一种高纯气体分析系统及使用方法技术方案

本发明专利技术公开了一种高纯气体分析系统，由与阀门组连接的介质管路、待测气源管路和分析管路组成，介质管路由介质存储器、减压装置A和介质纯化装置按顺序由管道连接，待测气源管路由高纯气源和减压装置B按顺序由管道连接，分析管路为短管道将分析仪器与阀门组连接；介质纯化装置和减压装置B由阀门Ⅰ通过管道连接，减压装置B通过阀门Ⅱ连接有去介质装置。本发明专利技术通过阀门组的调节，使不同管路先后独自工作，可有效清除体系中的杂质，且使进样系统压力高于外界压力，解决了外部空气渗入污染问题，排除管道中样品残留及空气组分对分析结果的干扰，使分析系统持续具备良好的测试本底。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯气体分析系统及使用方法
本专利技术涉及仪器分析领域，尤其涉及一种高纯气体分析系统及使用方法。
技术介绍
大规模集成电路、化合物半导体器件、光纤等各行各业对气体纯度要求越来越高，气体的纯度严重制约着这些产业的发展。样品残留及空气的侵入、渗漏和污染是影响高纯气体中痕量杂质定量准确性的关键因素。在高纯气体分析中，整个分析过程须处于“完全密闭”状态，从取样到进样，不能有外来大气的渗入。对于杂质含量在10-9量级时，更有必要对进样系统采用高真空处理，充干净介质进行保护。现有进样系统是利用管路将待测气源、减压装置、分析仪器直接连接，取样方法是利用待测气体对管路、阀门进行吹扫，利用待测气体样品置换进样管路中的杂质气体。然而，取样管路的管壁上以及死角中残留的杂质气体，只有对仪器内外部管路进行长时间的吹扫，才能置换干净。这种方式会大量浪费待测气源，而且吹扫时间长，检测速度慢，不适用于高纯气体中的痕量杂质分析。
技术实现思路
进样管路中的杂质对高纯气体中痕量杂质分析产生较为明显的干扰，本专利技术针对进样管路杂质去除效果差的问题，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高纯气体分析系统，其特征在于，所述进样系统由介质管路、待测气源管路和分析管路组成，所述介质管路、待测气源管路和分析管路分别与阀门组连接；所述介质管路由介质存储器、减压装置A和介质纯化装置按顺序由管道连接，所述介质纯化装置与所述阀门组连接；所述待测气源管路由高纯气源和减压装置B按顺序由管道连接，所述减压装置B与所述阀门组连接；所述分析管路为短管道将分析仪器与所述阀门组连接；所述介质纯化装置和所述减压装置B由阀门Ⅰ通过管道连接，所述减压装置B通过阀门Ⅱ连接有去介质装置，所述去介质装置与阀门组通过管道连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种高纯气体分析系统，其特征在于，所述进样系统由介质管路、待测气源管路和分析管路组成，所述介质管路、待测气源管路和分析管路分别与阀门组连接；所述介质管路由介质存储器、减压装置A和介质纯化装置按顺序由管道连接，所述介质纯化装置与所述阀门组连接；所述待测气源管路由高纯气源和减压装置B按顺序由管道连接，所述减压装置B与所述阀门组连接；所述分析管路为短管道将分析仪器与所述阀门组连接；所述介质纯化装置和所述减压装置B由阀门Ⅰ通过管道连接，所述减压装置B通过阀门Ⅱ连接有去介质装置，所述去介质装置与阀门组通过管道连接。


2.根据权利要求1所述的高纯气体分析系统，其特征在于，所述去介质装置通过管道直接与所述分析仪器连接。


3.根据权利要求1所述的高纯气体分析系统，其特征在于，所述待测气源管路还设有备用气源，所述备用气源连接有减压装置C，所述减压装置C通过管道与所述阀门组连接。


4.根据权利要求1所述的高纯气体分析系统，其特征在于，所述减压装置C与所述减压装置B用同一管道与所述阀门组连接。


5.根据权利要求1-4任一项所述的高纯气体分析系统，其特征在于，连接管道的尺寸介于1/16-1/8英寸之间。


6.一种如权利要求5所述的高纯气体分析系统的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、进样前准备
(1)打开介质存储器，利用减压装置A控制压力和流量，打开介质纯化装置，将阀门组旋至介质管路、分析管路相通，对管路进行持续吹扫；
(2)高纯气源、备用气源保持关闭状态，将减压装置B、减压装置C保持全开，关闭阀门Ⅰ，打开阀门Ⅱ，利用去介质装置对介质管路、减压装置B、减压装置C进行抽空处理，当高真空计读数达到10-6Pa量级时，保持5-10min；
S2、样品标定
(1)关闭阀门Ⅱ，将阀门组旋至待测气源管路、分析管路相通，高纯气源、减压...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩雪，张说，吕坤，徐立林，
申请(专利权)人：烟台万华电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37