【技术实现步骤摘要】
一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备
本专利技术实施例涉及半导体光刻
,尤其涉及一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备。
技术介绍
掩模版在夹持、传输、存储及曝光等过程可能受到污染而在其表面产生颗粒、刮擦痕、针孔等缺陷。在曝光过程中,上述缺陷的存在直接影响到光刻机的图像性能及产率,严重的情况下,产率可降为零。掩模颗粒度检测系统作为光刻机掩模传输分系统的主要部件之一,能够对掩模版表面上的缺陷大小、位置进行检测。根据检测结果,光刻机操作系统或操作人员可以判定该掩模版能否用于后续的曝光过程。检测结果还可以作为清除掩模版上缺陷时的输入数据。受照明及成像系统约束,掩模版进行扫描测试前需要对掩模版进行调焦及水平姿态(绕X轴的偏转Rx和绕Y轴的偏转Ry)的检测。当前使用特殊设计的掩模版,对Rx/Ry进行测量,特殊设计掩模版上设计有特定结构的衍射标记,激光沿特定角度入射时,线阵CCD能够接收到衍射标记的散射光强,根据光斑在线阵CCD相机上的位置及偏转测量掩模版的Rx/Ry。但是该方法至能应用于在对掩模版颗粒度检测前的调试,而在具体工作工程中,由于机械手在往复运动中可能会出现偏转,无法始终维持水平状态,使得掩模版也会发生偏转,导致颗粒度检测结果异常。目前,在线直接监测Rx/Ry较为困难,成本较高且效率较低。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备,在掩模版颗粒度检测过程中,在线对掩模版的姿态进行监测,简化监测设备,提高监测效率。 ...
【技术保护点】
1.一种掩模版姿态监测方法,其特征在于,包括:/n获取至少一个标定点至标准面沿第一方向的距离;/n获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离,其中,所述第一检测点与所述第二检测点在所述标准面内的投影沿第二方向排布,所述第一检测点与所述第三检测点在所述标准面内的投影沿第三方向排布,所述第一方向、第二方向和第三方向互相垂直,所述标准面垂直于所述第一方向;/n根据所述第一检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第一检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离、第二检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第二检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离以及第一检测点与第二检测点沿所述第二方向的距离计算所述待测掩模版相对于所述标准面绕所述第三方向的偏转角度;/n根据所述第一检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第一检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离、第三检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第三检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离以及第一检测点与第三检测点沿所述第三方向的距离计算所述待测掩模版相 ...
【技术特征摘要】
1.一种掩模版姿态监测方法,其特征在于,包括:
获取至少一个标定点至标准面沿第一方向的距离;
获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离,其中,所述第一检测点与所述第二检测点在所述标准面内的投影沿第二方向排布,所述第一检测点与所述第三检测点在所述标准面内的投影沿第三方向排布,所述第一方向、第二方向和第三方向互相垂直,所述标准面垂直于所述第一方向;
根据所述第一检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第一检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离、第二检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第二检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离以及第一检测点与第二检测点沿所述第二方向的距离计算所述待测掩模版相对于所述标准面绕所述第三方向的偏转角度;
根据所述第一检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第一检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离、第三检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第三检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离以及第一检测点与第三检测点沿所述第三方向的距离计算所述待测掩模版相对于所述标准面绕所述第二方向的偏转角度。
2.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法,其特征在于,在所述获取至少一个标定点至标准面沿第一方向的距离之前,还包括:
对标定掩模版进行调平,以使所述标定掩模版垂直于所述第一方向,所述标定掩模版的表面为所述标准面。
3.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法,其特征在于,所述标定点包括第一标定点和第二标定点,所述第一标定点和第二标定点沿所述第二方向排布,获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离,包括:
获取所述第一标定点至所述第一检测点沿所述第一方向的距离,以及所述第二标定点至所述第二检测点沿所述第一方向的距离;
沿所述第三方向移动所述待测掩模版,获取所述第一标定点至所述第三检测点沿所述第一方向的距离,其中,所述待测掩模版沿所述第三方向移动的距离为所述第一检测点与第三检测点沿所述第三方向的距离。
4.根据权利要求3所述的掩模版姿态监测方法,其特征在于,所述第一标定点与第二标定点位于所述待测掩模版的同侧或异侧。
5.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法,其特征在于,所述标定点包括第三标定点和第四标定点,所述第三标定点和第四标定点沿所述第三方向排布,获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离,包括:
获取所述第三标定点至所述第一检测点沿所述第一方向的距离,以及所述第四标定点至所述第三检测点沿所述第一方向的距离;
沿所述第二方向移动所述待测掩模版,获取所述第三标定点至所述第二检测点沿所述第一方向的距离,其中,所述待测掩模版沿所述第二方向移动的距离为所述第一检测点与第二检测点沿所述第二方向的距离。
6.根据权利要求5所述的掩模版姿态监测方法,其特征在于,所述第三标定点与第四标定点位于所述待测掩模版的同侧或异侧。
7.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法,其特征在于,所述标定点包括第五标定点,获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离,包括:
沿所述第二方向和/或第三方向移动所述待测掩模版,获取所述第五标定点至所述第一检测点沿所述第一方向的距离、所述第五标定点至所述第二检测点沿所述第一方向的距离,以及所述第五...
【专利技术属性】
技术研发人员:张一志,杨晓青,
申请(专利权)人:上海微电子装备集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。