【技术实现步骤摘要】
光谱仪、光学组件的定位结构及光学元件的定位结构
本申请是有关于一种定位结构,且特别是有关于一种光谱仪的定位结构。
技术介绍
光谱仪是一种用于分析物质之成份组成与特性的检测仪器。利用物质对光不同频段的反射、吸收或穿透等光学特性的差异,当光谱仪接收从此物质反射的光线或穿透此物质的光线之后,将复杂成分的光线分解成光谱线所排列成光谱。由于不同物质会显现对应其特性的光谱,所以得以辨认物质之成份组成与特性。由于光谱仪需要精确的光学系统才能有效地表现出光谱,因此从制造过程的公差,乃至于温差等使用环境的影响,都是在设计或制造光谱仪所必须要慎重考虑的因素。
技术实现思路
本申请提出一种光谱仪、光学组件的定位结构及光学元件的定位结构,能够较精确地组装定位,并能够减少制造公差对组装的影响。本申请提供一种光谱仪,包括多个光学组件、基板、至少一个第一定位销以及至少一个第二定位销。基板上设置有前述多个光学组件。光学组件与基板的其中之一具有第一定位圆孔与定位长孔,光学组件与基板的其中另一具有至少一个第二定位圆孔与至少一个第三定位圆孔。定位长孔的长轴延伸线穿过第一定位圆孔。第二定位圆孔与第一定位圆孔在位置上相对应,第三定位圆孔与定位长孔在位置上相对应。第一定位销适配且插置于第一定位圆孔与第二定位圆孔。第二定位销适配定位长孔的一短轴尺寸与第三定位圆孔,且插置于定位长孔与第三定位圆孔。在本申请的一实施例中,第一定位销与第二定位销的尺寸规格相同,且第一定位圆孔、第二定位圆孔与第三定位圆孔的内径以及短轴尺寸相同于第一 ...
【技术保护点】
1.一种光谱仪,其特征在于,包括:/n至少一个光学组件;/n基板,其上设置有至少一个所述光学组件,至少一个所述光学组件与所述基板的其中之一具有第一定位圆孔与定位长孔,且至少一个所述光学组件与所述基板的其中另一具有第二定位圆孔与第三定位圆孔,其中所述定位长孔的长轴延伸线穿过所述第一定位圆孔,所述第二定位圆孔与所述第一定位圆孔在位置上相对应,所述第三定位圆孔与所述定位长孔在位置上相对应;/n第一定位销,适配且插置于所述第一定位圆孔与所述第二定位圆孔;以及/n第二定位销,适配所述定位长孔的短轴尺寸与所述第三定位圆孔,且插置于所述定位长孔与所述第三定位圆孔。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种光谱仪,其特征在于,包括:
至少一个光学组件;
基板,其上设置有至少一个所述光学组件,至少一个所述光学组件与所述基板的其中之一具有第一定位圆孔与定位长孔,且至少一个所述光学组件与所述基板的其中另一具有第二定位圆孔与第三定位圆孔,其中所述定位长孔的长轴延伸线穿过所述第一定位圆孔,所述第二定位圆孔与所述第一定位圆孔在位置上相对应,所述第三定位圆孔与所述定位长孔在位置上相对应;
第一定位销,适配且插置于所述第一定位圆孔与所述第二定位圆孔;以及
第二定位销,适配所述定位长孔的短轴尺寸与所述第三定位圆孔,且插置于所述定位长孔与所述第三定位圆孔。
2.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位销与所述第二定位销的尺寸规格相同,且所述第一定位圆孔、所述第二定位圆孔与所述第三定位圆孔的内径以及所述短轴尺寸相同于所述第一定位销与该第二定位销的外径。
3.如权利要求2所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位圆孔与所述定位长孔的其中之一贯穿所述光学组件的基座。
4.如权利要求2所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位销突出所述基板的高度大于所述第二定位销突出所述基板的高度。
5.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位圆孔与所述定位长孔的中心连线平行所述光学组件的光学基准面。
6.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位圆孔与所述定位长孔的中心连线的投影位于所述光学组件的光学基准面。
7.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位圆孔位于所述光学组件的光学中心在所述基板或所述光学组件的基座的投影位置上。
8.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位圆孔与所述定位长孔的中心距离大于所述光学组件的基座长度的1/3。
9.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,还包括至少一个固定件,穿过且固定第一定位部与第二定位部的相对位置。
10.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位销与所述第二定位销的至少其中之一为螺销。
11.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位圆孔、所述定位长孔、所述第二定位圆孔与所述第三定位圆孔的至少其中之一的侧壁上具有容留固定胶的沟槽。
12.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述定位长孔具有矩形段以及两个半圆形段,其中所述矩形段连接于两个半圆形段之间,且所述矩形段在所述定位长孔宽度方向的尺寸与两个所述半圆形段的直径皆同为所述短轴尺寸。
13.如权利要求1所述的光谱仪,其特征在于,所述第一定位销与所述第二定位销为长方体或圆柱体。
技术研发人员:马为颀,张癸五,
申请(专利权)人:台湾超微光学股份有限公司,
类型:新型
国别省市:中国台湾;71
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