等值黑视素勒克斯（EML）配额制造技术

一种确定占用者（8）在包括一个或多个室内空间和零个或多个室外空间的环境（2）中对等值黑视素勒克斯（EML）的暴露的方法，其中该环境包括一个或多个照射设备（4、5），其中所述一个或多个照射设备（4、5）包括利用人造照射来照射该环境的一个或多个照明器（4）。该方法包括：从一个或多个信息源（6、12）访问光水平信息，其中光水平信息包括至少关于人造照射的信息，并且至少部分地基于关于人造照射的所述信息来确定在环境中的何处存在至少预定EML水平；使用跟踪系统（16）跟踪环境内的占用者；并且基于该访问和跟踪，监测占用者是否已经暴露于至少最小EML配额，该最小EML配额包括占用者在至少预定时间段内暴露于至少预定EML水平。

EML quota

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】等值黑视素勒克斯（EML）配额
本公开涉及确保环境的占用者在一定时间内接收一定配额的等值黑视素勒克斯。例如，这可以是为了确保符合WELL（昼夜节律照明）建筑标准的规范。
技术介绍
WO2017/042682A1公开了一种用于计算个体所见的太阳辐射的系统，该系统包括：便携式定位构件，用以定位和跟踪个体在一天的行程中直接或间接暴露于太阳的位置；数据收集构件，包含关于在个体的跟踪位置中的太阳辐射的卫星数据d2；计算构件，在操作上连接到所述定位构件和所述数据收集构件，用于接收关于个体的位置的数据d1和关于个体所在的相同位置的地面上的太阳辐射的数据d2，以便计算个体所见的太阳辐射的剂量R1，以及计算相对于预期剂量R2缺失或超出的太阳辐射的剂量R3，预期剂量R2与个体的期望个人昼夜节律相对应。新的照明推荐已公布在WELL建筑标准（http://standard.wellcertified.com/light/circadian-lighting-design）中。这为诸如工作场所（例如办公室中的工作工位）的各种场景定义了推荐的黑视素日光（D65）等值，称为EML（等值黑视素勒克斯）。EML是在垂直平面中在完工地板上方预定高度处测量的，该预定高度对应于占用者的典型眼睛水平。EML还考虑了发光强度和色温。WELL建筑标准规定应在性能验证（入网初始化阶段）期间测量EML水平，以便确保合规性。光通量是光的感知功率的度量。它等于根据光度函数对每单位频率加权的可见光谱中的电磁辐射通量，光度函数表示人类眼睛对不同波长的光的响应。SI单位是流明（lm）。Lux（Lx）是每单位面积光通量（照度）的SI单位，该量可以由符号E表示。有时，作为一种简写形式，将量E本身（与SI单位相对）被称为“勒克斯”（严格来说是照度）。EML被定义为垂直平面或垂直圆柱表面中的勒克斯Ev乘以无量纲比率MEF（黑视素等值因子），在WELL建筑标准中称为黑视素比率R。MEF是勒克斯分量的相关色温（CCT）的函数。它是用来测量光对人类的昼夜节律的影响的度量。WELL建筑标准®，2014年10月20日的1.0版，可从https://www.wellcertified.com/sites/default/files/resources/WELL%20Building%20Standard%20-%20Oct%202014.pdf下载，其在第189-191页公开了以下：表L1：黑视素比率。此单位等值黑视素勒克斯（EML）是由卢卡斯等人提出的（卢卡斯等，“测量和使用黑视素期中的光（Measuringandusinglightinthemelanopsinage）。”神经科学趋势（TrendsinNeuroscience），2014年1月）。作者提供了一种工具箱，其针对期望光谱为眼睛中的五种光感受器（三种视锥细胞、视杆细胞和ipRGC）中的每一个导出等值的“α-光学”勒克斯。作者选择了缩放常数，使得每个值都将彼此相同，并且针对完全均匀能量的光谱选择了标准勒克斯定义（CIE标准发光体E）。在给定光谱的情况下，每个等值α-光学勒克斯都以一常数相互关联。下表示出了几种源的等值黑视素勒克斯和标准视觉勒克斯之间的示例比率。为了计算等值黑视素勒克斯（EML），将为建筑物设计或在建筑物中测量的视觉勒克斯（L）乘以该比率（R）：EML=L×R。例如，如果白炽灯在空间中提供200勒克斯，它们还将产生108等值黑视素勒克斯。如果将日光建模为提供相同的视觉亮度（200勒克斯），则其还将提供220等值黑视素勒克斯。通过将期望源的光谱并入表L2的计算中，可以确定相似的黑视素比率。鼓励项目使用此方法以获得更准确的结果。期刊文章的作者和IWBI都有帮助进行此计算的电子表格。CCT（K）光源比率2950荧光0.432700LED0.452800白炽0.544000荧光0.584000LED0.765450CIEE（等能量）1.006500荧光1.026500日光1.107500荧光1.11表L2：黑视素和视觉反应。为了计算光的黑视素比率，由从制造商或使用光谱仪获得每5nm的增量处的灯的光输出开始。然后，将输出乘以下面给出的黑视素和视觉曲线，以得到黑视素和视觉响应。最后，将总的黑视素响应除以总的视觉响应。波长光输出黑视素曲线黑视素响应视觉曲线视觉响应380…0.00015…0.00004…385…0.00031…0.00006…390…0.00063…0.00012…395…0.00133…0.00022…400…0.00285…0.0004…405…0.00625…0.00064…410…0.01384…0.00121…415…0.02601…0.00218…420…0.04887…0.004…425…0.07232…0.0073…430…0.10624…0.0116…435…0.14492…0.01684…440…0.19552…0.023…445…0.24805…0.0298…450…0.31075…0.038…455…0.37816…0.048…460…0.45413…0.06…465…0.53676…0.0739…470…0.62557…0.09098…475…0.70857…0.1126…480…0.79016…0.13902…485…0.85767…0.1693…<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种确定占用者（8）在包括一个或多个照射设备（4、5）的环境（2）中对等值黑视素勒克斯EML的暴露的方法，所述方法包括：/n从一个或多个信息源（6、12）访问光水平信息，并基于此确定在所述环境中的何处存在至少预定EML水平；/n使用跟踪系统（16）跟踪所述环境内的所述占用者；和/n基于所述访问和所述跟踪，监测所述占用者是否已经暴露于至少最小EML配额，所述最小EML配额包括所述占用者在至少预定时间约束中暴露于至少所述预定EML水平；其中所述照射设备（4、5）包括用人造照射来照射所述环境的一个或多个照明器（4），并且其中所述光水平信息包括至少关于所述人造照射的信息，所述确定至少部分地基于关于所述人造照射的所述信息。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171128 EP 17203989.31.一种确定占用者（8）在包括一个或多个照射设备（4、5）的环境（2）中对等值黑视素勒克斯EML的暴露的方法，所述方法包括：
从一个或多个信息源（6、12）访问光水平信息，并基于此确定在所述环境中的何处存在至少预定EML水平；
使用跟踪系统（16）跟踪所述环境内的所述占用者；和
基于所述访问和所述跟踪，监测所述占用者是否已经暴露于至少最小EML配额，所述最小EML配额包括所述占用者在至少预定时间约束中暴露于至少所述预定EML水平；其中所述照射设备（4、5）包括用人造照射来照射所述环境的一个或多个照明器（4），并且其中所述光水平信息包括至少关于所述人造照射的信息，所述确定至少部分地基于关于所述人造照射的所述信息。


2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个信息源包括数据库（12），并且所述光水平信息包括来自所述数据库的数据，所述数据库规划指示所述环境中的EML的光水平值，所述确定至少部分地基于所述光水平值。


3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述环境（2）包括一个或多个室外空间（2b），和/或所述环境包括一个或多个室内空间（2a），并且所述照射设备（4、5）包括一个或多个窗饰（5）；并且其中所述光水平信息包括关于自然日光的动态信息，所述确定至少部分地基于关于自然日光的所述信息。


4.根据权利要求3所述的方法，其中所述一个或多个信息源包括提供关于当前日光状况的报告的通信网络（14），所述确定至少部分地基于所述报告。


5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述一个或多个信息源包括光传感器（6）网络，每个传感器被布置为在所述环境内的不同的相应水平位置处测量光水平信息，所述确定基于所述测量的光水平信息。


6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，包括结合所述访问和跟踪使用计时器，来预测所述占用者（8）是否将暴露于所述预定EML配额，并且如果否，则执行以下中的一项或两项：
-自动控制所述照射，以增加在所述占用者正在占用或被预测稍后占用的环境的至少一个分区中的EML水平；和
-自动降低所述照射的至少一些照射的强度和/或色温，或关闭所述照射的至少一些照射，以便在基于所述跟踪确定所述占用者当前不在的环境的至少一个分区中、或者在所述占用者已经被暴露于所述最小EML配额或者预测所述占用者将被暴露于多于所述最小EML配额之后不满足所述预定EML水平。


7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，包括：基于所述访问和跟踪，经由用户接口向所述占用者（8）或另一用户自动通知以下中的一项或多项：
-所述占用者是否已经暴露于所述最小EML配额，
-是否预测所述占用者将暴露于所述最小EML配额，和/或
-所述占用者的当前EML暴露的持续测量。


8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述预定EML水平是在所述地板上方至少一个预定高度处的EML。


9.根据权利要求8所述的方法，其中所述预定高度是以下...

【专利技术属性】
技术研发人员：LLD范德普尔，
申请(专利权)人：昕诺飞控股有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL