【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示体、带显示体的设备以及显示体的制造方法
本专利技术涉及显示体、带显示体的设备以及显示体的制造方法。
技术介绍
显示体利用基于衍射格栅、多层膜的光的干涉等而对显示体所显示的像附加与印刷物不同的视觉效果(例如,参照专利文献1)。显示体例如通过配备于护照、驾照等认证文件、商品券、支票等有价证券类这种要求伪造困难的物品,由此提高伪造物品的困难性。另外,显示体通过配备于随身携带的物品而提高物品的外观美观性。显示体所具有的衍射格栅例如具有透明的树脂层、以及位于树脂层上的铝等金属层。例如,由具有正弦二次结构的数学函数表现的衍射格栅的形状,在衍射格栅的倾斜部具有比其他部位薄的金属层,因倾斜部间的结构差异而对金属层附加透射率、反射率的差异。而且,能够实现基于灰度的表现、反射像的色彩和透射像的色彩互不相同的表现(例如,参照专利文献1)。根据反射像和透射像的差异还能够判定粘贴有显示体的物品的真伪。专利文献1:日本专利第5124272号说明书
技术实现思路
为了进一步提高伪造的困难性、外观美观性,优选1个显示体能够根据观察条件而形成互不相同的外观像。例如,希望通过显示体的表面观察和背面观察而目视确认到互不相同的色彩的像的显示体、通过针对显示体的一个面的反射光的观察和透射光的观察而目视确认互不相同的色彩的像的显示体。此外,由具有正弦二次结构的数学函数表现的衍射格栅的形状,在衍射格栅的构造的高度方向上、即在显示体的表面背面方向上需要较高的对称性。其结果,从显示体的表面观察的像与从显示体的背面观察的 ...
【技术保护点】
1.一种显示体,其中,/n所述显示体具有:/n周期性构造体,其是具有支撑部以及多个周期性要素的介电质,所述支撑部具有基准面,所述多个周期性要素在所述基准面以具有副波长周期的二维格栅状而排列,且所述周期性要素是从所述基准面凸出的凸部或者相对于所述基准面凹陷的凹部中的任意者;以及/n金属层,其位于作为包含所述基准面中的将所述周期性要素包围的区域以及所述周期性要素的表面在内的面的所述周期性构造体的表面,具有追随所述周期性构造体的表面形状的形状,/n沿着作为多个所述周期性要素以二维格栅状排列的方向的第1方面的所述周期性要素之间的间隙距离,与沿着作为多个所述周期性要素以二维格栅状排列的方向、且与所述第1方向相交叉的第2方向的所述周期性要素之间的间隙距离不同。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
【国外来华专利技术】20171204 JP 2017-232648;20171222 JP 2017-246744;201.一种显示体,其中,
所述显示体具有:
周期性构造体,其是具有支撑部以及多个周期性要素的介电质,所述支撑部具有基准面,所述多个周期性要素在所述基准面以具有副波长周期的二维格栅状而排列,且所述周期性要素是从所述基准面凸出的凸部或者相对于所述基准面凹陷的凹部中的任意者;以及
金属层,其位于作为包含所述基准面中的将所述周期性要素包围的区域以及所述周期性要素的表面在内的面的所述周期性构造体的表面,具有追随所述周期性构造体的表面形状的形状,
沿着作为多个所述周期性要素以二维格栅状排列的方向的第1方面的所述周期性要素之间的间隙距离,与沿着作为多个所述周期性要素以二维格栅状排列的方向、且与所述第1方向相交叉的第2方向的所述周期性要素之间的间隙距离不同。
2.根据权利要求1所述的显示体,其中,
在所述基准面上包含:
第1格栅层,其具有大于或等于10nm且小于或等于200nm的厚度;
第2格栅层,其具有大于或等于10nm且小于或等于200nm的厚度;以及
中间格栅层,其比所述第1格栅层及所述第2格栅层厚,且在厚度方向上由所述第1格栅层和所述第2格栅层夹持,
所述第1格栅层具有:多个第1介电质层,它们以单元格栅为正方形的正方形阵列、单元格栅为菱形的六边形阵列、单元格栅为长方形的长方形阵列中的任意岛状阵列而排列;以及第1金属层,其具有将各第1介电质层包围的网眼状,
所述中间格栅层具有:多个第1中间介电质层,它们以单元格栅为正方形的正方形阵列、单元格栅为菱形的六边形阵列、单元格栅为长方形的长方形阵列中的任意岛状阵列而排列;以及第2中间介电质层,其具有将各第1中间介电质层包围的网眼状,且具有低于所述第1中间介电质层的介电常数,
所述第2格栅层具有:多个第2金属层,它们以单元格栅为正方形的正方形阵列、单元格栅为菱形的六边形阵列、单元格栅为长方形的长方形阵列中的任意岛状阵列而排列;以及第2介电质层,其具有将各第2金属层包围的网眼状,
所述周期性要素是所述凸部,所述第1介电质层和所述第1中间介电质层构成所述周期性要素,所述金属层中包含所述第1金属层及所述第2金属层,
所述第1格栅层的所述第1金属层的体积比率大于所述第2格栅层的所述第2金属层的体积比率,并且所述第2格栅层的所述第2金属层的体积比率大于所述中间格栅层的金属材料的体积比率,
所述第1介电质层的宽度相对于所述第1介电质层的构造周期之比、以及所述第2金属层的宽度相对于所述第2金属层的构造周期之比,大于或等于0.25且小于或等于0.75。
3.根据权利要求2所述的显示体,其中,
所述第1金属层及所述第2金属层的相对于可见区域的光的复介电常数的实数部具有负值。
4.根据权利要求2或3所述的显示体,其中,
所述第1介电质层的宽度相对于所述第1介电质层的构造周期之比、以及所述第2金属层的宽度相对于所述第2金属层的构造周期之比,大于或等于0.40且小于或等于0.60。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的显示体,其中,
构成所述第1金属层的材料与构成所述第2金属层的材料相同,
所述第2介电质层是空气层,
所述第1介电质层的折射率与所述第1金属层的折射率之差大于所述第2介电质层的折射率与所述第2金属层的折射率之差。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的显示体,其中,
所述周期性要素的平面形状为长方形。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的显示体,其中,
所述中间格栅层还具有中间金属层,该中间金属层位于所述第1中间介电质层的侧面上,且由所述第1中间介电质层和所述第2中间介电质层夹持,
所述中间金属层是与所述第2金属层一体的构造体,且包含于金属层中,为了抑制可见区域的光的反射,越是靠近所述第1金属层的部位,所述侧面上的厚度越薄。
8.根据权利要求7所述的显示体,其中,
所述显示体具有保护层,该保护层将所述介电质层的与所述金属层接触的面的相反侧的面覆盖。
技术研发人员:波木井秀充,川下雅史,小田由香里,内田朋也,
申请(专利权)人:凸版印刷株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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