加热设备和加热方法技术

一种加热设备（４５），具有沿玻璃基片（２４）被输送机构（７４）输送的方向布置的第一至第五加热炉（８２～９０）。第一加热炉（８２）具有至少将玻璃基片（２４）加热到处理工件（２４）所需的目标温度的第一加热器（９８ａ）。第二加热炉（８４）具有将玻璃基片（２４）加热到等于或低于目标温度的加热器（９８ｂ）。第二加热炉（８４）产生比第一加热炉（８２）少的热量。所述第二加热炉或者所述第二加热炉的下游的加热炉之一可以包括缓冲器系统，以避免在第一加热炉中的工件的过度加热。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种具有用于输送要处理的工件的输送机构的加热设备， 和通过这种加热设备进行加热的加热方法。
技术介绍
用于液晶面板的基片、用于印刷线路板的基片、和用于PDP面板的 基片，例如，包括光敏层压体，光敏层压体包括具有光敏材料(光敏树脂) 层并应用于基片表面的光敏薄板(光敏薄片)。光敏薄板包括光敏材料层和 依次沉积在柔性塑料支架上的保护膜。为了制备光敏层压体，基片(被处理的工件)例如玻璃基片、树脂基片 等等通常被预热到预定温度。保护膜已经部分或完全被剥离的光敏薄板与 预热的基片被夹在一对层压辊之间并被其加热，以相对基片热压光敏材 料。然后，柔性塑料支架被从基片剥离，从而生成光敏层压体。为了将基片加热到预定温度，例如，可以采用在专利公布号为 5-208261的日本专利中公开的一种连续加热设备。在所公开的连续加热 设备中，如附图中附图说明图19所示，基片1位于循环网带2上，并在箭头X表示的 方向上被连续输送。连续加热设备具有预热区3，回流区4，和冷却区5， 这些区域沿基片l被输送的方向依次设置。预热区3具有一组预热平板加热器3a、 3b、 3c，该组预热平板加热器 位于基片1的上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于加热工件（２４）的设备（４５），包括：输送机构（７４），用于在输送方向上输送工件（２４）；和沿着所述输送方向设置的至少第一和第二加热炉（８２，８４）；其中所述第一加热炉（８２）相对于所述输送方向设置在所述第二 加热炉（８４）的上游，并具有用于将所述工件（２４）至少加热到处理该工件（２４）所需的目标温度的第一热源（９８ａ）；并且能够产生比所述第一加热炉少的热量的所述第二加热炉（８４）相对于所述输送方向设置在第一加热炉（８２）的下游，并且具有 用于将所述工件（２４）加热到低于所述目标温度的温度的第二加热源（９８ｂ）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：中桐政幸，杉原了一，秋好宽和，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]