一种光刻投影物镜制造技术

本发明专利技术实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组，所述第一透镜组、所述第三透镜组均具有负光焦度，所述第二透镜组和所述第四透镜组具有正光焦度，所述第五透镜组的光焦度为0，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组和所述第五透镜组的光焦度的和为0；所述光刻投影物镜还包括光阑；所述第一透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均包括非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面；所述非球面透镜的数量大于等于4且小于等于8。本发明专利技术实施例提供一种光刻投影物镜，以实现减少非球面透镜的数量，降低加工成本。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻投影物镜
本专利技术实施例涉及光刻技术，尤其涉及一种光刻投影物镜。
技术介绍
光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。集成电路就是由投影曝光装置制成的。借助于投影曝光装置，具有不同掩模图案的图形被成像至基底上，如硅片或LCD板，用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电(MEMS)等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，更低成本的需求。高的成像性能要求光刻投影物镜能够实现较大的数值孔径(例如大于数值孔径0.5)，且成像的像差控制在合理的范围内，在一些应用场景中，高的成像性能还要求光刻投影物镜能够适用于较长波长(长波长例如大于等于193nm)，现有的光刻投影物镜在高的成像性能要求下需要使用较多的非球面透镜，加工成本高。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种光刻投影物镜，以实现减少非球面透镜的数量，降低加工成本。本专利技术实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组，所述第一透镜组、所述第三透镜组均具有负光焦度，所述第二透镜组和所述第四透镜组具有正光焦度，所述第五透镜组的光焦度为0，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组和所述第五透镜组的光焦度的和为0；所述光刻投影物镜还包括光阑；/n所述第一透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均包括非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面；所述非球面透镜的数量大于等于4且小于等于8。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组，所述第一透镜组、所述第三透镜组均具有负光焦度，所述第二透镜组和所述第四透镜组具有正光焦度，所述第五透镜组的光焦度为0，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组和所述第五透镜组的光焦度的和为0；所述光刻投影物镜还包括光阑；
所述第一透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均包括非球面透镜，一个所述非球面透镜包括一个非球面表面；所述非球面透镜的数量大于等于4且小于等于8。


2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组以及所述第三透镜组中，所有所述非球面透镜的非球面偏离度均小于0.5mm；所述第四透镜组中存在至少一个非球面偏离度大于等于0.5mm的非球面透镜；或者，
所述第一透镜组以及所述第四透镜组中，所有所述非球面透镜的非球面偏离度均小于0.5mm；所述第三透镜组中存在至少一个非球面偏离度大于等于0.5mm的非球面透镜；
其中，非球面透镜的非球面偏离度为非球面透镜的非球面表面与最佳拟合球面之间的轴向距离。


3.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第四透镜组中存在至少一个具有负光焦度的透镜。


4.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组中存在至少一个具有正光焦度的透镜。


5.根据权利要求4所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第二透镜组包括多个具有正光焦度的透镜；所述第一透镜组中具有正光焦度的透镜的光焦度数值，小于所述第二透镜组中任一透镜的光焦度数值。


6.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组和所述第三透镜组均包括弯月透镜。


7.根据权利要求6所述的光刻投影物镜，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭银章，马克·欧斯可特斯凯，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31