磁盘用基板、磁盘、以及磁盘驱动装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及磁盘用基板、磁盘、以及磁盘驱动装置，其中，磁盘用基板具有一对主表面，上述主表面的算术平均粗糙度Ra为0.11nm以下。另外，在主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为25[nm

Base plate, disk and disk drive device for disk

【技术实现步骤摘要】
磁盘用基板、磁盘、以及磁盘驱动装置本申请是分案申请，其原申请的申请号为201680019268.7，申请日为2016年03月31日，专利技术名称为“磁盘用基板、磁盘、以及磁盘用基板的制造方法”。
本专利技术涉及具有一对主表面的磁盘用基板、磁盘、以及磁盘用基板的制造方法。
技术介绍
对于用作信息记录介质之一的磁盘而言，以往适宜地使用了铝合金制基板或玻璃基板。现在，应硬盘驱动装置中的存储容量增大的要求，谋求磁记录的高密度化。伴随于此，进行了下述操作：使磁头距磁记录面的悬浮距离极短，从而对磁记录信息区域进行微细化。例如，在磁盘的磁性层形成垂直磁化，从而进行磁记录。对于这种磁盘用基板而言，为了达成高记录密度硬盘驱动装置所需的磁头低悬浮量化，降低磁盘用基板的表面凹凸的要求越来越强。例如，已知一种垂直磁记录介质用的基板，其由非磁性材料构成，该垂直磁记录介质用的基板具有下述表面形状：表面截面曲线的倾斜角度为2.0度以下，或者，在83nm以下的周期的表面粗糙度Ra～30nm以下的周期的表面粗糙度Ra的范围内，表面粗糙度Ra为0.15nm以下(专利文献1)。通过该基板，能够改善形成于该基板上的磁性颗粒的结晶取向性，能够实现磁记录介质的记录层(或磁性层)的低干扰化。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-293552号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题在上述的垂直磁记录介质用的基板中，表面粗糙度Ra由使用原子力显微镜所测得的结果求出。原子力显微镜例如将由单晶Si构成的部件用于探针前端，从而对表面粗糙度进行测定。但是，即便使表面粗糙度Ra为0.15nm以下，有时也未必能够改善磁盘特性。例如，在将信号记录于磁盘后将信号读出，由此能够将BER(误码率：BitErrorRate)作为磁盘特性求出。该BER无法与上述表面粗糙度Ra获得充分的关联，也存在虽然表面粗糙度Ra小、但BER大的情况。因此，本专利技术的目的在于提供与上述磁盘特性密切相关的磁盘用基板的表面粗糙度的指标，提供磁盘特性优异的磁盘用基板、磁盘、以及磁盘用基板的制造方法。用于解决课题的方案本专利技术的一个方式为一种磁盘用基板。该磁盘用基板具有一对主表面，上述主表面的算术平均粗糙度Ra为0.11nm以下。上述表面粗糙度Ra是使用具备探针的原子力显微镜所测得的值，该探针在探针前端设置有碳纳米纤维的棒状部件。本专利技术的另一方式也为一种磁盘用基板。该磁盘用基板具有一对主表面，在上述主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为25[nm2/个]以下。上述主表面的表面凹凸是使用具备探针的原子力显微镜所测得的值，该探针在探针前端设置有碳纳米纤维的棒状部件。从上述表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均优选为20[nm2/个]以下。从上述表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均、与从上述表面凹凸的平均面起具有0.2[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均之间的差优选为13[nm2/个]以下。设置于上述探针前端的碳纳米纤维的棒状部件的杨氏模量优选为100GPa以下。优选的是，上述棒状部件具有导电性，上述棒状部件的一端接地。上述表面粗糙度Ra或上述表面凹凸优选由上述探针的位置的信息求出，上述探针随着上述主表面的表面凹凸而改变上述探针的位置，使得上述探针以一定的振幅振动，由此而得到上述探针的位置的信息。在上述原子力显微镜的测定中，优选以0.1～80[N/m]的弹簧常数、以振动频率30～400[KHz]使上述探针振动。上述基板优选为能量辅助磁记录用磁盘用的基板。本专利技术的另一方式为一种磁盘，其在上述磁盘基板的表面至少形成了磁性膜。本专利技术的又一方式为一种磁盘用基板的制造方法。在该制造方法中，磨削处理后，在研磨处理工序中，关于使用具备探针的原子力显微镜所测得的上述主表面的表面凹凸，按照从上述表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为25[nm2/个]以下的方式，以30μm以下的加工余量对上述基板的一对主表面进行研磨，上述探针在探针前端设置有碳纳米纤维的棒状部件。上述研磨处理工序优选包括：使用酸性的研磨液对磁盘用基板的一对主表面进行第1研磨，在上述第1研磨后，使用碱性的研磨液对玻璃基板的主表面进行第2研磨，在上述第2研磨中，使研磨时间短于上述第1研磨。在上述主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均优选为20[nm2/个]以下。在上述主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.2[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均优选为12[nm2/个]以下。此外，本专利技术的另一方式为一种磁盘用基板的制造方法，其具有下述工序：对磁盘用基板的主表面的表面凹凸进行判定，判定作为磁盘用基板是否合适。该判定工序进行下述判定：使用具备探针的原子力显微镜对磁盘用基板的主表面的表面凹凸进行测定，该探针在探针前端设置有碳纳米纤维的棒状部件，由测定得到的表面凹凸的数据求出在上述主表面的表面凹凸中从该表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均，在上述平均为25[nm2/个]以下的情况下，采用所测定的基板作为磁盘用基板。优选将从上述主表面的表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为20[nm2/个]以下用于上述判定。优选将从上述主表面的表面凹凸的平均面起具有0.2[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为12[nm2/个]以下包含于上述判定。专利技术的效果根据上述的磁盘用基板、磁盘、以及磁盘用基板的制造方法，可以提供磁盘特性优异的磁盘用基板。附图说明图1是示出本实施方式的磁盘用基板的外观形状的图。图2是对本实施方式的磁盘用基板的测定中使用的原子力显微镜所使用的包括探针前端的探针的一部分进行说明的图。图3是以二维方式表示出磁盘用玻璃基板的主表面的表面凹凸的轮廓曲线要素的一例的图。图4是示出由使用现有探针的原子力显微镜所测定的表面粗糙度Ra与BER的关联低的图。图5是示出由使用本实施方式的探针的原子力显微镜所测定的表面粗糙度Ra与BER的关联高的图。具体实施方式下面，对本专利技术的磁盘用基板、磁盘、以及磁盘用基板的制造方法进行详细说明。关于BER不与表面粗糙度Ra充分相关的理由，本申请专利技术人考虑如下。即，为了测定表面粗糙度Ra而使用的原子力显微镜的探针前端通常为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁盘用基板，其特征在于，/n所述磁盘用基板具有一对主表面，/n所述主表面的算术平均粗糙度Ra为0.11nm以下，/n所述算术平均粗糙度Ra是使用具备探针的原子力显微镜所测得的值，该探针在探针前端设置有碳纳米纤维的棒状部件，/n所述磁盘用基板为玻璃基板或由铝合金构成的基板。/n

【技术特征摘要】
20150331 US 62/141,1211.一种磁盘用基板，其特征在于，
所述磁盘用基板具有一对主表面，
所述主表面的算术平均粗糙度Ra为0.11nm以下，
所述算术平均粗糙度Ra是使用具备探针的原子力显微镜所测得的值，该探针在探针前端设置有碳纳米纤维的棒状部件，
所述磁盘用基板为玻璃基板或由铝合金构成的基板。


2.如权利要求1所述的磁盘用基板，其中，
所述磁盘用基板具有一对主表面，
在所述主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为25[nm2/个]以下。


3.一种磁盘用基板，其特征在于，
所述磁盘用基板具有一对主表面，
在所述主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为25[nm2/个]以下，
所述主表面的表面凹凸是使用具备探针的原子力显微镜所测得的值，该探针在探针前端设置有碳纳米纤维的棒状部件，
所述磁盘用基板为玻璃基板或由铝合金构成的基板。


4.如权利要求3所述的磁盘用基板，其中，所述主表面的算术平均粗糙度Ra为0.15nm以下。


5.如权利要求2～4中任一项所述的磁盘用基板，其中，在所述主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为20[nm2/个]以下。


6.如权利要求2～5中任一项所述的磁盘用基板，其中，在所述主表面的表面凹凸中，从该表面凹凸的平均面起具有0.2[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区域的面积的平均为12[nm2/个]以下。


7.如权利要求2～6中任一项所述的磁盘用基板，其中，从所述表面凹凸的平均面起具有0.1[nm]以上的高度的2个以上凸部各自所占的区...

【专利技术属性】
技术研发人员：板谷旬展，越阪部基延，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP