本发明专利技术的光检查装置具备：晶圆支撑部，其将构成有互相相对的第1镜部与第2镜部间的距离通过静电力而变化的多个法布里‑帕罗干涉滤光器部的晶圆，以第1镜部与第2镜部互相相对的方向沿基线的方式支撑；光出射部，其使沿基线入射至多个法布里‑帕罗干涉滤光器部的各个的光出射；及光检测部，其检测沿基线透过多个法布里‑帕罗干涉滤光器部的各个的光。晶圆支撑部具有使光沿基线通过的光通过区域。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光检查装置及光检查方法
本公开涉及一种用以获得法布里-帕罗干涉滤光器的光检查装置及光检查方法。
技术介绍
作为现有的法布里-帕罗干涉滤光器，已知有具备基板以及在基板上经由空隙互相相对的固定镜及可动镜的滤光器(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2013-506154号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]由于如上述的法布里-帕罗干涉滤光器为微细的构造体，故在制造法布里-帕罗干涉滤光器时，难以提高制造效率及良率的两者。因此，本公开的目的在于提供一种可效率良好且良率良好地获得多个法布里-帕罗干涉滤光器的光检查装置及光检查方法。[解决问题的技术手段]本公开的一方面的光检查装置具备：晶圆支撑部，其将具备基板层以及二维配置于基板层上的多对第1镜部及第2镜部、且通过在互相相对的第1镜部与第2镜部间形成空隙而构成有互相相对的第1镜部与第2镜部间的距离通过静电力变化的多个法布里-帕罗干涉滤光器部的晶圆，以第1镜部与第2镜部互相相对的方向沿基线的方式支撑；光出射部，其使沿基线入射至多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光出射；及光检测部，其检测沿基线透过多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光；且晶圆支撑部具有使光沿基线通过的光通过区域。该光检查装置中，对成为多个法布里-帕罗干涉滤光器的多个法布里-帕罗干涉滤光器部，在晶圆状态下实施光透过特性的检查。因此，该光检查装置可效率良好且良率良好地获得多个法布里-帕罗干涉滤光器。其理由如下。法布里-帕罗干涉滤光器是在经过直至自晶圆切出后并装配于例如光检测装置为止的各步骤期间，特性易变化的元件。因此，认为需要在最终阶段的装配时检查法布里-帕罗干涉滤光器的特性。但，本公开人等发现，晶圆的状态下为良品的法布里-帕罗干涉滤光器部即使其后特性变化，也不易成为不良品的法布里-帕罗干涉滤光器。因此，通过在晶圆状态下检查各法布里-帕罗干涉滤光器部的光透过特性，而可在初始阶段排除如晶圆状态下为不良品的法布里-帕罗干涉滤光器直至最终阶段的装配的浪费，且提高良品的法布里-帕罗干涉滤光器直至最终阶段的装配的概率。并且，根据该光检查装置，可效率良好且精度良好地检查各法布里-帕罗干涉滤光器部的光透过性。其理由如下。在法布里-帕罗干涉滤光器中，透过的光的波长根据入射角变化。因此，若要对各法布里-帕罗干涉滤光器实施光透过特性的检查，则有必要对每个法布里-帕罗干涉滤光器调整支撑角度。通过在晶圆状态下检查各法布里-帕罗干涉滤光器部的光透过特性，而可减少此种调整的负担。另外，在法布里-帕罗干涉滤光器中，透过的光的波长也根据温度等环境条件变化。因此，若对各法布里-帕罗干涉滤光器实施光透过特性的检查，则成为检查结果的前提的环境条件在法布里-帕罗干涉滤光器间容易不同。通过在晶圆状态下检查各法布里-帕罗干涉滤光器部的光透过特性，而可在稳定的环境条件下获得检查结果。本公开的一方面的光检查装置中，也可为，晶圆支撑部具有面向晶圆中构成有多个法布里-帕罗干涉滤光器部的有效区域的开口，作为光通过区域。由此，可使晶圆支撑部的构成简易化，且使光沿基线透过通过晶圆支撑部支撑的晶圆的各法布里-帕罗干涉滤光器部。本公开的一方面的光检查装置中，也可为，晶圆支撑部具有与晶圆中构成有多个法布里-帕罗干涉滤光器部的有效区域接触的光透过构件，作为光通过区域。由此，可抑制晶圆的翘曲，且使光沿基线透过通过晶圆支撑部支撑的晶圆的各法布里-帕罗干涉滤光器部。本公开的一方面的光检查装置也可进而具备电压施加部，该电压施加部以互相相对的第1镜部与第2镜部间的距离变化的方式，对多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个施加电压。由此，可针对各法布里-帕罗干涉滤光器部，取得施加的电压的大小与透过的光的波长的关系。本公开的一方面的光检查装置中，也可为，光出射部以同时出射多个波长的光的方式构成，光检测部以针对多个波长的光按波长进行检测的方式构成。由此，使施加至法布里-帕罗干涉滤光器部的电压的大小变化，在各电压下取得光的检测强度成为峰值的波长，而可针对各法布里-帕罗干涉滤光器部，取得施加的电压大小与透过的光的波长的关系。本公开的一方面的光检查装置中，也可为，光出射部以将多个波长的光按波长出射的方式构成，光检测部以对多个波长的光具有灵敏度的方式构成。由此，使出射的光的波长变化，在各波长下使施加至法布里-帕罗干涉滤光器部的电压大小变化，取得光的检测强度成为峰值的电压，由此可针对各法布里-帕罗干涉滤光器部，取得施加的电压大小与透过的光的波长的关系。或者，使施加于法布里-帕罗干涉滤光器部的电压大小变化，在各电压下使出射的光的波长变化，取得光的检测强度成为峰值的波长，由此可针对各法布里-帕罗干涉滤光器部，取得施加的电压大小与透过的光的波长的关系。本公开的一方面的光检查装置也可进而具备摄像部，该摄像部拍摄由晶圆支撑部支撑的晶圆。由此，可取得各法布里-帕罗干涉滤光器部的坐标信息，基于取得的坐标信息，使法布里-帕罗干涉滤光器部位于基线上。本公开的一方面的光检查方法具备如下步骤：准备晶圆，该晶圆具备基板层以及二维配置于基板层上的多对第1镜部及第2镜部，且通过在互相相对的第1镜部与第2镜部间形成空隙，而构成有互相相对的第1镜部与第2镜部间的距离通过静电力而变化的多个法布里-帕罗干涉滤光器部；使沿第1镜部与第2镜部互相相对的方向入射至多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光出射；及检测沿第1镜部与第2镜部互相相对的方向透过多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光。该光检查方法根据与上述光检查装置相同的理由，可效率良好且良率良好地获得多个法布里-帕罗干涉滤光器。本公开的一方面的光检查方法也可进而具备如下步骤：以互相相对的第1镜部与第2镜部间的距离变化的方式，对多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个施加电压。由此，可针对各法布里-帕罗干涉滤光器部，取得施加的电压的大小与透过的光的波长的关系。本公开的一方面的光检查方法也可进而具备拍摄晶圆的步骤。由此，例如使光沿基线入射至各法布里-帕罗干涉滤光器部的情形时，可取得各法布里-帕罗干涉滤光器部的坐标信息，基于取得的坐标信息，使各法布里-帕罗干涉滤光器部位于基线上。[专利技术的效果]根据本公开，可提供一种能够效率良好且良率良好地获得多个法布里-帕罗干涉滤光器的光检查装置及光检查方法。附图说明图1为自作为一实施方式的光检查装置及光检查方法的检查对象的晶圆切出的法布里-帕罗干涉滤光器的俯视图。图2为图1所示的法布里-帕罗干涉滤光器的仰视图。图3为沿图1所示的Ⅲ-Ⅲ线的法布里-帕罗干涉滤光器的剖视图。图4为自作为一实施方式的光检查装置及光检查方法的检查对象的晶圆切出的虚设滤光器的剖视图。图5为作为一实施方式的光检查装置及光检查方法的检查对象的晶圆的俯视图。图6为图5所示的晶圆的一部分的放大俯视图。图7(a)、(b)为图5所示的晶圆的法布里-帕罗本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光检查装置，其特征在于，/n具备：/n晶圆支撑部，其将晶圆以第1镜部与第2镜部互相相对的方向沿基线的方式支撑，所述晶圆具备基板层以及二维配置于所述基板层上的多对所述第1镜部及所述第2镜部，且通过在互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间形成空隙而构成有互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间的距离通过静电力而变化的多个法布里-帕罗干涉滤光器部；/n光出射部，其使沿所述基线入射至所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光出射；及/n光检测部，其检测沿所述基线透过所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光，/n所述晶圆支撑部具有使光沿所述基线通过的光通过区域。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171124 JP 2017-2260901.一种光检查装置，其特征在于，
具备：
晶圆支撑部，其将晶圆以第1镜部与第2镜部互相相对的方向沿基线的方式支撑，所述晶圆具备基板层以及二维配置于所述基板层上的多对所述第1镜部及所述第2镜部，且通过在互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间形成空隙而构成有互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间的距离通过静电力而变化的多个法布里-帕罗干涉滤光器部；
光出射部，其使沿所述基线入射至所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光出射；及
光检测部，其检测沿所述基线透过所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个的光，
所述晶圆支撑部具有使光沿所述基线通过的光通过区域。
2.如权利要求1所述的光检查装置，其中，
所述晶圆支撑部具有面向所述晶圆中构成有所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部的有效区域的开口作为所述光通过区域。
3.如权利要求1所述的光检查装置，其中，
所述晶圆支撑部具有与所述晶圆中构成有所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部的有效区域接触的光透过构件作为所述光通过区域。
4.如权利要求1至3中任一项所述的光检查装置，其中，
进一步具备电压施加部，该电压施加部以互相相对的所述第1镜部与所述第2镜部之间的距离变化的方式对所述多个法布里-帕罗干涉滤光器部的各个施加电压。
5.如权利要求4所述的光检查...
【专利技术属性】
技术研发人员：笠原隆，柴山胜己，广瀬真树，川合敏光，大山泰生，藏本有未，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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