一种水槽及清洗设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种水槽及清洗设备，该水槽本体的外侧壁上设有与水槽本体转动配合的转轴，所述水槽本体上位于转轴所对应的位置设有供转轴的部分伸入至水槽本体内的缺口，所述转轴绕自身轴线转动的过程中所述转轴的外侧壁与缺口的内壁滑动配合，所述转轴的外侧壁上内切形成至少一个隐蔽平面，当所述隐蔽平面随转轴转动至缺口内时所述隐蔽平面与水槽本体的内壁齐平。本实用新型专利技术提供一种水槽，其不仅能够满足水槽功能多样化的需求而且不会对水槽的清洗带来的不便，同时也不会对水槽内大物件的装入和拿取造成阻碍。

【技术实现步骤摘要】
一种水槽及清洗设备
本技术涉及水槽
，更确切地说涉及一种水槽及清洗设备。
技术介绍
水槽是每个家庭厨房中不可缺少的部分，现有的水槽绝大多数只是一个普通的水槽，这种水槽通常设有一大一小两个用来清洗餐具、蔬菜的槽体，作用比较单一。而经常使用的切菜板、洗菜筐、沥水篮等则单独地放置在台面上，这样不仅占用了厨房较大的空间，使厨房显得凌乱，不整洁。现有的家用厨房中也有将水槽与清洗机、果蔬机等清洗设备集成的设计，例如现有的水槽式洗碗机，但是上述现有设计中的集成式清洗设备中的水槽的作用仍然是蓄水、清洗，因此还是存在水槽功能单一的问题。本申请人较早的申请中已然考虑到对于水槽的改进，例如授权公告号为CN209025151U的技术专利，其不仅具备常规水槽的作用，而且可以用于收纳切菜板，从而使得水槽功能多样化。但是申请人认为这一现有的水槽仍然存在着以下的不足：1)由于水槽的槽内壁上设置了档条，因此给予水槽内壁的清洁带来了不便；2)由于档条的阻隔，使得水槽槽口位置尺寸变窄，不利于大体积的厨具置于水槽中清洗，例如煎锅、锅盖、电饭煲内胆等。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是：提供一种水槽，其不仅能够满足水槽功能多样化的需求而且不会对水槽的清洗带来的不便，同时也不会对水槽内大物件的装入和拿取造成阻碍。本技术所采取的技术方案是：提供一种水槽，其特征在于：所述水槽本体的外侧壁上设有与水槽本体转动配合的转轴，所述水槽本体上位于转轴所对应的位置设有供转轴的部分伸入至水槽本体内的缺口，所述转轴绕自身轴线转动的过程中所述转轴的外侧壁与缺口的内壁滑动配合，所述转轴的外侧壁上内切形成至少一个隐蔽平面，当所述隐蔽平面随转轴转动至缺口内时所述隐蔽平面与水槽本体的内壁齐平。通过转轴的转动可以使得转轴外侧壁上不同的位置依序置于缺口内，当隐蔽平面位于缺口内时可以与水槽本体的内壁齐平从而使得水槽本体的内壁上的缺口被填平，方便清洁水槽本体，而转轴转动至其他位置时由于转轴的部分外凸于水槽本体内，因此可以作为切菜板等物件的支撑点。所述隐蔽平面为转轴的外侧壁上沿轴向切割形成的平面。通过整体的转轴切割形成隐蔽平面，由此结构简单加工方便。所述的隐蔽平面为两个，两个隐蔽平面沿转轴的周向均匀分布，其中一个隐蔽平面上内凹形成凹槽。两个隐蔽平面，其中一个内凹形成凹槽，因此这一凹槽可以作为插槽，方便厨房用具中的杆件或挂钩等插入或挂扣在凹槽内。所述的转轴为两个，两个转轴分别设于水槽本体相对的两个侧壁上。两个转轴对称设置可以使得水槽本体内形成两个相对的支撑点，由此便于切菜板水平放置在水槽本体上方。两个转轴的轴线相互平行，且其中一个转轴的轴线所在水平面的高度小于另一个转轴轴线所在的水平面。由此两个转轴存在高低落差，因此可以使得切菜搁置在两个转轴上时形成倾斜，方便沥水。所述转轴的两端与水槽本体内侧壁所在的平面之间留有间隙L。在转轴和水槽本体的内侧壁之间留有间隙，可以方便切菜板等部件竖直的插在这一间隙内，使得水槽本体具有一定的收纳功能。采用以上结构后，本技术的水槽与现有技术相比具有以下优点：其较常规水槽的蓄水的功能的基础上可以使得水槽上直接搁置多种厨房用具，因此水槽上功能多样化，而且通过档条与水槽本体之间的快速拆卸设计，使得档条可以随意的拆卸和安装，因此不会给水槽的清洗造成不便。本技术所要解决的技术问题之一是：提供一种清洗设备，其清洗设备，其不仅使集成的水槽功能多样，而且便于水槽内壁的清洗、不会阻碍大体积厨具置于水槽内。本技术所采取的技术方案是：提供一种清洗设备，其特征在于：它包括清洗机，所述清洗机与上述水槽集成在一起。采用以上结构后，本技术的一种清洗设备与现有技术相比具有以下优点：不仅集成有水槽，而且该水槽兼顾功能多样性，便于清洗水槽内壁、不会阻碍大体积厨具置于水槽内。附图说明图1是本技术的水槽的结构示意图。图2是本技术的水槽上转轴部分的局部剖视示意图。图3为图2的另一个状态的结构示意图。图4为图2的还一个状态的结构示意图。其中，1、水槽本体，2、转轴，3、缺口，4、隐蔽平面，5、凹槽；L是转轴的端部到水槽本体内侧壁所在的平面的垂面距离。具体实施方式下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步说明。水槽的实施例一：本技术提供一种水槽，它包括水槽本体1，其特征在于：所述水槽本体1的外侧壁上设有与水槽本体1转动配合的转轴2，所述水槽本体上位于转轴2所对应的位置设有供转轴2的部分伸入至水槽本体1内的缺口3，所述转轴2绕自身轴线转动的过程中所述转轴2的外侧壁与缺口3的内壁滑动配合，所述转轴2的外侧壁上内切形成至少一个隐蔽平面4，当所述隐蔽平面4随转轴2转动至缺口3内时所述隐蔽平面4与水槽本体1的内壁齐平。上述的隐蔽平面4是指设于转轴2外侧壁上的特定平面，为了便于区分奇特平面，因此件转轴外圆周面上的平面定义为隐蔽平面。在不影响转轴转动的基础上所述的隐蔽平面可以是转轴外圆周面上外凸或内凹形成的平面，也可以是另外安装在转轴上的附加部件的平面。水槽的实施例二：其基本机构与上述水槽的实施例一相同，区别在于：所述隐蔽平面4为转轴2的外侧壁上沿轴向切割形成的平面。所述隐蔽平面为转轴2外侧壁沿径向内凹形成的平面，所述隐蔽平面4沿转轴的轴向延伸至贯穿转轴2的两个端面。当然作为优选，所述隐蔽平面4也可以不完全贯穿转轴2的两个端面，从而使得转轴2的两端的外侧壁呈完整的圆形。水槽的实施例三：其基本机构与上述水槽的实施例一相同，区别在于：所述的隐蔽平面4为两个，两个隐蔽平面4沿转轴的周向均匀分布，其中一个隐蔽平面4上内凹形成凹槽5。作为优选，所述凹槽5内设有环形的挂钩。水槽的实施例四：其基本机构与上述水槽的实施例一相同，区别在于：所述的转轴2为两个，两个转轴2分别设于水槽本体1相对的两个侧壁上。水槽的实施例五：其基本机构与上述水槽的实施例四相同，区别在于：两个转轴2的轴线相互平行，且其中一个转轴2的轴线所在水平面高度小于另一个转轴2轴线所在的水平面高度。水槽的实施例六：其基本机构与上述水槽的实施例一相同，区别在于：所述转轴2的两端与水槽本体1内侧壁所在的平面之间留有间隙L。一种清洗设备，其特征在于：它包括清洗机，所述清洗机与上述水槽集成在一起。作为清洗设备的实施例，所述清洗机为水槽式洗碗机和/或水槽式果蔬机。以上就本技术较佳的实施例作了说明，但不能理解为是对权利要求的限制。本技术不仅局限于以上实施例，其具体结构允许有变化，凡在本技术独立要求的保护范围内所作的各种变化均在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水槽，它包括水槽本体(1)，其特征在于：所述水槽本体(1)的外侧壁上设有与水槽本体(1)转动配合的转轴(2)，所述水槽本体上位于转轴(2)所对应的位置设有供转轴(2)的部分伸入至水槽本体(1)内的缺口(3)，所述转轴(2)绕自身轴线转动的过程中所述转轴(2)的外侧壁与缺口(3)的内壁滑动配合，所述转轴(2)的外侧壁上内切形成至少一个隐蔽平面(4)，当所述隐蔽平面(4)随转轴(2)转动至缺口(3)内时所述隐蔽平面(4)与水槽本体(1)的内壁齐平。/n

【技术特征摘要】
1.一种水槽，它包括水槽本体(1)，其特征在于：所述水槽本体(1)的外侧壁上设有与水槽本体(1)转动配合的转轴(2)，所述水槽本体上位于转轴(2)所对应的位置设有供转轴(2)的部分伸入至水槽本体(1)内的缺口(3)，所述转轴(2)绕自身轴线转动的过程中所述转轴(2)的外侧壁与缺口(3)的内壁滑动配合，所述转轴(2)的外侧壁上内切形成至少一个隐蔽平面(4)，当所述隐蔽平面(4)随转轴(2)转动至缺口(3)内时所述隐蔽平面(4)与水槽本体(1)的内壁齐平。


2.根据权利要求1所述的水槽，其特征在于：所述隐蔽平面(4)为转轴(2)的外侧壁上沿轴向切割形成的平面。


3.根据权利要求1所述的水槽，其特征在于：所述的隐蔽平面(4)...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅祖睿，
申请(专利权)人：宁波美高厨具有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33