多糖衍生物制造技术

技术编号:25004164 阅读:27 留言:0更新日期:2020-07-24 18:04
本发明专利技术涉及一种可提高衣物等的清洗性,并且可抑制清洗时的粉体污垢导致的再污染的多糖衍生物。本发明专利技术涉及一种多糖衍生物,其具有阳离子性基团以及碳数为2以上的烃基(R),且上述烃基(R)是直接、或通过具有氧原子的烃基而与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团键合,羟基烷基化多糖为羟基乙基化多糖或羟基丙基化多糖,上述羟基烷基化多糖的重均分子量为1万以上且74万以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多糖衍生物
本专利技术涉及一种多糖衍生物。现有技术多糖衍生物被用于清洗剂组合物等的调配成分,其用途广泛。例如,于日本特开2000-178303号公报(专利文献1)中,作为可用作洗衣用柔顺剂的剂,记载有多糖类或其衍生物的羟基的氢原子的一部分或全部经以下的基团(A)、(B)及(C)所取代的多糖衍生物。(A)可经羟基取代或可插入氧羰基(-COO-或-OCO-)或醚键的碳数10~43的直链或支链的烷基、烯基或酰基(B)羧甲基或其盐(C)特定的阳离子基团于日本特开2015-168666号公报(专利文献2)中,其课题在于提供一种即便为受损伤的毛发,清洗时以及冲洗时的毛发的顺滑性也优异,可对干燥后的毛发赋予湿润感的水性毛发清洗剂,记载有含有以下的成分(A)、(B)及(C)以及水,且用水稀释至20质量倍时的25℃下的pH值为2以上且6以下的水性毛发清洗剂。(A)阴离子表面活性剂(B)具有源自脱水葡萄糖的主链,每个该脱水葡萄糖单元的阳离子化氧亚烷基的取代度为0.01以上且1.0以下,甘油基的取代度为0.5以上且5.0以下,此外,含有碳数3以上且18以下的烃基的基团的取代度为0以上且0.2以下的含阳离子性基团的纤维素醚(C)具有碳数4以上且12以下的烷基或烯基的单烷基甘油醚或单烯基甘油醚于日本特表2013-529644号公报(专利文献3)中,公开有用以带来对角质表面的持续性效果的个人护理组合物添加剂,其包含:a)持续性聚合物以及b)水混合性的极性溶剂,且上述持续性聚合物及上述水混合性的极性溶剂相对于溶液的溶剂的持续性聚合物的浓度为约0.1质量%~约20质量%的范围,由尺寸排除色谱法所决定的上述持续性聚合物的分子量(Mw)为超过约50kDa且约800kDa以下的范围,上述持续性聚合物的阳离子取代度超过约0.001单元,上述持续性聚合物选自多糖类以及含有阳离子性单体的合成聚合物。于美国专利申请公开第2013/0130949号说明书(专利文献4)中,公开有将具有疏水性取代基以及阳离子性取代基或阴离子性取代基的热稳定性较高的高分子量的纤维素用于钻井剂等的粘度调整剂。
技术实现思路
本专利技术涉及以下的<1>及<2>。<1>一种多糖衍生物,其具有阳离子性基团以及碳数为2以上的烃基(R),且上述烃基(R)直接地、或通过具有氧原子的烃基而与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团键合,羟基烷基化多糖为羟基乙基化多糖或羟基丙基化多糖,上述羟基烷基化多糖的重均分子量为1万以上且74万以下。<2>一种如<1>所记载的多糖衍生物的制造方法,其于重均分子量为1万以上且74万以下的羟基烷基化多糖中导入碳数为2以上的烃基(R)后,与阳离子化剂反应。具体实施方式作为衣物用的清洗成分,要求可抑制皮脂污垢的牢固附着,于清洗时提高皮脂污垢的清洗性,并且抑制如碳的粉体污垢的再污染的清洗成分。然而,现有的剂无法发挥充分的性能。本专利技术涉及一种可提高清洗时的皮脂污垢的清洗性,并且可抑制清洗时的粉体污垢导致的再污染的多糖衍生物。本专利技术者等人发现:通过特定的多糖衍生物而解决上述的课题。根据本专利技术,提供一种可于清洗时提高皮脂污垢的清洗性能,并且可抑制清洗时的粉体污垢导致的再污染的多糖衍生物。于以下的说明中,所谓“清洗性能”,意指使于穿衣时等使用时抑制皮脂污垢的牢固附着,于清洗时去除皮脂污垢的性能提升的性能,所谓“防止再污染性能”,意指抑制清洗时的粉体污垢导致的再污染的性能。[多糖衍生物]本专利技术的多糖衍生物具有阳离子性基团以及碳数为2以上的烃基(R)(以下,也简称为“烃基(R)”),且上述烃基(R)直接、或通过具有氧原子的烃基而与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团键合,羟基烷基化多糖为羟基乙基化多糖或羟基丙基化多糖,上述羟基烷基化多糖的重均分子量为1万以上且74万以下。本专利技术者等人发现:通过将包含本专利技术的多糖衍生物的清洗剂组合物等用于处理衣物等布帛,而抑制皮脂污垢的附着,并且抑制清洗时的粉体污垢导致的再污染。其详细的作用机构尚不明确,但一部分如下般推测。本专利技术的多糖衍生物通过具有阳离子性基团,在与疏水性纤维具有的阴离子性基团的静电相互作用或于阴离子性表面活性剂的存在下将衣物等进行处理的情形时,通过与吸附于布帛表面的阴离子性表面活性剂的静电相互作用等,多糖衍生物吸附于布帛表面。进而,本专利技术的多糖衍生物通过具有碳数为2以上的烃基(R),尤其于布帛为疏水性的情形时,通过疏水性的相互作用而吸附于布帛表面。如此,通过具有阳离子性基团与烃基(R),而对布帛的吸附性提高。认为通过本专利技术的多糖衍生物吸附于布帛表面,而使由疏水性纤维所形成的布帛表面亲水化,并且拒油性提高。由此,推测皮脂污垢的牢固的附着得到抑制。通过本专利技术的多糖衍生物的重均分子量为特定量以下,而对粉体污垢的再污染也得到抑制,推测其原因在于:本专利技术的多糖衍生物更均匀地吸附于纤维表面,故而多糖衍生物具有的阳离子性基团非定域化,该阳离子性基团容易与纤维具有的阴离子性基团产生静电作用,而不参与静电作用的自由的阳离子性基团减少,从而降低与带负电荷的粉体的相互作用。再者,本专利技术的多糖衍生物对由疏水性纤维所形成的布帛尤其有效,但并不限定于此。此外,优选为于阴离子性表面活性剂的存在下对布帛进行处理,但并不限定于此,确认即便于阴离子性表面活性剂的非存在下,也对布帛显示吸附性。<羟基烷基化多糖>本专利技术的多糖衍生物是阳离子性基团及烃基(R)键合于重均分子量为1万以上且74万以下的羟基烷基化多糖。此外,羟基烷基化多糖为羟基乙基化多糖或羟基丙基化多糖。再者,所谓羟基烷基化指单羟基烷基化。作为本专利技术中所使用的羟基烷基化多糖,可列举:于纤维素、瓜尔胶、淀粉等多糖、或于这些之中导入有甲基等取代基的多糖中,进而具有选自羟基乙基及羟基丙基中的至少一个。作为羟基烷基化多糖的例子,可列举:羟基乙基纤维素、羟基乙基瓜尔胶、羟基乙基淀粉、羟基丙基纤维素、羟基丙基瓜尔胶、羟基丙基淀粉、羟基乙基甲基纤维素、羟基乙基甲基瓜尔胶、羟基乙基甲基淀粉、羟基丙基甲基纤维素、羟基丙基甲基瓜尔胶、羟基丙基甲基淀粉等。多糖优选为纤维素或瓜尔胶,更优选为纤维素。羟基烷基化多糖优选为羟基乙基纤维素、羟基丙基纤维素,更优选为羟基乙基纤维素。(羟基烷基)于本专利技术中,羟基烷基化多糖于多糖中导入羟基烷基。该羟基烷基选自羟基乙基及羟基丙基中的至少一个,更优选为仅具有羟基乙基或羟基丙基,进而优选为仅具有羟基乙基。羟基烷基化多糖也可具有羟基乙基及羟基丙基两者,优选为仅具有任一者,更优选为仅具有羟基乙基。关于羟基烷基的取代度,就于水中的溶解性的观点而言,优选为0.1以上,更优选为0.5以上,进而优选为1以上,更进而优选为1.5以上。并且,就清洗性能的观点而言,优选为10以下,更优选为8以下,进而优选为5以下,更进而优选为3以下,更进而本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种多糖衍生物,其具有阳离子性基团以及碳数为2以上的烃基R,/n所述烃基R直接地、或通过具有氧原子的烃基而与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团键合,/n羟基烷基化多糖为羟基乙基化多糖或羟基丙基化多糖,所述羟基烷基化多糖的重均分子量为1万以上且74万以下。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171206 JP 2017-234703;20171206 JP 2017-2347061.一种多糖衍生物,其具有阳离子性基团以及碳数为2以上的烃基R,
所述烃基R直接地、或通过具有氧原子的烃基而与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团键合,
羟基烷基化多糖为羟基乙基化多糖或羟基丙基化多糖,所述羟基烷基化多糖的重均分子量为1万以上且74万以下。


2.如权利要求1所述的多糖衍生物,其中,阳离子性基团的取代度MSC为0.001以上且1以下。


3.如权利要求1或2所述的多糖衍生物,其中,烃基R的取代度MSR为0.001以上且1以下。


4.如权利要求1至3中任一项所述的多糖衍生物,其中,阳离子性基团的取代度MSC为0.001以上且0.5以下,且烃基R的取代度MSR为0.001以上且0.3以下。


5.如权利要求1至4中任一项所述的多糖衍生物,其中,阳离子性基团的取代度MSC为0.001以上且0.4以下,且烃基R的取代度MSR为0.001以上且0.1以下。


6.如权利要求1至5中任一项所述的多糖衍生物,其中,具有氧原子的烃基包含酯基和/或醚基。


7.如权利要求1至6中任一项所述的多糖衍生物,其中,烃基R通过式(1-1-1)至式(1-4)的任一项所表示的基团而与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团键合:



式(1-1-1)~式(1-4)中,R11及R12分别独立地表示碳数2~4的亚烷基,R表示碳数2以上的烃基,*表示与自羟基烷基化多糖的羟基中去掉氢原子而成的基团的键合位置,n1表示-R11O-的平均加成摩尔数,n2表示-R12-O-的平均加成摩尔数,n1及n2为0以上且30以下。


8.如权利要求1至7中任一项所述的多糖衍生物,其中,烃基R的碳数为4以上且22以下。


9.如权利要求1至8中任一项所述的多糖衍生物,其中,烃基R的碳数为4以上且16以下。...

【专利技术属性】
技术研发人员:小山皓大伊森洋一郎斋藤隆仪小林圣史矢野贵大
申请(专利权)人:花王株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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