硅片沉积用装置以及石英舟制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片沉积用装置以及石英舟，石英舟包括底支撑板；在底支撑板的上方与底支撑板连接的载物立板，载物立板具有在前后方向分别设置的前卡槽、后卡槽，每个前卡槽与一个后卡槽相对应，前卡槽的下侧壁和后卡槽的下侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，前卡槽的上侧壁和后卡槽的上侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，且彼此对应的前卡槽和后卡槽中，前卡槽的上侧壁所在的平面与后卡槽的上侧壁所在的平面不平行或不共面，前卡槽的下侧壁所在的平面与后卡槽的下侧壁所在的平面不平行或不共面。由此，通过设置在侧板上设置轻微错开的有一定倾斜角度的卡槽，从而可以良好地实现硅片的单面沉积，可以有效地避免产生绕镀的现象。

【技术实现步骤摘要】
硅片沉积用装置以及石英舟
本技术涉及晶体硅太阳电池领域，尤其是涉及一种硅片沉积用装置以及石英舟。
技术介绍
随着光伏行业的快速发展，钝化接触技术在晶体硅太阳电池领域受到了广泛关注。钝化接触结构一般采用遂穿二氧化硅层和叠加在遂穿二氧化层上的掺杂多晶硅薄膜组成，该结构不但可以钝化电池表面，同时也能降低金属接触复合和降低接触电阻。掺杂多晶硅薄膜一般是将硅片背靠背竖直插在石英舟内，再通过LPCVD(低压化学气相沉积)的方式沉积生长。相关技术中，这样的沉积的多晶硅会绕镀到硅片另一面，需要再通过其他工艺将其去除，并且需要保护硅片的其他结构不受到损坏，由此导致去除绕镀的难度较大，并且工序的增加也会使产品生产的良率变低。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出一种石英舟，用于解决传统的硅片背靠背竖直插在石英舟内去除绕镀的难度较大，并且工序较多也，使产品生产的良率变低。本技术还提出了一种硅片沉积用装置。根据本技术实施例的石英舟，包括：底支撑板；在所述底支撑板的上方与所述底支撑板连接的载物立板，所述载物立板具有在前后方向分别设置的前卡槽、后卡槽，每个所述前卡槽与一个后卡槽相对应，所述前卡槽的下侧壁和所述后卡槽的下侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，所述前卡槽的上侧壁和所述后卡槽的上侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，且彼此对应的前卡槽和后卡槽中，前卡槽的上侧壁所在的平面与后卡槽的上侧壁所在的平面不平行或不共面，前卡槽的下侧壁所在的平面与后卡槽的下侧壁所在的平面不平行或不共面。由此，根据本技术实施例的石英舟，通过设置在侧板上设置轻微错开的有一定倾斜角度的卡槽，替代了传统的硅片背靠背竖直插在石英舟内的放置方式，可以减小硅片与石英舟的接触面积，并且使硅片稳固地放置在石英舟内部，从而可以良好地实现硅片的单面沉积，可以有效地避免产生绕镀的现象，从而可以提高生产品生产的良率。在本技术的一些示例中，所述前卡槽的横截面为梯形、菱形、三角形中的任一种。在本技术的一些示例中，所述前卡槽自前向后开口逐渐增大，所述后卡槽自前向后开口逐渐减小。在本技术的一些示例中，所述的用于装载硅片的石英舟的彼此对应的所述前卡槽和后卡槽中，所述前卡槽的高度高于所述后卡槽的高度。在本技术的一些示例中，所述前卡槽为自前向后贯通的通槽，所述后卡槽为非通槽，所述后卡槽的后侧壁形成为防止硅片掉出的阻挡部。在本技术的一些示例中，所述载物立板包括左侧板、右侧板以及后侧板，所述左侧板与所述右侧板彼此相对设置，所述左侧板和所述右侧板的内侧均形成有所述前卡槽，所述后侧板的前侧形成有后卡槽，所述后侧板的后壁形成为所述阻挡部；所述石英舟还包括顶板，所述左侧板、所述右侧板、所述后侧板的顶端均与所述顶板连接，所述左侧板、所述右侧板、所述后侧板的底端均与所述底支撑板连接。在本技术的一些示例中，所述载物立板、所述顶板、所述底支撑板一体形成。在本技术的一些示例中，所述底支撑板的下端向下突出并形成至少一个底安装凸座。根据本技术实施例的硅片沉积用装置，包括炉管，所述炉管内限定出容纳腔；承装座，所述承装座安装并设置在所述容纳腔内；以及所述的用于装载硅片的石英舟，多个所述石英舟分别自前向后依次排列，所述石英舟的底支撑板安装于所述承装座的安装槽内。在本技术的一些示例中，所述炉管具有炉口、炉尾，多个所述石英舟自所述炉口向所述炉尾依次排列，每个石英舟的前端靠近炉口且后端远离炉口，所述炉口形成为进风口。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是根据本技术实施例的硅片沉积用装置的示意图；图2是根据本技术实施例的石英舟的正视图；图3是根据本技术实施例的石英舟的侧视图；图4是根据本技术实施例的石英舟的局部结构示意图。附图标记：石英舟100；硅片沉积用装置200；底支撑板10；底安装凸座11；载物立板20；前卡槽21；后卡槽22；下侧壁23；上侧壁24；左侧板25；右侧板26；后侧板27；阻挡部28；顶板30；硅片40；炉管210；承装座220容纳腔230。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，参考附图描述的实施例是示例性的，下面详细描述本技术的实施例。下面参考图1-图4描述根据本技术实施例的装载硅片40的石英舟100。如图1-图4所示，根据本技术一些实施例的用于装载硅片40的石英舟100，包括底支撑板10和载物立板20。在底支撑板10的上方与底支撑板10连接的载物立板20，载物立板20具有在前后方向分别设置的前卡槽21、后卡槽22，每个前卡槽21与一个后卡槽22相对应，前卡槽21的下侧壁23和后卡槽22的下侧壁23中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，前卡槽21的上侧壁24和后卡槽22的上侧壁24中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，且彼此对应的前卡槽21和后卡槽22中，前卡槽21的上侧壁24所在的平面与后卡槽22的上侧壁24所在的平面不平行或不共面，前卡槽21的下侧壁23所在的平面与后卡槽22的下侧壁23所在的平面不平行或不共面。具体地，底支承板位于石英舟100的底部，载物立板20设置在底支承板的上表面。载物立板20具有一定的高度，从而可以保证多个硅片40可以同时放置在石英舟100内。载物立板20的沿前后方向延伸的两个侧板上分别设置有多个卡槽，每一个前卡槽21与后卡槽22一一对应，相互对应的前卡槽21和后卡槽22用于设置同一个硅片40。相互对应的前卡槽21与后卡槽22在左右方向的载物立板20的侧板上的投影与底支撑板10平行，相互对应的前卡槽21与后卡槽22在前后方向的的载物立板20的侧板上的投影与底支撑板10存在一定的倾斜角度。结合图2-图4，前卡槽21的上侧壁24与后卡槽22的下侧壁23向下倾斜，并且，前卡槽21的下侧壁23与后卡槽22的上侧壁24向上倾斜，并且通过设置前卡槽21与后卡槽22的角度可以保证硅片40放置在石英舟100上具有相同的角度。根据本技术实施例的用于装载硅片40的石英舟100，通过设置在侧板上设置轻微错开的两个有一定倾斜角度的卡槽，替代了传统的将硅片水平放置在石英舟内的放置方式，可以减小硅片40与石英舟100的接触面积，并且使硅片40稳固地放置在石英舟100内部，从而可以良好地实现硅片40的单面沉积，可以有效地避免产生绕镀的现象，从而可以提高生产品生产的良率。进一步地，前卡槽21的横截面可以为梯形、菱形、三角形中的任一种但不局限于此，前卡槽21的横截面也可以设置为其他适用的形状。硅片40与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于装载硅片的石英舟，其特征在于，包括：/n底支撑板；/n在所述底支撑板的上方与所述底支撑板连接的载物立板，所述载物立板具有在前后方向分别设置的前卡槽、后卡槽，每个所述前卡槽与一个后卡槽相对应，所述前卡槽的下侧壁和所述后卡槽的下侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，所述前卡槽的上侧壁和所述后卡槽的上侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，且彼此对应的前卡槽和后卡槽中，前卡槽的上侧壁所在的平面与后卡槽的上侧壁所在的平面不平行或不共面，前卡槽的下侧壁所在的平面与后卡槽的下侧壁所在的平面不平行或不共面。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于装载硅片的石英舟，其特征在于，包括：
底支撑板；
在所述底支撑板的上方与所述底支撑板连接的载物立板，所述载物立板具有在前后方向分别设置的前卡槽、后卡槽，每个所述前卡槽与一个后卡槽相对应，所述前卡槽的下侧壁和所述后卡槽的下侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，所述前卡槽的上侧壁和所述后卡槽的上侧壁中的至少一个向上倾斜或向下倾斜，且彼此对应的前卡槽和后卡槽中，前卡槽的上侧壁所在的平面与后卡槽的上侧壁所在的平面不平行或不共面，前卡槽的下侧壁所在的平面与后卡槽的下侧壁所在的平面不平行或不共面。


2.根据权利要求1所述的用于装载硅片的石英舟，其特征在于，所述前卡槽的横截面为梯形、菱形、三角形中的任一种。


3.根据权利要求2所述的用于装载硅片的石英舟，其特征在于，所述前卡槽自前向后开口逐渐增大，所述后卡槽自前向后开口逐渐减小。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的用于装载硅片的石英舟，其特征在于，彼此对应的所述前卡槽和后卡槽中，所述前卡槽的高度高于所述后卡槽的高度。


5.根据权利要求4所述的用于装载硅片的石英舟，其特征在于，所述前卡槽为自前向后贯通的通槽，所述后卡槽为非通槽，所述后卡槽的后侧壁形成为防止硅片掉出的阻挡部。


6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：李兵，邓伟伟，
申请(专利权)人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司，阿特斯阳光电力集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32