掩膜板制造技术

本发明专利技术提供一种掩膜板，该掩膜板包括框架和至少一个设置在框架上的掩膜本体，框架通过若干边框围成，边框所在的区域为边框区，边框围成的区域为蒸镀区。掩膜本体的两端分别位于至少两个边框上，至少部分掩膜本体位于蒸镀区中，边框和掩膜本体通过焊点连接。边框上设置有阻挡件，阻挡件位于焊点靠近蒸镀区的一侧，阻挡件至少部分区域的高度大于焊点的高度。本发明专利技术能够有效减少掩膜本体在蒸镀区内产生褶皱，提高掩膜本体与待蒸镀基板的贴合度，从而减少蒸镀阴影，提高蒸镀膜层厚度的均一性。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种掩膜板。
技术介绍
目前，常采用掩膜板进行蒸镀，利用掩膜板图形将蒸镀材料蒸镀至基板的预定位置，形成蒸镀膜层。掩膜板一般包括框架(Frame)和焊接在框架上的薄片(Sheet)，薄片在框架内部按照预定位置排布，从而形成位于不同位置且具有各种形状的开口结构。在蒸镀过程中，蒸镀材料通过开口结构沉积在待蒸镀基板上。为了调整薄片在框架中的排布位置，常用的方式在是薄片的端部设置夹爪(Finger)，通过夹爪对薄片施加一定的作用力，从而牵拉薄片的端部以达到调整薄片排布位置的目的。同时为了固定位置调整完成后的薄片，是将薄片与框架的重叠部分焊接在一起。然而目前的薄片内部存在较大的应力，从而容易在框架内部的蒸镀区内形成褶皱，影响薄片与待蒸镀基板的贴合度，导致蒸镀阴影的产生，影响蒸镀膜层的厚度均一性和蒸镀的精度。
技术实现思路
为了解决
技术介绍
中提到的至少一个问题，本专利技术提供一种掩膜板，能够有效减少掩膜本体在蒸镀区内产生褶皱，提高掩膜本体与待蒸镀基板的贴合度，从而减少蒸镀阴影，提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，包括框架和至少一个设置在所述框架上的掩膜本体，所述框架通过若干边框围成，所述框架所在区域为边框区，所述边框围成的区域为蒸镀区，其特征在于，/n所述掩膜本体的两端分别位于至少两个所述边框上，至少部分所述掩膜本体位于所述蒸镀区中，所述边框和所述掩膜本体通过焊点连接；/n其中，所述边框上设置有阻挡件，所述阻挡件位于所述焊点靠近所述蒸镀区的一侧，所述阻挡件至少部分区域的高度大于所述焊点的高度。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括框架和至少一个设置在所述框架上的掩膜本体，所述框架通过若干边框围成，所述框架所在区域为边框区，所述边框围成的区域为蒸镀区，其特征在于，
所述掩膜本体的两端分别位于至少两个所述边框上，至少部分所述掩膜本体位于所述蒸镀区中，所述边框和所述掩膜本体通过焊点连接；
其中，所述边框上设置有阻挡件，所述阻挡件位于所述焊点靠近所述蒸镀区的一侧，所述阻挡件至少部分区域的高度大于所述焊点的高度。


2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述边框至少包括第一台阶和设置在所述第一台阶上的第二台阶，所述阻挡件设置在所述第二台阶上。


3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述阻挡件和所述第二台阶一体成型。


4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述阻挡件包括阻挡部和延伸部，所述阻挡部的高度大于所述焊点的高度，所述延伸部的高度沿远离所述阻挡部的方向逐渐减小。


5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述延伸部包括第一延伸部...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱岳，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32