金属有机化学气相沉积设备的尾气处理装置制造方法及图纸

一种金属有机化学气相沉积设备的尾气处理装置，该尾气处理装置包括：进气单元，其输入待处理的废气；吸收单元，其上设有排气口且与所述进气单元连接，所述吸收单元内设有用于吸收所述待处理的尾气的吸收液；监测单元，用于监测所述吸收单元中吸收液的参数并输出到监测单元中，所示参数包括pH值、ORP值和/或温度；以及控制单元，基于所述监测单元输出的包含参数值的信号来控制所述尾气处理装置中的伺服部件，从而调节所述吸收液的对应参数。本实用新型专利技术装置处理能力大大提升，最多可同时满足十数台MOCVD设备的尾气处理。负压采用文丘里及风机同时控制，负压范围广、精确度高。

【技术实现步骤摘要】
金属有机化学气相沉积设备的尾气处理装置
本技术属于废气处理
，具体涉及一种金属有机化学气相沉积设备的尾气处理装置。
技术介绍
近十几年来，随着化合物半导体技术的快速发展和相关电子、光电器件市场需求的迅猛增长，MOCVD技术获得了非常广泛的应用，例如：太阳能电池、激光器、光探测器、晶体管以及发光二极管等，极大地推动了微电子、光电子技术的发展。目前国内企业拥有的生产型MOCVD机台数量达数百台。其适用范围广泛，几乎可以生长所有化合物及合金半导体，适合于生长各种异质结构材料。具有以下独特优势：(1)能在较低的温度下制备高纯度的薄膜材料，减少了材料的热缺陷和本征杂质含量；(2)能达到原子级精度控制薄膜的厚度；(3)采用质量流量计易于控制化合物的组分和掺杂量；(4)通过气源的快速无死区切换，可灵活改变反应物的种类或比例，达到薄膜生长界面成分突变，实现界面陡峭；(5)能大面积、均匀、高重复性地完成薄膜生长，适用于工业化生产。MOCVD设备由于采用了有机金属和V族氢化物做为源，生长过程中通入V族气体(砷烷、磷烷)的一种或多种，III族金属有机气本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种尾气处理装置，其特征在于，包括：/n进气单元，其输入待处理的废气；/n吸收单元，其上设有排气口且与所述进气单元连接，所述吸收单元内设有用于吸收所述待处理的尾气的吸收液；/n监测单元，用于监测所述吸收单元中吸收液的参数并输出到监测单元中，所示参数包括pH值、ORP值和/或温度；以及/n控制单元，基于所述监测单元输出的包含参数值的信号来控制所述尾气处理装置中的伺服部件，从而调节所述吸收液的对应参数。/n

【技术特征摘要】
1.一种尾气处理装置，其特征在于，包括：
进气单元，其输入待处理的废气；
吸收单元，其上设有排气口且与所述进气单元连接，所述吸收单元内设有用于吸收所述待处理的尾气的吸收液；
监测单元，用于监测所述吸收单元中吸收液的参数并输出到监测单元中，所示参数包括pH值、ORP值和/或温度；以及
控制单元，基于所述监测单元输出的包含参数值的信号来控制所述尾气处理装置中的伺服部件，从而调节所述吸收液的对应参数。


2.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，
所述吸收单元包括若干个串联的吸收塔，吸收塔上设有吸收塔进口和吸收塔出口；
所述吸收塔进口设置在吸收塔的下部，所述吸收塔出口设置在吸收塔的上部；
所述吸收塔内的压力为1500-2500Pa。


3.根据权利要求2所述的尾气处理装置，其特征在于，
所述吸收塔顶部设有喷嘴，吸收塔底部设有填料和滤网；所述喷嘴用于喷淋吸收液；
所述喷嘴采用螺旋喷嘴；
所述填料包括带刺花环；
所述滤网目数为80-120目。


4.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，
所述监测单元包括设置在吸收单元上的监测探头；
所述监测探头包括pH计、ORP计和/或温度传感器；
所述pH计上设有自动温度补偿功能。


5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王曙，李华，杨东，吴慧哲，王伟明，
申请(专利权)人：江苏宜兴德融科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32