一种提高氧化铈化学活性的方法技术

一种提高氧化铈化学活性的方法，包括以下步骤：第一步：将氧化铈研磨至46µm‑120µm，使其D50为80±5µm；第二步：将氧化铈与30%的H

【技术实现步骤摘要】
一种提高氧化铈化学活性的方法
本专利技术涉及提高氧化铈化学活性的方法，属于材料加工工艺领域。。
技术介绍
氧化铈是一种重要的研磨材料和半导体催化剂，广泛应用于研磨硅片、光学玻璃等材料及光催化作用（污水处理）、汽车尾气催化净化等领域。氧化铈的抛光能力及光催化特性与其化学活性密切相关。氧空位是影响氧化铈化学活性的重要因素，与Ce3+伴随伴生。氧化铈的活性随着氧空位密度的增大而增大。氧化铈氧空位密度与氧化铈的非化学计量比CeO2-x、带隙、化学活性和磁性存在复杂的函数关系。铈原子的核外电子构型为4f15d16s2，一般Ce3+与Ce4+同时存在于氧化铈晶格内，具有特殊的变价特性和化学活性以及磁性。在氧化铈中，起激活其化学活性和磁性的是Ce3+，而不是Ce4+。有报道指出，在1200℃-660℃范围内煅烧氧化铈，其抛光效率与Ce3+含量的斯皮尔曼相关系数为0.83。Ce3+的浓度严重依赖于氧化铈晶体类型、晶格常数大小和氧空位密度等。当氧化铈作为磨粒研磨硅酸盐玻璃或硅片等材料时，氧化铈晶体表面Ce3+的Ce4f1电子极易转移到玻璃中O原子的2p4轨道，与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高氧化铈化学活性的方法，其特征在于包括以下步骤：/n第一步：将氧化铈研磨至46µm- 120µm，使其D50为80±5µm；/n第二步：将氧化铈与30%的H

【技术特征摘要】
1.一种提高氧化铈化学活性的方法，其特征在于包括以下步骤：
第一步：将氧化铈研磨至46µm-120µm，使其D50为80±5µm；
第二步：将氧化铈与30%的H2O2、0.1mol/L的稀硫酸混合，每kg氧化铈，30%的H2O2的用量为50-300ml，0.1mol/L的稀硫酸用量为50-200ml，在室温下搅拌0.5h，搅拌速度为80-150rpm，然后用去离子水和抽滤机将氧化铈冲洗若干次，使冲洗液呈中性为止，接着在60℃的烘干炉中烘干；
第三步：将上述氧化铈在通有氩气+氢气或氩气+CO的旋转炉中煅烧，煅烧之前，必须将炉中空气排净；
采用氩气+氢气时，氢气在氩气中的浓度为8-10%，氩气+氢气的流量0.5mL/min，旋转炉的旋转速度为以6rmp，煅烧温度至900℃，保温5h，然后在Ar环境下快速冷却至室温；
采用氩气+CO时，CO在氩气中的浓度为1-2%，氩气+CO的流量25mL/mi...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘振东，刘笑笑，邢淑敏，
申请(专利权)人：安阳工学院，
类型：发明
国别省市：河南;41