一种门吸底座及其门吸制造技术

技术编号:24975359 阅读:31 留言:0更新日期:2020-07-21 15:41
本实用新型专利技术的门吸,包括相互配合的磁体座和所述门吸底座;所述磁体座包括磁体;所述门吸底座,用于被所述磁体吸引,包括:在上面的第一金属基片和在下面的第二金属基片,叠加固定以形成座体;所述第一金属基片设有第一通孔,所述第二金属基片设有第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔叠加形成一枢接空间和一通透空间;一活动金属片,包括枢转部和与所述枢转部连接的舌片部,所述舌片部穿设于所述通透空间,所述枢转部安置于所述枢接空间以抵靠所述第一金属基片进行转动;所述活动金属片可分离地与所述磁体连接。本实用新型专利技术的门吸便于加工。

【技术实现步骤摘要】
一种门吸底座及其门吸
本技术涉及一种门吸底座及其门吸。
技术介绍
目前,市场上出现一种隐藏式门吸,如图1和图2所示,包括用于安装于门上的磁铁固定座10和用于安装在地面上的底座20;底座20包括活动铁片21和定位基体22,活动铁片21枢接于定位基体22以使得活动铁片21能够相对于定位基体22而转动。当门往后移动至靠近墙壁时,磁铁固定座10内置的磁体11吸引活动铁片21,活动铁片21向上转动,但活动铁片21不能与定位基体22分离。这样,打开的门不容易被风吹动;需要关门时,只需要施加稍稍大于磁体11与活动铁片21之间吸引力的作用力,就能把门关上。这种隐藏式门吸由于结构简单,具有良好的实际效果,受到市场的欢迎。但是,现有技术之中的定位基体22是利用压铸工艺一体成型的,而定位基体22用于与活动铁片21配合的空间也是压铸成型的。为了零件装配尺寸的精密匹配和外形的美观,压铸成型后的定位基体22需要抛光打磨,定位基体22用于与活动铁片21枢接的枢接位置220的精细化处理显得费时费力。
技术实现思路
为了使得隐藏式门吸更容易进行精细化加工处理,本技术提供一种新型的门吸底座及其门吸。本技术的门吸底座,用于被磁体吸引,包括:在上面的第一金属基片和在下面的第二金属基片,叠加固定以形成座体;所述第一金属基片设有第一通孔,所述第二金属基片设有第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔叠加形成一枢接空间和一通透空间;一活动金属片,包括枢转部和与所述枢转部连接的舌片部,所述舌片部穿设于所述通透空间,所述枢转部安置于所述枢接空间以抵靠所述第一金属基片进行转动。本技术的门吸,包括相互配合的磁体座和所述门吸底座;相互配合的磁体座和所述门吸底座;所述磁体座包括磁体;所述门吸底座,用于被所述磁体吸引,包括:在上面的第一金属基片和在下面的第二金属基片,叠加固定以形成座体;所述第一金属基片设有第一通孔,所述第二金属基片设有第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔叠加形成一枢接空间和一通透空间;一活动金属片,包括枢转部和与所述枢转部连接的舌片部,所述舌片部穿设于所述通透空间,所述枢转部安置于所述枢接空间以抵靠所述第一金属基片进行转动;所述活动金属片可分离地与所述磁体连接。本技术的门吸底座及其门吸,采用预设有第一通孔的第一金属基片和预设有第二通孔的第二金属基片叠加固定以形成座体,使得活动金属片与座体用于相互配合的枢接空间和通透空间构成的复杂空间,能够通过叠加的第一通孔和第二通孔形成;相对于现有技术之中先压铸成型,再对座体与活动金属片的配合空间进行精细化处理,本技术的门吸底座及其门吸相当于先精细化处理部分组件,再将组件叠加固定,本技术采用了不同的工序,使得产品的加工得以简化,降低了加工成本。附图说明图1是现有技术的隐藏式门吸的磁铁固定座和底座配合的示意图;图2是图1所示的底座之活动铁片和定位基体装配的示意图;图3是本技术一种实施例的门吸底座之第一金属基片的正视图;图4是本技术一种实施例的门吸底座之第二金属基片的正视图;图5是图3所示的第一金属基片和图4所示的第二金属基片的叠加固定形成座体的正视图,第二通孔为透视状态;图6是图5所示的座体的立体图;图7是图5所示的座体的另一角度的立体图;图8是本技术一种实施例的活动金属片与图5所示的座体的装配图;图9是图8所示的活动金属片装配于座体的示意图;图10是图8所示的活动金属片装配于座体的另一个角度的示意图。附图标号说明10磁铁固定座11磁体20底座21活动铁片22定位基体220枢接位置30第一金属基片31第一通孔32第一实体40第二金属基片41第二通孔42第二实体43螺孔411横向部分412纵向部分311容置空间4110枢接空间50通透空间60活动金属片61枢接部62舌片部具体实施方式下面附图详细说明本技术的门吸的一种实施例。如图3所示的第一金属基片30,包括第一通孔31和第一实体32,所述第一通孔31整体大致呈现纵长形状。如图4所示的第二金属基片40,包括第二通孔41、第二实体42和螺孔43,所述第二通孔41整体大致呈现横向形状,包括横向部分411和纵向部分412;所述横向部分411在横向的宽度明显超过纵向部分412。所述第一金属基片30和所述第二金属基片40均呈现圆形,且两者直径相等。所述第一金属基片30和所述第二金属基片40叠加并固定形成座体,所述第一金属基片30和所述第二金属基片40的外边沿相互吻合,如图5和图6所示。如图5至图7所示,所述第一通孔31和所述第二通孔41相互叠加,此两空间的叠加形成三个区域:(1)所述第一通孔31和所述第二通孔41相互贯穿的空间(换而言之,是相互重合部分),定义为通透空间50,大致呈矩形;(2)所述第一通孔31和所述第二通孔41未相互贯穿(或者说未重合)的空间,且所述第一通孔31被所述第二实体42阻挡的空间(换而言之,所述第一通孔31超过与所述第二通孔41重合部分的空间),定义为容置空间311;(3)所述第一通孔31和所述第二通孔41未相互贯穿(或者说未重合)的空间,且所述第二通孔41被所述第一实体32阻挡的空间(换而言之,所述第二通孔41超过与所述第一通孔31重合部分的空间),定义为枢接空间4110。所述螺孔43亦与所述第一通孔31贯穿(或者说重合),以便于螺钉(未图示)穿过。如图5和图7所示,所述通透空间50的纵向边沿,除了与所述枢接空间4110对应位置,其余为所述第一实体32和所述第二实体42相互叠加形成且两者边界相互吻合。如图5所示图面,所述通透空间50的横向边沿分为前边沿和后边沿,所述前边沿(未标示)远离所述容置空间311,所述后边沿(未标示)靠近于所述容置空间311,所述前边沿为所述第一实体32和所述第二实体42相互叠加形成且两者边界相互吻合。此设计使得所述通透空间50的边沿在正视视角显得整齐美观。如图8所示的活动金属片60为本技术的一种门吸的组件。所述活动金属片60为冲压成型,整体呈现纵长形状,包括枢接部61和与枢接部61连接的舌片部62;所述枢接部61用于使得所述活动金属片60可以相对于所述座体进行转动,所述舌片部62为自由端。所述舌片部62的形状与所述容置空间311大致相匹配。所述枢接部61和所述舌片部62连接部位为稍微弯折,弯折程度与所述第二实体42的厚度相匹配。所述枢接部61的两侧相对于所述舌片部62的两侧为相对凸出。如图8,所述舌片部62从所述第二金属基片40向所述第一金属基片30的方向穿设。如图9和图10所示,所述舌片部62能够完全通过所述通透空间50,但所述枢接部61由于两侧凸出而不能穿过所述通透空间50,所述枢接部61被所述枢接空间4110收容,所述舌片部62被所述容置空间311收容。如图10所示,所述舌片部62能够相对于座体而转动。本实施例之中,所述第一金属基片30和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种门吸底座,用于被磁体吸引,其特征在于,包括:/n在上面的第一金属基片和在下面的第二金属基片,叠加固定以形成座体;/n所述第一金属基片设有第一通孔,所述第二金属基片设有第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔叠加形成一枢接空间和一通透空间;/n一活动金属片,包括枢转部和与所述枢转部连接的舌片部,所述舌片部穿设于所述通透空间,所述枢转部安置于所述枢接空间以抵靠所述第一金属基片进行转动。/n

【技术特征摘要】
1.一种门吸底座,用于被磁体吸引,其特征在于,包括:
在上面的第一金属基片和在下面的第二金属基片,叠加固定以形成座体;
所述第一金属基片设有第一通孔,所述第二金属基片设有第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔叠加形成一枢接空间和一通透空间;
一活动金属片,包括枢转部和与所述枢转部连接的舌片部,所述舌片部穿设于所述通透空间,所述枢转部安置于所述枢接空间以抵靠所述第一金属基片进行转动。


2.如权利要求1所述的门吸底座,其特征在于,所述第一通孔整体呈纵长形状,所述第二通孔整体呈横向形状,且所述第二通孔包括横向部分和纵向部分,所述横向部分超过与所述第一通孔重合部分的形成所述枢接空间,所述纵向部分与所述第一通孔重合部分的形成所述通透空间。


3.如权利要求1所述的门吸底座,其特征在于,所述第一通孔整体呈纵长形状,所述第二通孔整体呈横向形状,所述第一通孔超过与所述第二通孔重合部分的形成容置空间以容纳所述舌片部。


4.如权利要求1所述的门吸底座,其特征在于,所述第一金属基片和所述第二金属基片以焊接方式固...

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:广州市凯固五金装饰材料有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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