一种散热膜的制备方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种散热膜的制备方法及显示装置，散热膜的制备方法包括：制备第一溶液；提供一基板，将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长，以在所述基板表面得到一层有机膜；将清洗后的所述基板吹干；在所述有机膜上涂布第二溶液；将涂布有所述第二溶液的所述有机膜在预设温度下烘烤第二预设时长，得到散热膜。本申请实施例通过制备一种散热膜，并将其应用至显示装置中，提高了显示装置基板的导热系数，保证显示装置的正常使用并提高其使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种散热膜的制备方法及显示装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种散热膜的制备方法及显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展，具有优越色彩和性能表现的OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)和MicroLED(微发光二极管)一直被认为是取代LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)的下一代显示技术，但是这两种技术都为主动发光，随着解析度的增高，则单位面积的RGB发光基元的需求就越多，从而导致单位面积产生的热量则越多，为了不影响显示装置的正常使用和使用寿命，则需要及时的将产生的热量扩散出去，而目前MicroLED和OLED普遍采用玻璃为基板，玻璃的导热系数一般都小于1W/(mK)，因此，导致显示装置的耐热性能差，影响显示装置的正常使用和使用寿命。因此，急需寻求一种散热膜的制备方法和显示装置，解决现有技术中存在的由于基板的导热系数不高导致的影响显示装置正常使用和其使用寿命低的技术问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种散热膜的制备方法和显示装置，通过制备一种散热膜，将散热膜应用至显示装置中，提高显示装置基板的导热系数，从而解决现有技术中存在的由于基板的导热系数不高导致的影响显示装置正常使用和其使用寿命低的技术问题。本申请提供一种散热膜的制备方法，该方法包括：制备第一溶液；提供一基板，将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长，以在所述基板表面得到一层有机膜；将清洗后的所述基板吹干；在所述有机膜上涂布第二溶液；将涂布有所述第二溶液的所述有机膜在预设温度下烘烤第二预设时长，得到散热膜。在本申请的一些实施例中，所述第一溶液的溶质为乙醇，溶剂为去离子水。在本申请的一些实施例中，在将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长的同时，还通过极紫外光照射所述基板。在本申请的一些实施例中，所述第二溶液的溶质为有机硅烷，溶剂为甲苯、二甲苯、戊烷、己烷、辛烷、环己烷、环己酮、乙醚、环氧丙烷、氯苯、二氯苯、二氯甲烷、异丙醇、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、乙腈、吡啶中的一种或多种。在本申请的一些实施例中，所述第二溶液中的溶质和溶剂的体积比为1:1～1:4。在本申请的一些实施例中，所述有机硅烷的结构式为：其中，n代表不同长度的碳链，R为含有酯基的链状物、F取代烷烃衍生物、通过烷氧基以及酯基相连接的共轭结构、含有杂环化合物的共轭结构中的一种。在本申请的一些实施例中，所述杂环化合物为五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物中的一种。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括:一基板；一散热膜，设置于所述基板上；一功能层，设置在所述散热膜上；其中，所述散热膜采用如上述任一实施例中所述的散热膜的制备方法制备。在本申请的一些实施例中，所述功能层包括：一薄膜晶体管层，设置在所述散热膜上；一发光层，设置在所述薄膜晶体管层上；多个像素电极，设置在所述发光层内。在本申请的一些实施例中，所述功能层包括：一n型氮化镓层，设置在所述散热膜上；多个发光单元，设置在所述n型氮化镓层上；多个像素电极，设置在所述多个发光单元上；每一所述电极与每一所述发光单元一一对应。本专利技术实施例中通过制备一种散热膜，将散热膜应用至显示装置中，提高显示装置基板的导热系数，从而解决了现有技术中存在的由于基板的导热系数不高导致的影响显示装置正常使用和其使用寿命低的技术问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例一提供的一种散热膜制备方法的流程图；图2为本专利技术实施例一提供的散热膜制备方法制备出的散热膜的结构示意图；图3为本专利技术实施例二提供的一种OLED显示装置的结构示意图；图4为本专利技术实施例二提供的一种MicroLED显示装置的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。在本申请中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本专利技术，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本专利技术。在其它实例中，不会对公知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本专利技术的描述变得晦涩。因此，本专利技术并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理和特征的最广范围相一致。本专利技术实施例提供一种散热膜的制备方法及显示装置。以下分别进行详细说明。实施例一图1为本专利技术实施例一提供的一种显示模组的结构示意图；如图1所示，该方法包括：步骤S101、制备第一溶液；具体地，步骤S101包括提供一容器，将第一溶液的溶质和溶剂均置于该容器中，混合均匀得到第一溶液，其中，第一溶液的溶质为乙醇，溶剂为去离子水。步骤S102、提供一基板，将基板在第一溶液中第一预设时长，以在基板表面得到一层有机膜；具体地，提供的基板为玻璃、PET(Polyethyleneterephthalate，涤纶树脂)、CPI(Colorlesspolyimide，无色聚酰亚胺)、PEN(poly(ethylenenaphthalate)，聚萘二甲酸乙二醇酯)中的一种。具体地，基板在第一溶液中的清洗方式为超声清洗，超声清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速作用及直进流作用对液体和待清洗物体直接、间接作本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种散热膜的制备方法，其特征在于，包括：/n制备第一溶液；/n提供一基板，将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长，以在所述基板表面得到一层有机膜；/n将清洗后的所述基板吹干；/n在所述有机膜上涂布第二溶液；/n将涂布有所述第二溶液的所述有机膜在预设温度下烘烤第二预设时长，得到散热膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种散热膜的制备方法，其特征在于，包括：
制备第一溶液；
提供一基板，将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长，以在所述基板表面得到一层有机膜；
将清洗后的所述基板吹干；
在所述有机膜上涂布第二溶液；
将涂布有所述第二溶液的所述有机膜在预设温度下烘烤第二预设时长，得到散热膜。


2.根据权利要求1所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述第一溶液的溶质为乙醇，溶剂为去离子水。


3.根据权利要求1所述的散热膜的制备方法，其特征在于，在将所述基板在所述第一溶液中清洗第一预设时长的同时，还通过极紫外光照射所述第一溶液中的基板。


4.根据权利要求1所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述第二溶液的溶质为有机硅烷，溶剂为甲苯、二甲苯、戊烷、己烷、辛烷、环己烷、环己酮、乙醚、环氧丙烷、氯苯、二氯苯、二氯甲烷、异丙醇、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、乙腈、吡啶中的一种或多种。


5.根据权利要求4所述的散热膜的制备方法，其特征在于，所述第二溶液中的溶质和溶剂的体积比为1:1～1:4。


6.根据权利要求4所述的散热膜的制备方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：查宝，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44