【技术实现步骤摘要】
纳米光触媒抗菌过滤层和防护装置
本专利技术涉及一种用于防护装置的纳米光触媒抗菌过滤层，具体涉及一种包含纳米光触媒颗粒和疏水改性纳米二氧化硅的纳米光触媒抗菌过滤层，以及包括这种纳米光触媒抗菌过滤层的防护装置。
技术介绍
随着工业社会的快速发展，对环境的污染也日趋严重，大气污染物主要包括有害气体和颗粒物。其中，颗粒物不仅能被吸入呼吸系统，进而引起呼吸系统疾病，而且还因为其表面吸附了大量的有机污染物、有毒重金属、细菌和病毒等，对人体健康危害更大。口罩是用于对微细颗粒物进行吸附和阻断的常规防护装置。一般的口罩由无纺布构成，其阻断原理是机械式过滤，当颗粒物冲撞到无纺布时，被一层层阻断。但这种常规的无纺布口罩长时间佩戴后，口罩的无纺布外表面容易积留病毒和病菌等，使用两至四个小时后就要摘下，及时清洗消毒或丢弃，否则将丧失有效阻断的功能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种纳米光触媒抗菌过滤层，通过使用纳米光触媒颗粒和疏水改性的纳米二氧化硅来提高阻断效果，有效防止空气中的污染物和微生物在口罩上的粘...
【技术保护点】
1.一种用于防护装置的纳米光触媒抗菌过滤层，其特征在于，所述纳米光触媒抗菌过滤层包括纳米光触媒颗粒和疏水改性的纳米二氧化硅。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于防护装置的纳米光触媒抗菌过滤层，其特征在于，所述纳米光触媒抗菌过滤层包括纳米光触媒颗粒和疏水改性的纳米二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的纳米光触媒抗菌过滤层，所述纳米光触媒颗粒为纳米二氧化钛。
3.根据权利要求1所述的纳米光触媒抗菌过滤层，所述纳米光触媒颗粒的平均粒径为10～30nm，疏水改性前的所述纳米二氧化硅的平均粒径为7～20nm。
4.根据权利要求1所述的纳米光触媒抗菌过滤层，所述纳米光触媒颗粒与疏水改性前的所述纳米二氧化硅的重量比为1:3。
5.根据权利要求1所述的纳米光触媒抗菌过滤层，所述疏水改性的纳米二氧化硅表面含有长链烷基。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的纳米光触媒抗菌过滤层，形成所述纳米光触媒抗菌过滤层的处理液的制备方法包括以下步骤：
采用一种或多种含C...
【专利技术属性】
技术研发人员：林晨，肖鹏飞，王莹，
申请(专利权)人：北京易净星科技有限公司，易净星山东科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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