一种基于SU-8胶电解法制备纳米尺度电射流喷头的方法技术

本发明专利技术涉及纳米尺度电射流喷头制备，特别是涉及一种基于SU‑8胶电解法制备纳米尺度电射流喷头的方法。本发明专利技术采用SU‑8胶作为电射流喷针材料，通过不完全烘干、过曝光方式，为纳米裂纹的形成创造必要条件。以石墨烯直线为诱导图形，在高压电的电解作用下，在诱导图形下方形成一条线性、尺寸较均匀的纳米沟道。经过热压键合、紫外光刻、电极制造步骤后，形成最终的纳米尺度电射流喷头。

【技术实现步骤摘要】
一种基于SU-8胶电解法制备纳米尺度电射流喷头的方法
本专利技术涉及电射流打印喷针制备，特别是涉及一种利用SU-8胶电解法制备纳米尺度电射流喷针的方法。
技术介绍
直写方法是一种无需掩膜、模具或额外辅助设备的打印技术。其已经在样机开发、小批量生产、模型修复等领域展现出巨大的应用前景。直写方法目前主要包括熔融沉积快速成型、光固化成型、三维粉末粘接、选择性激光烧结、电射流打印等方法。在以上方法中，由于电射流打印是基于电液流体动力效应，即墨水受高压电场牵引作用，内部电荷集中于喷口弯液面处，进而引发电射流，结合打印平台的三维移动，可形成三维结构。实验已经证明，电射流直径可比喷针内径小2-3个数量级。因此，目前只有电射流打印能够实现纳米尺度精度打印。电射流打印的内在特性使得电射流具有如下优势。其一，电射流对打印材料具有极高的材料适应性。即相同打印分辨率下，电射流打印可使用更粗的打印喷头。其二，电射流打印成本更低。由于在相同直写线宽下，电射流打印所需的喷头尺寸更大，故电射流打印不易出现墨水堵塞、喷头制造困难等问题，使得电射流本身设备和打印成本更低。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于SU-8胶电解法制备纳米尺度电射流喷头的方法，其特征在于，包括以下步骤：/n一、纳米尺度电射流喷头的微米结构制造/n(1)在硅基底上旋涂一层厚度约20微米的SU-8胶光刻胶，旋涂速度为3000转/分钟，旋涂时间为30秒；对SU-8胶进行不完全前烘，前烘温度为70摄氏度，时间为4-5分钟；/n(2)将光刻掩膜板与SU-8胶基底进行对准，对SU-8胶进行过曝光，曝光时间为15分钟；将SU-8胶基底显影后(显影时间为4-5分钟)，可形成纳米尺度电射流喷头的微米结构；/n二、纳米尺度电射流喷头的纳米沟道制造/n(1)在电射流喷头上，利用8B铅笔勾画一条石墨烯直线，作为纳米裂纹诱导图形；采用...

【技术特征摘要】
1.一种基于SU-8胶电解法制备纳米尺度电射流喷头的方法，其特征在于，包括以下步骤：
一、纳米尺度电射流喷头的微米结构制造
(1)在硅基底上旋涂一层厚度约20微米的SU-8胶光刻胶，旋涂速度为3000转/分钟，旋涂时间为30秒；对SU-8胶进行不完全前烘，前烘温度为70摄氏度，时间为4-5分钟；
(2)将光刻掩膜板与SU-8胶基底进行对准，对SU-8胶进行过曝光，曝光时间为15分钟；将SU-8胶基底显影后(显影时间为4-5分钟)，可形成纳米尺度电射流喷头的微米结构；
二、纳米尺度电射流喷头的纳米沟道制造
(1)在电射流喷头上，利用8B铅笔勾画一条石墨烯直线，作为纳米裂纹诱导图形；采用银浆分别在石墨烯直线两端各固定一条导线；
(2)在导线两端施加高压电(2300-2500伏特/厘米)；利用酒精超声清洗后，诱导图形正...

【专利技术属性】
技术研发人员：殷志富，杨雪，贾炳强，胡伟，李露，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：发明
国别省市：吉林;22