洁净烘箱制造技术

为了实现几乎没有热损失的、具有高洁净性能的、而且降低设备负担的洁净烘箱，本发明专利技术的洁净烘箱（１）中，在环境气体的压力相等的连接部（Ｂ）和连接部（Ｃ）处，使设置于炉外的输送管（１１）与炉内连接，以连接该连接部（Ｂ）和连接部（Ｃ），输送管（１１）内部具有冷却器（６）和冷却器用风扇（１２）。由于冷却器（６）设置于炉外，几乎没有热损失，而且由于没有设置风闸阀，所以具有不产生灰尘的高洁净性能。另外，在加热过程中停止冷却水的供给的情况下，由于冷却器用风扇（１２）停止，所以不需要用于将蒸汽排出洁净室外的输送管。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在特定的环境气体中进行被热处理物的热处理的洁净烘箱。
技术介绍
所谓洁净烘箱是用于热处理半导体设备、液晶显示设备等的装置，在被隔热材料包围的炉内具有收容热处理样品的处理室、加热器等加热机构、风扇等送风机构以及过滤器。过滤器被设置在处理室的入口，加热到高温并通过过滤器而被清洁过的环境气体被吹向样品并在炉内循环。而且，现有技术中提出了一种洁净烘箱(例如，参照日本专利第3525074号公报(2000年11月30日公开，以下称为“专利文献1”)、以及日本专利公开公报特开2004-353928号公报(2004年12月16日公开，以下称为“专利文献2”))，将用于迅速进行热处理后的冷却的冷却器(水冷散热片)设置在炉内，为了抑制热处理时的热损失而设置风闸阀(转换板)，只在冷却时使炉内的环境气体流入冷却器。例如，在低温多晶硅TFT(LTPS)等的热处理中，向炉内导入通常的氮气，使其成为氧浓度100ppm以下的特定环境气体，并在300℃～500℃下进行热处理，但是，在热处理后使温度下降，直到取出样品的期间，必须维持炉内处于热处理时的特定环境气体。在上述洁净烘箱中，冷却器在炉内，由于是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种洁净烘箱，在与外部隔热的炉内具有加热部、烘箱用送风机构和烘箱用过滤器，上述烘箱用送风机构将被上述加热部加热的环境气体经由上述烘箱用过滤器吹向热处理物，使其在上述炉内循环，其特征在于，　　　　具有冷却部和冷却器用送风机构的输送管在上述炉内的第１连接部和第２连接部处分别与第１连接部和第２连接部连接，　　　　炉内的环境气体通过上述冷却器用送风机构在上述第１连接部处流入上述输送管内，上述输送管内的环境气体通过上述冷却器用送风机构在上述第２连接部处流入炉内，　　　　上述第１连接部和第２连接部处的环境气体的压力相等，　　　　上述输送管被设置在炉外。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：迫中和广，
申请(专利权)人：爱斯佩克株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]