使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法技术

本发明专利技术提供一种使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，该方法包括以下步骤：(S1)根据聚合物样品的浓度，经掩模电喷射包含聚合物样品和基质的溶液以制备厚度变化为30％以下的多个聚合物试样；(S2)用激光照射各个所述多个聚合物试样以得到MALDI质谱图；和(S3)由所述MALDI质谱图的峰结果使用所述聚合物样品的信号建立定量校准曲线。根据本发明专利技术，制备由不同浓度的聚合物样品制备而成的具有均匀厚度的聚合物试样，并且由所述聚合物试样得到再现性的MALDI质谱图，然后使用谱图中示出的聚合物样品的峰和基质或内标物的峰建立定量校准曲线，从而可以相对定量分析聚合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法
本申请要求于2018年8月30日提交的韩国专利申请No.10-2018-0102447和于2019年4月5日提交的韩国专利申请No.10-2019-0040021的优先权的权益，这两项专利申请的全部公开内容通过引用并入本说明书中。本专利技术涉及一种使用MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，更具体地，涉及一种通过得到具有均匀厚度的聚合物试样的MALDI谱图并且使用峰信号制备定量校准曲线来进行相对定量分析的方法。
技术介绍
基质辅助激光解吸电离(MALDI)是一种通过基质间接电离试样的技术，并且易于用于质谱法，但是由于缺乏谱图再现性，因此难以用于聚合物材料的定量分析。然而，已经开发了使用MALDI质谱法定量分析试样的技术。例如，据报道，如果通过在MALDI中使羽流(通过激光脉冲从试样产生的蒸气)的温度保持恒定来制备谱图，则可以实现谱图的再现性并且可以得到定量校准曲线，这使得能够定量分析。同时，专利技术人发现，聚合物试样的厚度是影响MALDI谱图的图案的一个因素，并且已经通过经本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种通过MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，包括以下步骤：/nS1：对于各个浓度的聚合物样品，通过经掩模电喷射包含聚合物样品和基质的溶液来制备厚度变化为30％以下的多个聚合物试样；/nS2：通过向所述多个聚合物试样中的每一个照射激光来得到MALDI质谱图；和/nS3：由所述MALDI质谱图的峰结果用聚合物样品的信号来制备定量校准曲线。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180830 KR 10-2018-0102447;20190405 KR 10-2019-001.一种通过MALDI质谱法相对定量分析聚合物的方法，包括以下步骤：
S1：对于各个浓度的聚合物样品，通过经掩模电喷射包含聚合物样品和基质的溶液来制备厚度变化为30％以下的多个聚合物试样；
S2：通过向所述多个聚合物试样中的每一个照射激光来得到MALDI质谱图；和
S3：由所述MALDI质谱图的峰结果用聚合物样品的信号来制备定量校准曲线。


2.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述聚合物样品包括聚(N-b-羟乙基-2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶基琥珀酸酯)(Tinuvin622)、2,2-双(羟甲基)丁酸-聚(丙二醇)(BHB-PPG)、烯丙基苯酚-聚二甲基硅氧烷(AP-PDMS)、H-聚二甲基硅氧烷(H-PDMS)或它们的混合物。


3.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，通过由所述MALDI质谱图的峰结果计算所述聚合物样品与所述基质的信号强度比，并且根据所述聚合物样品的浓度将其绘制出来，来制备定量校准曲线。


4.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，在步骤S1中，通过向所述包含聚合物样品和基质的溶液中另外加入内标来制备所述聚合物试样。


5.根据权利要求4所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，通过由对于所述聚合物试样得到的MALDI质谱图计算所述聚合物样品与所述内标的信号强度比，并且根据所述聚合物样品与所述内标的浓度比将其绘制出来，来制备具有另外加入内标的聚合物样品和基质的聚合物试样的定量校准曲线。


6.根据权利要求4所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，所述内标是选自聚(乙二醇)(PEG)、聚(丙二醇)(PPG)、聚苯乙烯(PS)和它们中的两种或更多种的混合物的聚合物化合物。


7.根据权利要求1所述的相对定量分析聚合物的方法，其中，通过经掩模电喷射来制备聚合物试样包括以下步骤：
i：准备包括样品板和电喷射主喷嘴的电喷射装置并且将掩模安装在样品板上；和
ii：通过所述主喷嘴将所述包含聚合物样品和基质的溶液电喷射到安装有掩模的样品板上，
其中，所述掩模包括孔，...

【专利技术属性】
技术研发人员：阵耿珠，裵龙珍，林泳姬，尹汝荣，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR