【技术实现步骤摘要】
本技术系对采用干法生产电子工业用硅酸钾坩埚炉所提出的一种改进方案。在电子工业中采用硅酸钾作为电子束管中荧光屏的涂料，故对其杂质含量控制极严，按我国国家标准(85年草案)的规定，对于浓度为28％的硅酸钾水溶液来说，其杂质含量应控制在下述范围以内铁＜2ppm，铜＜0.01ppm，镍＜0.05ppm重金属(以铅计算)＜0.5ppm，氯＜0.001％，碳酸盐(以碳酸钾计算)＜0.05％。生产硅酸钾通常有干法和湿法两种，湿法生产硅酸钾的主要原料为泡化碱、工业硝酸、试剂用氢氧化钾。该方法的缺点是成本高、杂质多、工艺复杂、三废严重，故近年来在国内已基本上被干法所取代。干法系在高温下采用石英砂同碳酸钾作原料直接反应制取硅酸钾，目前国内干法生产硅酸钾均采用传统的敞开式坩埚炉，以天然气或煤作燃料，以优质耐火粘土作坩埚材料。石英砂和碳酸钾在坩埚内受热熔融后生产硅酸钾熔体(并放出二氧化碳)。由于坩埚材料在高温下耐蚀性差，所生产的硅酸钾因受坩埚材料污染，影响其质量。本技术提供一种用于生产优质的供电子工业用硅酸钾的新型坩埚炉，其特征在于坩埚采用电熔池式结构，即利用在高温下导电的硅酸钾熔体本身作发热元件，整个电熔池炉是密封的并分为熔化区和出料区两相连通的部分，外层包有保温用耐火材料，分别在熔化区的上方安装一组硅碳棒和在液面下安放一组电极，用硅碳棒加热来使熔化区内的石英砂和碳酸钾达到熔融状态，而当石英砂和碳酸钾熔融后处于导电状态，两电极间便将产生热离子电流，硅碳棒即可停止加热。熔化区和出料区下部连通。为了更有效地抑制熔融硅酸钾对坩埚材料和电极材料的腐蚀，经过长期的选材试验表明，本技术所提供...
【技术保护点】
一种用于生产电子工业用硅酸钾的坩埚炉，其特征在于坩埚采用电熔池式结构：ａ、电熔池是密封的并分为熔化区和出料区相连通的两部分，外层包有保温用耐火材料（４），ｂ、熔化区上方安装有一组硅碳棒（１１），液面下安放有一组加热电极（５），采用熔 融锆刚玉砖（２）作侧壁和底壁，石英砖（１）作顶壁，ｃ、出料区上方也安装有一组硅碳棒（１２），采用石英砖（１）作顶壁，烧结锆刚玉砖（３）作侧壁和底壁。
【技术特征摘要】
1.一种用于生产电子工业用硅酸钾的坩埚炉，其特征在于坩埚采用电熔池式结构a、电熔池是密封的并分为熔化区和出料区相连通的两部分，外层包有保温用耐火材料(4)，b、熔化区上方安装有一组硅碳棒(11)，液面下安放有一组加热电极(5)，采用...
【专利技术属性】
技术研发人员：施大城，朱康洋，张云英，
申请(专利权)人：江苏省扬中县联合化工厂，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]
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