用于驱动电光调制器的设备制造技术

本发明专利技术涉及一种用于驱动电光调制器110的设备100。所述设备100包括分布式放大器101和分布式电流源102。所述分布式电流源102包括用于供电电压的DC输入103和与所述分布式放大器101连接的M个DC输出104，其中，M为大于等于1的自然数。所述分布式放大器101包括RF输入105、与所述电光调制器110连接的RF输出106以及与所述分布式电流源102的M个DC输出104连接的至少M个DC输入107。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于驱动电光调制器的设备
本专利技术涉及一种用于驱动电光调制器的设备。本专利技术还涉及一种系统，包括所述设备和所述电光调制器。该系统可以用于光发射机中。相应地，本专利技术还设想了一种分别采用该设备和系统的发射机。特别地，通过本专利技术的设备和系统，提高了电光调制器的性能，从而提高了发射机的性能。
技术介绍
用于高速光通信的发射机基本上如图7所示通过级联三个块实现。第一个块为数字源，第二个块为用于提高源提供的电信号的功率电平的驱动放大器，第三个块为将电信号转换为光纤中待传输的光信号的电光调制器。在大多数传统发射机中，(例如，作为电吸收调制激光器(electro-absorptionmodulatedlaser，简称EML)实现的)电光调制器需要DC电压。因此，特别感兴趣的是与输出DC耦合的驱动放大器，以避免驱动放大器和电光调制器之间使用偏置器，因为它们非常消耗面积且限制了集成能力。但是，通过电光调制器的标称DC电流通常不同于驱动放大器所需的DC电流。因此，驱动放大器必须能够吸收来自不直接与电光调制器连接的其他路径的DC电流是一个挑战。...

【技术保护点】
1.一种用于驱动电光调制器(110)的设备(100)，其特征在于，所述设备(100)包括：/n分布式放大器(101)和分布式电流源(102)；其中/n所述分布式电流源(102)包括用于供电电压的DC输入(103)和与分布式放大器(101)连接的M个DC输出(104)，其中，M为大于等于1的自然数；/n所述分布式放大器(101)包括射频(radio frequency，简称RF)输入(105)、与用于与所述电光调制器(110)连接的RF输出(106)以及与所述分布式电流源(102)的M个DC输出(104)连接的至少M个DC输入(107)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于驱动电光调制器(110)的设备(100)，其特征在于，所述设备(100)包括：
分布式放大器(101)和分布式电流源(102)；其中
所述分布式电流源(102)包括用于供电电压的DC输入(103)和与分布式放大器(101)连接的M个DC输出(104)，其中，M为大于等于1的自然数；
所述分布式放大器(101)包括射频(radiofrequency，简称RF)输入(105)、与用于与所述电光调制器(110)连接的RF输出(106)以及与所述分布式电流源(102)的M个DC输出(104)连接的至少M个DC输入(107)。


2.根据权利要求1所述的设备(100)，其特征在于：
所述分布式电流源(102)包括并联连接的M个DC电流源(300)，每个DC电流源(300)与所述DC输入(103)和所述M个DC输出(104)中的一个连接。


3.根据权利要求2所述的设备(100)，其特征在于：
所述M个DC电流源(300)为M个晶体管(400)；
每个晶体管(400)的输出端子与所述DC输入(103)连接，所述晶体管(400)的输入端子与所述M个DC输出(104)中的一个和所述晶体管(400)的控制端子连接。


4.根据权利要求3所述的设备(100)，其特征在于：
所述M个晶体管(400)为场效应晶体管或双极型晶体管。


5.根据权利要求3或4所述的设备(100)，其特征在于：
每个晶体管(400)的输入端子与所述晶体管(400)的控制端子直接连接。


6.根据权利要求3或4所述的设备(100)，其特征在于：
每个晶体管(400)的输入端子通过恒压源(500)与所述晶体管(400)的控制端子连接。


7.根据权利要求1至6中一项所述的设备(100)，其特征在于：
所述分布式放大器(101)至少包括另一个用...

【专利技术属性】
技术研发人员：安东尼奥·穆西奥，卢卡·皮亚宗，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44