反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种反射型空间光调制器，其具备：电光结晶，其具有输入光被输入的输入面和与输入面相对的背面；光输入输出部，其配置于电光结晶的输入面，且具有透射输入光的第一电极；光反射部，其包含包括多个第二电极的基板，且配置于电光结晶的背面侧；驱动电路，其对第一电极与多个第二电极之间施加电场，光输入输出部包含形成于输入面上的第一电荷注入抑制层，光反射部包含形成于背面上的第二电荷注入抑制层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置
本公开涉及反射型空间光调制器、光观察装置及光照射装置。
技术介绍
例如专利文献1及专利文献2公开有一种电光元件。该电光元件包含：基板、层叠于基板的铁电体的KTN(KTa1-xNbxO3)层、配置于KTN层的前面的透明电极、配置于KTN层的后面的金属电极。KTN根据温度采取四个结晶结构，为钙钛矿型的结晶结构时作为电光元件利用。这种KTN层形成于在金属电极上形成的晶种层上。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-89340号公报专利文献2：日本特开2014-89341号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题专利文献1及专利文献2中记载了，通过向晶种层中添加导电性物质，而对晶种层赋予导电性。在该情况下，金属电极与KTN层电连接，因此，能够对KTN层施加电场。但是，这种结构中，当相对于KTN层从金属电极注入电荷时，由于KTN结晶内的电子的动作，调制精度可能不稳定。特别是在阵列状地形成多个电光元件的金属电极的情况下，当对晶种层赋予导电性时，输入多个金属电极的电信号混合，调制精度可能不稳定。实施方式的目的在于，提供能够抑制输入多个电极的电信号混合，且使调制精度稳定的反射型空间光调制器、光照射装置及光观察装置。用于解决课题的方案一个方式提供一种反射型空间光调制器，调制输入光，且输出经调制的调制光，其中，具备：钙钛矿型电光结晶，其具有输入光被输入的输入面和与输入面相对的背面，且相对介电常数为1000以上；光输入输出部，其配置于电光结晶的输入面，且具有透射输入光的第一电极；光反射部，其包含配置有多个第二电极的基板，配置于电光结晶的背面侧，将输入光向光输入输出部反射；驱动电路，其对第一电极与多个第二电极之间施加电场，光输入输出部包含形成于输入面上的第一电荷注入抑制层，即通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从第一电极向电光结晶的注入的第一电荷注入抑制层，光反射部包含形成于背面上的第二电荷注入抑制层，即通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从多个第二电极向电光结晶的注入的第二电荷注入抑制层。另外，一个方式提供一种光观察装置，其具有：光源，其输出输入光；上述的反射型空间光调制器；光学系统，其向对象物照射从空间光调制器输出的调制光；光检测器，其检测从对象物输出的光。另外，一个方式提供一种光照射装置，其具有：光源，其输出输入光；上述的反射型空间光调制器；光学系统，其向对象物照射从空间光调制器输出的调制光。根据这种反射型空间光调制器、光照射装置及光观察装置，输入光透射光输入输出部并输入电光结晶的输入面。该输入光由配置于电光结晶的背面的光反射部反射，并可从光输入输出部输出。此时，在设置于光输入输出部的第一电极与设置于基板的多个第二电极之间输入电信号。由此，对相对介电常数高的电光结晶施加电场，可调制输入光。该反射型空间光调制器中，在电光结晶的输入面上形成非导电性的第一电荷注入抑制层，并且在电光结晶的背面上形成非导电性的第二电荷注入抑制层。由此，能够抑制电荷从第一电荷注入抑制层及第二电荷注入抑制层向电光结晶注入。特别是通过形成第二电荷注入抑制层，对多个第二电极的每个输入的电信号难以扩散，而抑制电信号彼此混合。因此，能够使调制精度稳定。另外，一个方式中，也可以是，光反射部还具备：多个第三电极，其形成于第二电荷注入抑制层的背面的相反侧的面，且与多个第二电极各自对应；多个凸点，其以多个第二电极与对应于多个第二电极的多个第三电极相互电连接的方式配置。该结构中，在对电光结晶施加电场的情况下，能够单独对多个第三电极施加电场。因此，能够抑制输入多个电极的电信号混合，使调制精度更稳定。另外，一个方式中，也可以是，基板包含配置有多个第二电极的像素区域和包围像素区域的周边区域，第二电荷注入抑制层具有与像素区域面对面的第一区域和包围第一区域的第二区域，第二区域中的电介质材料的含有率比第一区域中的电介质材料的含有率小。该结构中，第二区域能够通过比第一区域大的粘接力将基板固定于电光结晶的背面。由此，抑制基板从电光结晶脱落。另外，一个方式中，也可以是，第一区域与第二区域的边界从输入光的输入方向观察与像素区域与周边区域的边界一致。该结构中，能够使电光结晶与基板更牢固地接合。另外，一个方式中，也可以是，第一区域与第二区域的边界从输入光的输入方向观察位于比像素区域与周边区域的边界更靠外缘侧的位置。该结构中，能够在电光结晶与像素区域之间可靠地配置第一区域。另外，一个方式中，光输入输出部也可以还具备具有输入光被输入的第一面和作为第一面的相反侧的面的第二面的透明基板，第一电极也可以配置于透明基板的第二面。这样的空间光调制器中，即使在较薄地形成电光结晶的光轴方向的厚度的情况下，也能够利用透明基板保护电光结晶免受外部的冲击等。另外，一个方式中，也可以是，将电光结晶的相对介电常数设为εxtl，将电光结晶中的从输入面到背面的厚度设为dxtl，将第一电荷注入抑制层及所述第二电荷注入抑制层的厚度的合计设为dad，且将成为由驱动电路产生的施加电压的最大电压即Vsmax与为了将输入光仅以2π弧度进行相位调制或延迟调制而施加于电光结晶的电压即Vxtl的比的Vxtl/Vsmax设为Rs时，包含电介质材料的第一电荷注入抑制层及所述第二电荷注入抑制层的相对介电常数εad可通过式1表示。在该情况下，能够相对于电光结晶施加使输入光仅以2π弧度进行相位调制或延迟调制而充分的电压。【数1】另外，一个方式中，也可以是，第一电极形成于输入面的整个面。例如，在第一电极与多个第二电极对应地设置多个的情况下，第一电极与第二电极的位置对准困难。上述结构中，不需要进行第一电极与第二电极的位置对准。另外，一个方式中，也可以是，光反射部还包含以与多个第二电极相对的方式配置于电光结晶的背面的多个第三电极。根据该结构，能够利用多个第三电极防止作为电场线传递的电信号的扩散。另外，一个方式中，也可以是，光反射部中，利用多个第三电极反射输入光。另外，一个方式中，也可以是，光反射部中，利用多个第二电极反射输入光。根据这些结构，不需要在第二电极侧额外设置反射层等。另外，一个方式中，也可以是，电光结晶为KTa1-xNbxO3(0≦x≦1)结晶、K1-yLiyTa1-xNbxO3(0≦x≦1，0＜y＜1)结晶、或PLZT结晶。根据该结构，能够容易地实现相对介电常数高的电光结晶。另外，一个方式中，也可以是，还具备控制电光结晶的温度的温度控制元件。根据该结构，通过固定地保持电光结晶的温度，能够使调制精度更稳定。专利技术效果根据实施方式的反射型空间光调制器、光照射装置及光观察装置，能够抑制输入多个电极的电信号混合，并使调制精度稳定。附图说明图1是表示一实施方式的光观察装置的结构的块图。图2是表示图1的光观察装置中使用的空间光调制器的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反射型空间光调制器，其特征在于，/n是调制输入光且输出经调制的调制光的反射型空间光调制器，/n具备：/n钙钛矿型电光结晶，其具有所述输入光被输入的输入面和与所述输入面相对的背面，且相对介电常数为1000以上；/n光输入输出部，其配置于所述电光结晶的所述输入面，且具有透射所述输入光的第一电极；/n光反射部，其包含配置有多个第二电极的基板，并配置于所述电光结晶的所述背面且将所述输入光向所述光输入输出部反射；以及/n驱动电路，其对所述第一电极与所述多个第二电极之间施加电场，/n所述光输入输出部包含形成于所述输入面上的第一电荷注入抑制层，所述第一电荷注入抑制层通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从所述第一电极向所述电光结晶的注入，/n所述光反射部包含形成于所述背面上的第二电荷注入抑制层，所述第二电荷注入抑制层通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从所述多个第二电极向所述电光结晶的注入。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种反射型空间光调制器，其特征在于，
是调制输入光且输出经调制的调制光的反射型空间光调制器，
具备：
钙钛矿型电光结晶，其具有所述输入光被输入的输入面和与所述输入面相对的背面，且相对介电常数为1000以上；
光输入输出部，其配置于所述电光结晶的所述输入面，且具有透射所述输入光的第一电极；
光反射部，其包含配置有多个第二电极的基板，并配置于所述电光结晶的所述背面且将所述输入光向所述光输入输出部反射；以及
驱动电路，其对所述第一电极与所述多个第二电极之间施加电场，
所述光输入输出部包含形成于所述输入面上的第一电荷注入抑制层，所述第一电荷注入抑制层通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从所述第一电极向所述电光结晶的注入，
所述光反射部包含形成于所述背面上的第二电荷注入抑制层，所述第二电荷注入抑制层通过在非导电性的粘接材料的固化物中具有电介质材料，而抑制电荷从所述多个第二电极向所述电光结晶的注入。


2.根据权利要求1所述的反射型空间光调制器，其中，
所述光反射部还具备：
多个第三电极，其形成于所述第二电荷注入抑制层的所述背面的相反侧的面，且与所述多个第二电极各自对应；
多个凸点，其以所述多个第二电极与对应于所述多个第二电极的所述多个第三电极相互电连接的方式配置。


3.根据权利要求1所述的反射型空间光调制器，其中，
所述基板包含配置有所述多个第二电极的像素区域和包围所述像素区域的周边区域，
所述第二电荷注入抑制层具有与所述像素区域面对面的第一区域和包围所述第一区域的第二区域，
所述第二区域中的所述电介质材料的含有率比所述第一区域中的所述电介质材料的含有率小。


4.根据权利要求3所述的反射型空间光调制器，其中，
所述第一区域与所述第二区域的边界从所述输入光的输入方向观察与所述像素区域与所述周边区域的边界一致。


5.根据权利要求3所述的反射型空间光调制器，其中，
所述第一区域与所述第二区域的边界从所述输入光的输入方向观察位于比所述像素区域与所述周边区域的边界更靠外缘侧的位置。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的反射型空间光调制器，其中，
所述光输入输出部还具备具有所述输入光被输入的第一面和作为所述第一面的相反侧的面的第二面的透明基板，所述第一电极配置于所述透明基板的所述第二面。


7.根据权利要求1～6中...

【专利技术属性】
技术研发人员：泷泽国治，田中博，丰田晴义，大林宁，酒井宽人，渡边翼，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP