【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、液晶显示面板
本申请涉及显示
,尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板。
技术介绍
随着显示领域中高端机种的导入及客户的需求,对面板的可视角要求越来越严格。垂直取向模式(VerticalAlignment,VA)液晶显示面板中像素电极为平面设计,当观察者位于大视角范围时,由于VA液晶本身的性能影响,会造成侧视效果远差于正视效果。目前VA液晶显示面板中,像素电极采用多畴设计来取代单畴设计,以提升可视角要求。为了达到较佳的视角表现,在像素电极为四畴时,调低整个面板中部分像素的亮度,或者在像素电极为八畴时,调低每个像素中辅像素的亮度,但两种方法均会牺牲各个灰阶的穿透率表现,无法满足客户需求。因此,现有的液晶显示面板存在视角较小的技术问题,需要改进。
技术实现思路
本申请提供一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板,用于解决现有液晶显示面板中视角较小的技术问题。本申请提供一种阵列基板,包括:衬底;驱动电路层,形成在所述衬底一侧;像素电极层, ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:/n衬底;/n驱动电路层,形成在所述衬底一侧;/n像素电极层,形成在所述驱动电路层远离所述衬底的一侧,包括阵列分布且相互独立的多个像素电极,所述像素电极包括远离所述衬底一侧的电极表面;/n散光层,形成在所述像素电极层远离所述驱动电路层的一侧,包括阵列分布且相互连接的多个散光构件,所述散光构件与所述像素电极对应,所述散光构件包括远离所述像素电极一侧的出光面,所述出光面的面积大于所述电极表面的面积。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
衬底;
驱动电路层,形成在所述衬底一侧;
像素电极层,形成在所述驱动电路层远离所述衬底的一侧,包括阵列分布且相互独立的多个像素电极,所述像素电极包括远离所述衬底一侧的电极表面;
散光层,形成在所述像素电极层远离所述驱动电路层的一侧,包括阵列分布且相互连接的多个散光构件,所述散光构件与所述像素电极对应,所述散光构件包括远离所述像素电极一侧的出光面,所述出光面的面积大于所述电极表面的面积。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述散光层为透明材料。
3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述透明材料为正性光阻或负性光阻。
4.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述出光面为凸面。
5.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述出光面为凹面。
6.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述像素电极为平面结构或狭缝结构。
7.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:
提供衬底;
在所述衬底一侧制备驱动电路层;
在所述驱动电路层远离所述衬底的一侧制备像素电极层,所述像素电极层包括阵列分布且相互独立的多个像素电极,所述像素电极包括远离所述衬底一侧的电极表面;
在所述像素电极层远离所述驱动电路层的一侧制备散光层,所述散光层包括阵列分布且相互连接的多个散光构件,所述散光构件与所述像素电极对应,所述散光构件包括远离所述像素电极一侧的出光面,所述出光面的面积大于所述电极表面的面积。
8.如权利要求7所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,所述在所述像素电极层远离所述驱动电路层的一侧制备散光层,所述散光层包括阵列分布且相互连接的多个散光构件,所述散光构件与所述像素电极对应,所述散光构件包括远离所述像素电极一侧的出光面,所述出光面的面积大于所述电极表面的面积的步骤,包括:
在所述像素电极层远离所述驱动电路层的一侧涂布正性光阻;
通过掩膜版对所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:雍玮娜,
申请(专利权)人:TCL华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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