在分体石墨坩埚内制备氧化钇阻碳涂层的大气等离子喷涂方法技术

技术编号:2476912 阅读:424 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种具有分体结构的,且在上、下埚体的内含有Y↓[2]O↓[3]阻碳涂层的分体石墨坩埚,所述分体石墨坩埚的上埚体(1)的凸台(12)安装在下埚体(12)的凹腔(23)内,且凸台(12)的端面与下埚体(2)的凹腔(23)底面紧密接合,上埚体(1)的凸台面(13)与下埚体(2)的凹支撑面(22)紧密接合;所述上埚体(1)的内腔(14)壁上有50~250μm厚的A内涂层(11),所述下埚体(2)的凹腔(23)底面有50~250μm厚的B内涂层(21)。所述A内涂层(11)、B内涂层(21)是采用大气等离子喷涂方法将Y↓[2]O↓[3]制备在分体石墨坩埚的埚内形成具有零阻碳的涂层。该阻碳涂层有效地起到了在熔炼过程中阻止碳与金属熔体之间的化学反应,避免了碳污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于高熔点合金熔炼的加工容器,更具体地说,是指一种具有分 体结构的石墨坩埚,以及采用大气等离子喷涂工艺在分体石墨坩埚的埚内制备有 YP3阻碳涂层的方法。
技术介绍
目前熔炼Ti、 Nb等高活性元素含量较高的高熔点合金通常釆用水冷铜坩埚,该 类型坩埚的特点是铜本身熔点不髙,高温强度较差,使用时需有循环水冷却。但循环 水冷却往往造成熔池中的合金液温度不均匀,过热度低,熔体的成分均匀性差,最终 影响材料的性能。为改变这种现状,国内外投入了大量的人力、物力发展各种类型的 低反应耐高温坩埚,包括石墨坩埚、氧化物坩埚(如MgO、 CaO、 Al20s等)、难熔 金属坩埚(如Mo坩埚,W坩埚等)。石墨材料由于具有耐高温、抗热震性好、易于加工以及价格低廉等优点,引起业 内人士的广泛关注。伹是碳在高温下具有很高的反应活性,很容易与Nb、 Ti、 Al等 金属反应生成MC从而引起碳污染。因此,选择合适的材料作为石墨坩埚的涂层, ^t^fe!^^染B^鹏離蟒腳吝MiW縫驗^v针对石墨坩埚所设计的涂层要求具有抗热震、抗冲刷、耐高温等性能之外,还应 当达到一下要求(1) 涂层不与溶体反应和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分体石墨坩埚,其特征在于:上埚体(1)的凸台(12)安装在下埚体(12)的凹腔(23)内,且凸台(12)的端面与下埚体(2)的凹腔(23)底面紧密接合,上埚体(1)的凸台面(13)与下埚体(2)的凹支撑面(22)紧密接合;所述上埚体(1)的内腔(14)壁上有50~250μm厚的A内涂层(11),所述下埚体(2)的凹腔(23)底面有50~250μm厚的B内涂层(21)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张虎龚路杰田洪超徐惠彬
申请(专利权)人:北京航空航天大学
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利