一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统技术方案

本发明专利技术涉及一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统，包括连接在一起的真空腔体、真空泵组、真空测量装置、电源控制柜及PLC+ICP+闭环控制系统。真空腔体的一侧通过抽气孔经管道阀体与真空泵组相连，其另一侧与真空测量装置相连；真空腔体设有蚌式对开门的真空腔门体；真空腔门体的正面对称设有一对平面磁控靶，侧面对称设有两对自带布气系统的辅助水冷阳极；每个辅助水冷阳极的外围设有励磁场调制线圈；真空腔体内对称插有两对孪生柱状磁控溅射阴极；柱状磁控溅射阴极、辅助水冷阳极、平面磁控靶、励磁场调制线圈、管道阀体、真空泵组、真空测量装置均分别通过线桥与PLC+ICP+闭环控制系统和电源控制柜相连。本发明专利技术可有效阻止靶中毒、提高镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统
本专利技术涉及真空镀膜和表面处理
，尤其涉及一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统。
技术介绍
工业机械表面摩擦磨损导致的材料消耗、机械失效，进而造成能源和资源的浪费。传统的表面处理技术，如电镀、微弧氧化、阳极氧化等技术由于环保政策和环保意识的强化，逐渐不能满足现代人类社会发展的需求，亟需发展绿色环保的镀膜技术。因此，电弧离子镀膜、化学气相沉积和磁控溅射越来越受到人们的重视。以磁控溅射为例，平衡磁控溅射、非平衡磁控溅射、离子源辅助磁控溅射、高功率脉冲磁控溅射等相继被发展并用于实际生产。中国专利ZL200510019161.6公开了一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置，该装置提高了镀膜的操作灵活性。中国专利ZL201610906281.6公开了一种磁极辅助的非平衡磁控溅射系统，该系统提高了镀膜的结构可控性和镀膜厚度的均一性。中国专利ZL200910074779.0公开了一种闭合场非平衡磁控溅射制备铬铝氮薄膜的方法，该方法有效提高了高铬钨锰钢表面的硬度、强度和耐磨性能。中国专利ZL20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统，包括连接在一起的真空腔体（1）、真空泵组（8）、由一组复合真空计组成的真空测量装置（11）、电源控制柜及PLC+ICP+闭环控制系统（9）；所述真空腔体（1）的一侧通过抽气孔经管道阀体（7）与所述真空泵组（8）相连，其另一侧与所述真空测量装置（11）相连；所述真空腔体（1）设有蚌式对开门的真空腔门体（2），其特征在于：所述真空腔门体（2）的正面对称设有一对平面磁控靶（5），侧面对称设有两对自带布气系统的辅助水冷阳极（4）；每个所述辅助水冷阳极（4）的外围设有励磁场调制线圈（6）；所述真空腔体（1）内对称插有两对孪生柱状磁控溅射阴极（3）；所述柱状磁...

【技术特征摘要】
1.一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统，包括连接在一起的真空腔体（1）、真空泵组（8）、由一组复合真空计组成的真空测量装置（11）、电源控制柜及PLC+ICP+闭环控制系统（9）；所述真空腔体（1）的一侧通过抽气孔经管道阀体（7）与所述真空泵组（8）相连，其另一侧与所述真空测量装置（11）相连；所述真空腔体（1）设有蚌式对开门的真空腔门体（2），其特征在于：所述真空腔门体（2）的正面对称设有一对平面磁控靶（5），侧面对称设有两对自带布气系统的辅助水冷阳极（4）；每个所述辅助水冷阳极（4）的外围设有励磁场调制线圈（6）；所述真空腔体（1）内对称插有两对孪生柱状磁控溅射阴极（3）；所述柱状磁控溅射阴极（3）、所述辅助水冷阳极（4）、所述平面磁控靶（5）、所述励磁场调制线圈（6）、所述管道阀体（7）、所述真空泵组（8）、所述真空测量装置（11）均分别通过线桥（10）与所述PLC+ICP+闭环控制系统（9）和所述电源控制柜相连。


2.如权利要求1所述的一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统，其特征在于：两对所述柱状磁控溅射阴极（3）中的任意一对的相邻磁场相反布置。


3.如权利要求1所述的一种励磁调制阳极辅助磁控溅射离子镀膜系统，其特征在于：所述柱状磁控溅射阴极（3）与所述电源控制柜中的中频脉冲电源相连。


4.如权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张斌，张俊彦，高凯雄，强力，
申请(专利权)人：中国科学院兰州化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：甘肃;62