减压干燥方法、功能膜及电光学装置的制造方法以及设备制造方法及图纸

提供在干燥过程中根据液状体的种类使被涂敷的液状体的溶媒的蒸发速度最佳化，以溶媒蒸汽压的分布在被涂敷的面内大致均匀的状态进行减压干燥的减压干燥方法、使用该减压干燥方法的功能膜的制造方法和电光学装置的制造方法、电光学装置、液晶显示装置、有机ＥＬ显示装置以及电子设备。减压干燥方法包括：减压工序，在涂敷有液状体的基材收容于第一室的状态下，使第一室和第二室连通，由减压机构减压至规定的操作压Ｐｓ为止；放置工序，在达到规定操作压Ｐｓ的阶段密闭第一室，使溶媒蒸发，直到第一室上升到规定的压力为止进行放置；连通工序，连通上升到规定压力的第一室和第二室；排出工序，由减压机构将在第一室和第二室中扩散的溶媒的蒸汽排出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在减压下对涂敷有液状体的基材进行干燥，由此，在基材的表面形成被膜的减压干燥方法、功能膜的制造方法以及电光学装置的制造方法、电光学装置、液晶显示装置、有机EL显示装置、以及电子设备。
技术介绍
当在半导体等的晶片状基板(基材)的表面涂敷含有膜形成材料的液状体来形成被膜时，公知有一种使用在减压下使液状体中所包含的溶剂(溶媒)成分蒸发、干燥的减压干燥装置进行干燥的减压干燥方法。例如，专利文献1中提出了一种减压干燥装置，其配置有用于将涂敷有涂敷液(光致抗蚀剂)的基板放置在减压气氛下的气密容器；用于对气密容器内进行减压排气的减压排气机构；和在气密容器内与基板对置，大小与基板的有效区域相同或者比其大的整流板。而且，作为使用上述减压干燥装置的减压干燥方法提出了包括下述工序的减压干燥方法，所述工序包括使整流板位于与设置在气密容器内部的基板载置部所载置的基板的表面经由间隙而对置的位置的工序；在气密容器内进行减压排气，直至达到从涂敷液强烈地蒸发溶剂成分的压力为止的工序；在从涂敷液强烈地蒸发出溶剂成分的期间，至少跨过两个阶段改变排气流量设定值的工序。在这样的减压干燥方法中，通过在涂敷液中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减压干燥方法，使用具有通过减压机构能够进行减压的第二室和能够与所述第二室连通的第一室的减压干燥装置，在减压下使涂敷在基材上的液状体的溶媒蒸发而干燥，包括：减压工序，在所述基材收容于所述第一室的状态下，使所述第一室和所述第二室连通 ，通过所述减压机构减压至规定的操作压为止；放置工序，在达到所述规定操作压的阶段密闭所述第一室，使所述溶媒蒸发，直到所述第一室上升到规定的压力为止进行放置；连通工序，连通上升到所述规定压力的所述第一室和所述第二室；和排 出工序，通过所述减压机构将在所述第一室和所述第二室中扩散的所述溶媒的蒸汽排出。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：五味一博，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]