之间设有中间层，故抑制此种情况的发生。另外，各法布里-帕罗干涉滤光器部的至少第2镜部被第1槽包围。由此，自晶圆切出多个法布里-帕罗干涉滤光器时的良率提高。再者，各虚设滤光器部的至少第2镜部被第1槽包围。由此，虚设区域中的应力减弱，抑制晶圆的翘曲。由上，该晶圆可效率良好且良率良好地获得多个法布里-帕罗干涉滤光器。本公开的一方面的晶圆中，第1槽在有效区域及虚设区域中相连，且自第1镜部与第2镜部互相相对的方向观察的情形时，也可到达基板层的外缘。由此，可进而提高自晶圆切出多个法布里-帕罗干涉滤光器时的良率，且可更确实抑制晶圆的翘曲。本公开的一方面的晶圆进而具备设置于第2表面的应力调整层，在应力调整层，形成有在基板层的相反侧开口的第2槽，第2槽也可以对应于第1槽的方式形成。由此，可进而提高自晶圆切出多个法布里-帕罗干涉滤光器时的良率，且可更确实抑制晶圆的翘曲。本公开的一方面的晶圆中，多个法布里-帕罗干涉滤光器部及多个虚设滤光器部也可配置成自第1镜部与第2镜部互相相对的方向观察时相对于通过基板层的中心且互相正交的第1直线及第2直线的各个对称。由此，可更确实抑制晶圆整体的翘曲。也可为，在本公开的一方面的晶圆中，在基板层的内部，以对应于第1槽的方式形成改质区域。由此，使龟裂自改质区域向基板层的厚度方向伸展，可容易且精度良好地自晶圆切出多个法布里-帕罗干涉滤光器。也可为，本公开的一方面的晶圆进而具备贴附于基板层的第2表面侧的扩张带。由此，即使为在基板层的内部形成有改质区域的状态，也可容易处理晶圆。也可为，本公开的一方面的晶圆中，在虚设区域的一部分，通过至少将第2镜部的一部分除去，而构成镜除去部。由此，例如在对应于各法布里-帕罗干涉滤光器部的部分，在互相相对的第1镜部与第2镜部之间，通过蚀刻形成空隙，故在于第2镜部形成多个贯通孔的情形时，可通过在对应于镜除去部的部分，监视第2镜部的除去状态，从而能够在对应于各法布里-帕罗干涉滤光器部的部分，在第2镜部确实形成多个贯通孔。由此，晶圆成为具备在互相相对的第1镜部与第2镜部间切实地形成有空隙的多个法布里-帕罗干涉滤光器部的晶圆。也可为，在本公开的一方面的晶圆中，在镜除去部，至少第1镜部被第1槽包围。由此，由于在镜除去部中应力也减弱，故抑制晶圆的翘曲。本公开的一方面的晶圆中，镜除去部以在虚设区域中沿基板层的外缘的方式设有多个，第1槽在有效区域及虚设区域中相连，且自第1虚设部与第2虚设部互相相对的方向观察的情形时，也可到达基板层的外缘。由此，在多个法布里-帕罗干涉滤光器部的外侧配置多个虚设滤光器部，在多个虚设滤光器部的外侧配置多个镜除去部，进而第1槽也连接且到达基板层的外缘，故改善晶圆整体的应力平衡，更确实抑制晶圆的翘曲。[专利技术的效果]根据本公开，可提供一种可效率良好且良率良好地获得多个法布里-帕罗干涉滤光器的晶圆。附图说明图1为自一实施方式的晶圆切出的法布里-帕罗干涉滤光器的俯视图。图2为图1所示的法布里-帕罗干涉滤光器的仰视图。图3为沿图1所示的Ⅲ-Ⅲ线的法布里-帕罗干涉滤光器的剖视图。图4为自一实施方式的晶圆切出的虚设滤光器的剖视图。图5为一实施方式的晶圆的俯视图。图6为图5所示的晶圆的一部分的放大俯视图。图7为图5所示的晶圆的法布里-帕罗干涉滤光器部及虚设滤光器部的剖视图。图8为用以说明图5所示的晶圆的制造方法的剖视图。图9为用以说明图5所示的晶圆的制造方法的剖视图。图10为用以说明图5所示的晶圆的制造方法的剖视图。图11为用以说明图5所示的晶圆的制造方法的剖视图。图12为用以说明图5所示的晶圆的制造方法的剖视图。图13为用以说明图5所示的晶圆的制造方法的剖视图。图14为用以说明自图5所示的晶圆切出法布里-帕罗干涉滤光器的方法的剖视图。图15为用以说明自图5所示的晶圆切出法布里-帕罗干涉滤光器的方法的剖视图。图16为具备法布里-帕罗干涉滤光器的光检测装置的剖视图。图17为变形例的晶圆的俯视图。图18为用以说明图17所示的晶圆的制造方法的剖视图。图19为用以说明图17所示的晶圆的制造方法的剖视图。具体实施方式以下，参照图式，针对本公开的实施方式进行详细说明。再者，对各图中相同或相当部分附注相同符号，省略重复说明。[法布里-帕罗干涉滤光器及虚设滤光器的构成]在说明一实施方式的晶圆的构成之前，针对自该晶圆切出的法布里-帕罗干涉滤光器及虚设滤光器的构成进行说明。如图1、图2及图3所示，法布里-帕罗干涉滤光器1具备基板11。基板11具有互相相对的第1表面11a及第2表面11b。在第1表面11a，依序层叠有反射防止层21、第1层叠体22、中间层23及第2层叠体24。在第1层叠体22与第2层叠体24之间，通过框状本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆，其特征在于，/n具备：/n基板层，其具有互相相对的第1表面及第2表面；/n第1镜层，其具有在所述第1表面二维配置的多个第1镜部；及/n第2镜层，其具有在所述第1镜层上二维配置的多个第2镜部，/n在有效区域中，通过在互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间形成空隙，而构成互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部间的距离通过静电力而变化的多个法布里-帕罗干涉滤光器部，/n在沿所述基板层的外缘且包围所述有效区域的虚设区域中，通过在互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间设置中间层，而构成多个虚设滤光器部，/n所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部及所述多个虚设滤光器部的各个中，至少所述第2镜部由在所述基板层的相反侧开口的第1槽包围。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171124 JP 2017-2260851.一种晶圆，其特征在于，
具备：
基板层，其具有互相相对的第1表面及第2表面；
第1镜层，其具有在所述第1表面二维配置的多个第1镜部；及
第2镜层，其具有在所述第1镜层上二维配置的多个第2镜部，
在有效区域中，通过在互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间形成空隙，而构成互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部间的距离通过静电力而变化的多个法布里-帕罗干涉滤光器部，
在沿所述基板层的外缘且包围所述有效区域的虚设区域中，通过在互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间设置中间层，而构成多个虚设滤光器部，
所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部及所述多个虚设滤光器部的各个中，至少所述第2镜部由在所述基板层的相反侧开口的第1槽包围。


2.如权利要求1所述的晶圆，其中，
所述第1槽在所述有效区域及所述虚设区域中相连，且自所述第1镜部与所述第2镜部互相相对的方向观察的情况下到达所述基板层的所述外缘。


3.如权利要求1或2所述的晶圆，其中，
进一步具备应力调整层，其设置于所述第2表面，
在所述应力调整层，形成有在所述基板层的相反...

【专利技术属性】
技术研发人员：川合敏光，柴山胜己，笠原隆，广瀬真树，大山泰生，藏本有未，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP