有机功能材料的制剂制造技术

技术编号:24896613 阅读:25 留言:0更新日期:2020-07-14 18:21
本发明专利技术涉及含有至少一种有机功能材料和至少第一有机溶剂的制剂,其中所述第一有机溶剂是异山梨醇、其衍生物或立体异构体,并且涉及通过使用这些制剂制备的电子器件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机功能材料的制剂
本专利技术涉及包含取代的异山梨醇作为第一溶剂的制剂,以及涉及通过使用这些制剂制备的电致发光器件。
技术介绍
长期以来已通过真空沉积工序来制造有机发光器件(OLED)。其它技术如喷墨印刷最近已由于其优点如节省成本和规模扩大可能性而得到充分研究。多层印刷中的主要挑战之一是确定相关参数,以获得墨在基底上的均匀沉积。为了触发这些参数如表面张力、粘度或沸点,可向制剂中加入一些添加剂。技术问题和专利技术目的在有机电子器件中已经提出了许多溶剂用于喷墨印刷。然而,在沉积和干燥工序期间起作用的重要参数的数量使得溶剂的选择非常具有挑战性。由此,用于通过喷墨印刷进行沉积的含有有机半导体的制剂仍然需要改善。本专利技术的一个目的是提供一种有机半导体的制剂,其使得能够进行受控沉积以形成具有良好的层性质和效率性能的有机半导体层。本专利技术的另一个目的是提供一种有机半导体的制剂,当例如在喷墨印刷方法中使用时,所述制剂使得墨微滴能够均匀施加在基底上,从而得到良好的层性质和效率性能。问题的解决方案本专利技术的上述目的是通过提供包本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含有至少一种量子材料和/或至少一种有机功能材料和作为第一溶剂的异山梨醇的制剂,其中所述至少一种有机功能材料优选选自有机导体,有机半导体,有机荧光材料,有机延迟荧光材料,有机磷光材料,有机光吸收材料,有机感光材料,有机光敏材料,有机p型掺杂剂,有机n型掺杂剂,过渡金属、稀土元素、镧系元素和锕系元素的有机金属络合物以及其它有机光活性材料。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171215 EP 17207845.31.一种含有至少一种量子材料和/或至少一种有机功能材料和作为第一溶剂的异山梨醇的制剂,其中所述至少一种有机功能材料优选选自有机导体,有机半导体,有机荧光材料,有机延迟荧光材料,有机磷光材料,有机光吸收材料,有机感光材料,有机光敏材料,有机p型掺杂剂,有机n型掺杂剂,过渡金属、稀土元素、镧系元素和锕系元素的有机金属络合物以及其它有机光活性材料。


2.根据权利要求1所述的制剂,其中所述第一溶剂是双重取代的异山梨醇。


3.根据权利要求1或2所述的制剂,其中所述第一有机溶剂是根据式(I)的化合物、其立体异构体或其立体异构体的混合物



其中
X在每次出现时相同或不同,是O或N,优选两个X相同并且非常优选两个X都是O;
Y在每次出现时相同或不同,是S、NR5、O,优选两个Y相同并且非常优选两个Y都是O;
R1和R2
在每次出现时相同或不同,并且是具有1至40个脂族碳原子、优选1至20个脂族碳原子的直链、支链或环状的脂族基团,其中一个CH2基团或多个非相邻的CH2基团可被-O-、-S-、-NR5-、-CONR5-、-CO-O-、-C=O-、-R5C=CR5-、-C≡C-、-Si(R5)2-、-Ge(R5)2-、-Sn(R5)2-、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、-SO-、-SO2-代替,具有1至60个芳族碳原子的芳基或杂芳基基团,并且其中所述基团可被一个或多个R6取代;
R3和R4
在每次出现时相同或不同,并且是H,D,F,Cl,Br,具有1至40个脂族碳原子、优选1至20个脂族碳原子的直链、支链或环状的脂族基团,其中一个CH2基团或多个非相邻的CH2基团可被-O-、-S-、-NR5-、-CONR5-、-CO-O-、-C=O-、-R5C=CR5-、-C≡C-、-Si(R5)2-、-Ge(R5)2-、-Sn(R5)2-、C=S、C=Se、C=NR5、P(=O)(R5)、-SO-、-SO2-代替,具有1至60个芳族碳原子的芳基或杂芳基基团,并且其中所述基团可被一个或多个R6取代;
R5
在每次出现时相同或不同,并且是H,具有1至20个碳原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或在环系中具有2至60个碳原子的芳族或杂芳族环系,其中R5可被一个或多个R6取代;
R6
在每次出现时相同或不同,并且是H,具有1至20个碳原子的直链的烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基或烷氧基基团,并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或在环系中具有2至60个碳原子的芳族或杂芳族环系。


4.根据权利要求1至3中的一项或多项所述的制剂,其中式(I)中的R1和R2相同。


5.根据权利要求1至4中的一项或多项所述的制剂,其中R3和R4相同,优选地R3和R4都是H。


6.根据权利要求1至5中的一项或多项所述的制剂,其中...

【专利技术属性】
技术研发人员:格雷·比雷克里斯托夫·莱昂哈德曾信荣曼纽尔·汉布格尔安雅·雅提斯奇
申请(专利权)人:默克专利有限公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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