【技术实现步骤摘要】
发声器件
本申请属于电声转换领域，尤其涉及一种发声器件。
技术介绍
现有的发声器件一般包括盆架、以及分别固定于所述盆架上的磁路系统和振动系统，振动系统包括位于盆架上侧的上振膜和位于盆架下侧的下振膜，磁路系统位于上振膜和下振膜之间，下振膜的下侧空间、以及下振膜与上振膜之间的空间这两个空间被下振膜分割，在振动发声过程中，这两个空间之间会出现压差值过大，泄露不够，导致产品Q值、SPL等不达标。申请内容本申请的目的在于提供一种发声器件，旨在解决现有技术的发声器件中下振膜的下空间、以及下振膜与上振膜之间的空间这两个空间之间会出现压差值过大，泄露不够，导致产品Q值、SPL等不达标的问题。为解决上述技术问题，本申请是这样实现的，一种发声器件，包括盆架、以及固定于所述盆架上的磁路系统和振动系统，所述盆架包括盆架主体以及自所述盆架主体向所述磁路系统延伸的凸台，所述磁路系统固定于所述凸台，所述凸台上设有若干沿所述振动系统振动方向贯穿所述凸台的第一通孔。进一步地，所述磁路系统包括磁钢和磁碗，所述磁碗包括相对设置的第...
【技术保护点】
1.一种发声器件，包括盆架、以及固定于所述盆架上的磁路系统和振动系统，其特征在于，所述盆架包括盆架主体以及自所述盆架主体向所述磁路系统延伸的凸台，所述磁路系统固定于所述凸台，所述凸台上设有若干沿所述振动系统振动方向贯穿所述凸台的第一通孔。/n
【技术特征摘要】
1.一种发声器件，包括盆架、以及固定于所述盆架上的磁路系统和振动系统，其特征在于，所述盆架包括盆架主体以及自所述盆架主体向所述磁路系统延伸的凸台，所述磁路系统固定于所述凸台，所述凸台上设有若干沿所述振动系统振动方向贯穿所述凸台的第一通孔。
2.如权利要求1所述的发声器件，其特征在于，所述磁路系统包括磁钢和磁碗，所述磁碗包括相对设置的第一侧壁，以及连接所述第一侧壁的底壁，所述磁钢设置在所述底壁上，并与所述第一侧壁间隔设置形成第一磁间隙；所述第一侧壁与所述盆架的凸台连接。
3.如权利要求2所述的发声器件，其特征在于，所述凸台朝向所述磁路系统的侧面设置有凹槽，所述凹槽沿所述振动系统的振动方向贯穿所述凸台。
4.如权利要求2所述的发声器件，其特征在于，所述第一侧壁远离所述底壁的角设置有缺口，所述凸台朝向所述振动系统的振动方向凸伸有与所述缺口配合的凸起，所述第一侧壁通过所述缺口-凸起结构与所述盆架的凸台连接。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋威，邵涛，陶伟伟，
申请(专利权)人：瑞声科技新加坡有限公司，
类型：发明
国别省市：新加坡;SG
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。