布帛处理组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种通过对成为处理对象的布帛进行处理而能够提高清洗时的脏污的清洗性的布帛处理组合物和使用该布帛处理组合物的布帛的处理方法。一种布帛处理组合物，其含有在羟基烷基纤维素上键合有选自阳离子性基团和包含碳原子数4以上的烃基的疏水基团中的1种以上的羟基烷基纤维素(A)，表面活性剂(B)的含量相对于上述羟基烷基纤维素(A)1质量份为3.5质量份以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】布帛处理组合物
本专利技术涉及布帛处理组合物。
技术介绍
多糖衍生物被用于洗发水、护发素、润发乳、精华素等毛发清洗剂组合物、服装清洗剂组合物的配合成分，其用途多种多样。于日本特开2000-178303号公报(专利文献1)中，作为洗涤用柔顺剂，记载有经特定的烷基、羧甲基及阳离子基取代的多糖衍生物。于日本特开2015-168666号公报(专利文献2)中，记载有含有特定的表面活性剂、含阳离子性基团的纤维素醚及甘油醚的水性毛发清洗剂。于日本特表2013-529644号公报(专利文献3)中，公开有包含选自多糖类及含有阳离子性单体的合成聚合物中的特定的持续性聚合物的个人护理组合物添加剂。
技术实现思路
本专利技术涉及以下的<1>和<2>。<1>一种布帛处理组合物，其含有在羟基烷基纤维素上键合有选自阳离子性基团和包含碳原子数4以上的烃基的疏水基团中的1种以上的羟基烷基纤维素(A)，表面活性剂(B)的含量相对于上述羟基烷基纤维素(A)1质量份为3.5质量份以下。&l本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种布帛处理组合物，其含有在羟基烷基纤维素上键合有选自阳离子性基团和包含碳原子数4以上的烃基的疏水基团中的1种以上的羟基烷基纤维素A，表面活性剂B的含量相对于1质量份的所述羟基烷基纤维素A为3.5质量份以下。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171206 JP 2017-2347111.一种布帛处理组合物，其含有在羟基烷基纤维素上键合有选自阳离子性基团和包含碳原子数4以上的烃基的疏水基团中的1种以上的羟基烷基纤维素A，表面活性剂B的含量相对于1质量份的所述羟基烷基纤维素A为3.5质量份以下。


2.根据权利要求1所述的布帛处理组合物，其中，羟基烷基纤维素A在羟基烷基纤维素上键合有阳离子性基团和包含碳原子数4以上的烃基的疏水基团。


3.根据权利要求1或2所述的布帛处理组合物，其中，包含碳原子数4以上的烃基的疏水基团用下述式(1)表示，
＊-Z-R1(1)
式(1)中，Z表示单键、或者具有选自氧原子和氮原子中的至少1种的烃基；R1表示碳原子数4以上的烃基；*表示与从羟基烷基纤维素的羟基中去除氢原子后的基团键合的位置。


4.根据权利要求3所述的布帛处理组合物，其中，式(1)所示的疏水基团包含选自下述式(1-1-1)所示的疏水基团、式(1-1-2)所示的疏水基团、式(1-2-1)所示的疏水基团、式(1-2-2)所示的疏水基团、式(1-3)所示的疏水基团和式(1-4)所示的疏水基团中的至少1种，



式(1-1-1)～式(1-4)中，R11和R12各自独立地表示碳原子数2～4的亚烷基；R1与式(1)中的R1同义；*表示与从羟基烷基纤维素的羟基中去除氢原子后的基团键合的位置；n1表示-R11O-的加成摩尔数；n2表示-R12-O-的加成摩尔数；n1和n2为0以上且30以下的整数。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的布帛处理组合物，其中，阳离子性基团包含季铵阳离子。


6.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：山胁有希子，斋藤隆仪，伊森洋一郎，小山皓大，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP