一种光膜高度检测及调节装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光膜高度检测及调节装置，属于领域，包括基准平台、光膜发生调节装置壳体、红外摄像头、刻度尺和单片机最小系统，所述光膜发生调节装置壳体和刻度尺设置在基准平台，所述刻度尺设置在光膜发生调节装置壳体的前端，所述红外摄像头倾斜设置在刻度尺的前端，所述光膜发生调节装置壳体内设置有光膜发生装置和调节机构，所述光膜发生装置设置在调节机构上，单片机最小系统分别与红外摄像头和光膜发生装置和调节机构连接。通过红外摄像头进行读取光膜的高度，然后把读取高度与设定的高度进行比对，然后根据比对的数据进行调整光膜发生装置的高度情况，实现光膜高度自动检测和自动调节，更方便，提高光膜调节的准确度和速度。

【技术实现步骤摘要】
一种光膜高度检测及调节装置
技术涉及光膜高度检测领域，尤其涉及一种光膜高度检测及调节装置。
技术介绍
现有的光膜高度都是通过人工进行读取的，通过人肉眼进行观看光膜线的位置，然后根据人进行读取识别，人工读取过程中常常会出现误差，使得在调整光膜发生装置时不精准的情况。因此需要设计一种自动的光膜高度检测识别装置，同时自动调整光膜发生装置的高度进行调节光膜的高度。
技术实现思路
技术的目的在于提供一种光膜高度检测及调节装置，解决现有光膜发生装置人工读取高度，精度不够，调整不方便的技术问题。一种光膜高度检测及调节装置，包括基准平台、光膜发生调节装置壳体、红外摄像头、刻度尺和单片机最小系统，所述光膜发生调节装置壳体和刻度尺设置在基准平台，所述刻度尺设置在光膜发生调节装置壳体的前端，所述红外摄像头倾斜设置在刻度尺的前端，所述光膜发生调节装置壳体内设置有光膜发生装置和调节机构，所述光膜发生装置设置在调节机构上，单片机最小系统分别与红外摄像头和光膜发生装置和调节机构连接。进一步地，所述刻度尺的数量为三个，每个刻度尺的前端都设置有一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光膜高度检测及调节装置，其特征在于：包括基准平台、光膜发生调节装置壳体、红外摄像头、刻度尺和单片机最小系统，所述光膜发生调节装置壳体和刻度尺设置在基准平台，所述刻度尺设置在光膜发生调节装置壳体的前端，所述红外摄像头倾斜设置在刻度尺的前端，所述光膜发生调节装置壳体内设置有光膜发生装置和调节机构，所述光膜发生装置设置在调节机构上，单片机最小系统分别与红外摄像头和光膜发生装置和调节机构连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种光膜高度检测及调节装置，其特征在于：包括基准平台、光膜发生调节装置壳体、红外摄像头、刻度尺和单片机最小系统，所述光膜发生调节装置壳体和刻度尺设置在基准平台，所述刻度尺设置在光膜发生调节装置壳体的前端，所述红外摄像头倾斜设置在刻度尺的前端，所述光膜发生调节装置壳体内设置有光膜发生装置和调节机构，所述光膜发生装置设置在调节机构上，单片机最小...

【专利技术属性】
技术研发人员：王鸣，李栋，
申请(专利权)人：广西佳微科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广西;45