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一种絮凝吸附澄清设备制造技术

技术编号:24839216 阅读:17 留言:0更新日期:2020-07-10 18:55
本发明专利技术公开了一种絮凝吸附澄清设备,包括絮凝池以及设于絮凝池下方的沉淀罐,沉淀罐下方设置有与沉淀罐相连通的沉淀罐进水管,沉淀罐上并位于沉淀罐进水管上方设置有清水溢流装置,沉淀罐中并位于沉淀罐进水管与清水溢流装置竖向位置之间还设置有絮体固废排放装置。沉淀罐进水管设于沉淀罐的下方,絮体固废排放装置设置在沉淀罐的中部,使得从沉淀罐进水管进入沉淀罐中的絮凝混合液与沉淀罐中的絮体的沉降呈逆向流动关系,让待处理水体与絮体有了更充分、更均匀的接触,有利于提高絮体对溶解态污染物的整体吸附效果;同时絮体固废排放装置设于沉淀罐中部,延长了絮体在沉淀罐中的停留时间,也增加了其老化时间,增加了絮体的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种絮凝吸附澄清设备
本专利技术涉及环境工程装备
,更具体地,涉及一种絮凝吸附澄清设备。
技术介绍
絮凝澄清是环境工程和化工领域的重要过程,在水处理中可以用于预处理和尾处理。大型水厂传统上采用连续流砂滤定期反洗流程,运行成本低,但占地面积大,投资较大。小型分散的污水处理设施多侧重于提高澄清效果和速率,多为连续流,或直接采用纳微过滤器,或先絮凝再经过反洗过滤器。这类技术虽然设备较小,但运行和维护成本较高,稳定性也取决于维护管理水平。对于采用絮凝流程的,现有的澄清设备多采用顺流或横流,就是絮凝混合液的进水方向与沉降方向相同或垂直。这样做的优点是不会影响前期絮体的沉降,从而缩短沉淀停留时间,减小设备体积。但是,当目标物质无法参与絮凝反应而只能通过吸附带走的时候,在同向顺流絮凝澄清流程中,由于絮体与水体的接触时间较短,影响了吸附效果。
技术实现思路
本专利技术为克服上述现有技术中当目标物质无法参与絮凝反应而只能通过吸附带走的时候,在同向顺流絮凝澄清流程中,由于絮体与水体的接触时间较短,存在着吸附效果欠佳的问题,提供一种絮凝吸附本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种絮凝吸附澄清设备,其特征在于:包括絮凝池(1)以及设于所述絮凝池(1)下方的沉淀罐(2),所述沉淀罐(2)下方设置有与所述沉淀罐(2)相连通的沉淀罐进水管(22),所述沉淀罐(2)上并位于所述沉淀罐进水管(22)上方设置有清水溢流装置(3),所述沉淀罐(2)中并位于沉淀罐进水管(22)与清水溢流装置(3)竖向位置之间还设置有絮体固废排放装置(4)。/n

【技术特征摘要】
1.一种絮凝吸附澄清设备,其特征在于:包括絮凝池(1)以及设于所述絮凝池(1)下方的沉淀罐(2),所述沉淀罐(2)下方设置有与所述沉淀罐(2)相连通的沉淀罐进水管(22),所述沉淀罐(2)上并位于所述沉淀罐进水管(22)上方设置有清水溢流装置(3),所述沉淀罐(2)中并位于沉淀罐进水管(22)与清水溢流装置(3)竖向位置之间还设置有絮体固废排放装置(4)。


2.根据权利要求1所述的一种絮凝吸附澄清设备,其特征在于:所述沉淀罐(2)内壁沿圆周方向设有与所述沉淀罐进水管(22)相连通的进水分配环(23),所述进水分配环(23)上设置有若干进水结构。


3.根据权利要求2所述的一种絮凝吸附澄清设备,其特征在于:所述进水结构为顺时针或逆时针均匀设于进水分配环(23)上的进水分配管(24),所述进水分配管(24)与所述进水分配环(23)相连通,所述进水分配管(24)的出水端偏离所述沉淀罐(2)的中心。


4.根据权利要求2所述的一种絮凝吸附澄清设备,其特征在于:所述进水结构为设于进水分配环(23)上的水平狭缝(25)以及顺时针或逆时针均匀设于进水分配环(23)上的进水导流板(26),所述进水导流板(26)偏离所述沉淀罐(2)的中心。


5.根据权利要求1至4任一项所述的一种絮凝吸附澄清设备,其特征在于:所述沉淀罐进水管(22)至少设置有两组,所述沉淀罐进水管(22)沿径向均匀设置在所述沉淀罐(2)的圆周面上。


6.根据权利要求3或4所述的一种絮凝吸附澄清设备,其特征在于:清水溢流装置(3)包括沿所述沉淀罐(2)内壁圆周方向设置的出水溢流槽(31)以及与所述沉淀罐(2)内部相连通并位于所述出水溢流槽(31)处的溢流出水管(33),所述出水溢流槽(31)上还设置有用于导流的出水导流板(32)。


7.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈旗新王国梁张冠群曾永平
申请(专利权)人:暨南大学
类型:发明
国别省市:广东;44

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