【技术实现步骤摘要】
虚拟模型处理方法、装置、设备及存储介质
本申请涉及模型处理
，具体而言，涉及一种虚拟模型处理方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
国画美术是一种具有主观意识，追求意境和感觉的美术风格。不论是勾线，还是山石其中的细节机理，都是一气呵成一笔完成，从而形成的笔触效果十分自然，这些笔触效果便成为山石的细节效果。但若对其中的细节重复修改，突破，细化，便失去了其中韵味。现有的国画风格游戏产品，多以分UV画贴图的技术制作。在贴图中，刻画国画特征的美术效果，如笔触，泼墨，肌理，等。或者为了达到国画中的晕染效果，也会采用透明材质，在上面绘制半透明的细节效果。但是这样的处理方式，由于贴图的绘制需要根据需求，人工绘制较大尺寸的贴图，所以工作量大，人工成本高，制作周期长。
技术实现思路
本申请的目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种虚拟模型处理方法、装置、设备及存储介质，以解决的问题。为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案如下：第一方面，本申请实施例提供了一种虚拟模型处理方法，所述方法包括：
【技术保护点】
1.一种虚拟模型处理方法，其特征在于，所述方法包括：/n获取待处理的虚拟模型；/n采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线；/n采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，所述目标虚拟模型具有所述勾线以及所述勾线的细节。/n
【技术特征摘要】
1.一种虚拟模型处理方法，其特征在于，所述方法包括：
获取待处理的虚拟模型；
采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线；
采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，所述目标虚拟模型具有所述勾线以及所述勾线的细节。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用渐变遮罩贴图和光照遮蔽贴图对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线，包括：
对所述渐变遮罩贴图的参数进行调节；
根据调节后的所述渐变遮罩贴图和所述光照遮蔽贴图，对所述虚拟模型进行处理，得到所述虚拟模型的勾线。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述参数包括下述至少一种参数：贴图大小、明暗比例、明暗过渡范围、明暗对应关系。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用法线贴图对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到目标虚拟模型，包括：
对所述法线贴图进行调节；
根据调节后的所述法线贴图，对所述虚拟模型的勾线进行处理，得到所述目标虚拟模型。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述对所述法线贴图进行调节，包括:
对所述法线贴图的法线强度参数进行调节；...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴韬，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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