微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置。一种微透镜组件，包括：透明基板；压印基底，设于透明基板上；微透镜阵列，包括若干个设于压印基底的远离透明基板的表面，且呈阵列排布的微透镜；相邻微透镜之间有间隔；以及遮光层，完全覆盖压印基底的未被微透镜覆盖的部分，并部分覆盖微透镜；遮光层具有若干个与微透镜一一对应的镂空结构；在垂直于工作面的方向，镂空结构的中心轴线与对应的微透镜的中心轴线共线；在垂直于工作面的方向，镂空结构在微透镜上的投影全部落在微透镜上，并与微透镜的边缘有间隔。上述微透镜组件，即避免了透明基板因设置凹槽而导致的强度的降低，也不会影响透明基板上二极管等元件的布局。

【技术实现步骤摘要】
微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置
本专利技术涉及微透镜领域，特别是涉及一种微透镜组件、制备方法、光学指纹模组及电子装置。
技术介绍
微透镜阵列是指若干个呈阵列状排布的微纳尺度的透镜群组。它不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并能构成许多新型的光学系统。一般地，为了避免倾斜角度较大的光射入微透镜后再透过压印基底后成像，往往在透明基板上设置凹槽，并在凹槽内设置遮光材料的方式，遮挡入射的倾斜角度较大的光。然而该方式需要改变透明基板的结构，导致透明基板强度降低，同时还可能影响透明基板上二极管等元件的布局。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种不改变透明基板的机构也可阻挡倾斜角度较大的光射入微透镜的微透镜组件。一种微透镜组件，包括：透明基板，具有工作面；压印基底，设于所述透明基板的工作面上；微透镜阵列，包括若干个设于所述压印基底的远离所述透明基板的表面，且呈阵列排布的微透镜；相邻所述微透镜之间有间隔；以及...

【技术保护点】
1.一种微透镜组件，其特征在于，包括：/n透明基板，具有工作面；/n压印基底，设于所述透明基板的工作面上；/n微透镜阵列，包括若干个设于所述压印基底的远离所述透明基板的表面，且呈阵列排布的微透镜；相邻所述微透镜之间有间隔；以及/n遮光层，完全覆盖所述压印基底的未被所述微透镜覆盖的部分，并部分覆盖所述微透镜；所述遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的镂空结构；在垂直于所述工作面方向，所述镂空结构的中心轴线与对应的所述微透镜的中心轴线共线；在垂直于所述工作面的方向，所述镂空结构在所述微透镜上的投影全部落在所述微透镜上，并与所述微透镜的边缘有间隔。/n

【技术特征摘要】
1.一种微透镜组件，其特征在于，包括：
透明基板，具有工作面；
压印基底，设于所述透明基板的工作面上；
微透镜阵列，包括若干个设于所述压印基底的远离所述透明基板的表面，且呈阵列排布的微透镜；相邻所述微透镜之间有间隔；以及
遮光层，完全覆盖所述压印基底的未被所述微透镜覆盖的部分，并部分覆盖所述微透镜；所述遮光层具有若干个与所述微透镜一一对应的镂空结构；在垂直于所述工作面方向，所述镂空结构的中心轴线与对应的所述微透镜的中心轴线共线；在垂直于所述工作面的方向，所述镂空结构在所述微透镜上的投影全部落在所述微透镜上，并与所述微透镜的边缘有间隔。


2.根据权利要求1所述的微透镜组件，其特征在于，沿与所述工作面平行的方向，所述镂空结构在所述压印基底上的投影与对应的所述微透镜的边缘的间隔≤2.5μm。


3.根据权利要求1或2所述的微透镜组件，其特征在于，所述遮光层的远离所述压印基底的表面设有凸起；所述凸起围成若干个与所述微透镜一一对应的凹陷；所述微透镜位于所述凹陷内，且与所述凸起之间有间隔；在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面为基准，所述凸起的高度高于所述微透镜的高度。


4.根据权利要求3所述的微透镜组件，其特征在于，在垂直于所述工作面的方向，以所述工作面为基准，所述凸起与所述微透镜的高度差为5μm-10μm...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘伟，郑刚强，任金虎，黄梅峰，
申请(专利权)人：欧菲微电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36