一种介质气气道结构及等离子炬制造技术

本实用新型专利技术提供了一种介质气气道结构及等离子炬，该气道结构包括：安装部，其用以分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；设置在安装部上的介质气输送结构，介质气输送结构中设置有气体缓冲室，气体缓冲室的进气口与安装部的介质气进气通道连通，气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，用以稳定进入气体缓冲室的介质气的压力。本实用新型专利技术中，通过在介质气输送结构中设置气体缓冲室，以对进入气体缓冲室的介质气进行缓冲，在稳定介质气压力的同时使其形成均匀的螺旋状气流并流向等离子炬的阴阳极起弧区域。

A medium gas passage structure and plasma torch

【技术实现步骤摘要】
一种介质气气道结构及等离子炬
本技术涉及等离子炬
，具体而言，涉及一种介质气气道结构及等离子炬。
技术介绍
随着工业的高速发展，等离子炬在各个行业中的应用越来越广泛，诸如：焊接、切割、固废处理等。那么，设计制造稳定优良的等离子炬就越发重要。介质气的气流的稳定性是影响等离子炬性能的一个重要因素。目前市场上的等离子炬的介质气体进气有以下几种常见方式：a.轴向进气：该进气方式中气体沿一定的方向前进，但气流、气压都难以稳定，影响弧焰的质量；b.切向进气：该进气方式，当介质气体进入到弧室中时，是沿着弧室的壁旋转，需气体填满弧室后，才溢流到弧焰处，气体在弧室中流动没有确定的方向，靠气量增加后，产生溢流。这些方式有一共同点：介质气体从储气装置，通过阀门后，直接流进等离子炬的介质气室，与放电弧接触，产生等离子。这一特点的弊端在，气压不稳定，导致气体流场不稳定，从而使得等离子炬焰不稳定。
技术实现思路
鉴于此，本技术提出了一种介质气气道结构及等离子炬，旨在解决现有技术中由于介质气经储气装置直接进入等离子炬的介质气室而导致的等离子炬焰不稳定的问题。一个方面，本技术提出了一种介质气气道结构，包括：安装部，其用以分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；设置在所述安装部上的介质气输送结构，所述介质气输送结构中设置有气体缓冲室，所述气体缓室的进气口与所述安装部的介质气进气通道连通，所述气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，用以稳定进入所述气体缓冲室的介质气的压力。进一步地，上述介质气气道结构中，所述介质气输送结构远离所述安装部的端面上开设有若干螺旋出气孔，各所述螺旋出气孔均与所述气体缓冲室连通，用以使所述气体缓冲室中的介质气呈螺旋状流向所述等离子炬的阴阳极起弧区域。进一步地，上述介质气气道结构中，各所述螺旋出气孔均匀分布在所述介质气输送结构的远离所述安装部的端面上。进一步地，上述介质气气道结构中，所述介质气输送结构为筒体结构，其侧壁中设置有环形空腔，形成所述气体缓冲室。进一步地，上述介质气气道结构中，所述环形空腔靠近所述安装部的端部设置有环形凸起，所述环形凸起上开设有若干缺口，各所述缺口形成所述气体缓冲室的进气口，各所述气体缓冲室的进气口与所述安装部上的介质气进气通道连通，用以将介质气进气通道中的介质气导入所述气体缓冲室中。进一步地，上述介质气气道结构中，各所述缺口沿所述环形凸起的周向均匀分布。进一步地，上述介质气气道结构中，所述安装部为法兰结构，所述介质气输送结构套接于所述法兰结构的内孔中。进一步地，上述介质气气道结构中，所述安装部沿周向设置有若干介质气进气通道，每个所述介质气进气通道沿所述安装部的径向延伸，并且，各所述介质气进气通道分别与所述气体缓冲室的进气口一一对应设置。进一步地，上述介质气气道结构中，所述安装部沿周向设置有若干介质气进气管，各所述介质气进气管的进口均与介质气储气装置连通，各所述介质气进气管的出口分别与各所述介质气进气通道连通。与现有技术相比，本技术的有益效果在于，本技术提供的介质气气道结构，通过在介质气输送结构中设置气体缓冲室，以对进入气体缓冲室的介质气进行缓冲，在稳定介质气压力的同时使其形成均匀的螺旋状气流并流向等离子炬的阴阳极起弧区域，解决了现有技术中，由于介质气气压不稳定和介质气流动方向不确定对等离子炬焰产生的不良影响。本技术还提供了一种等离子炬，包括：阴极区部件、阳极区部件和上述任一项所述的介质气气道结构；其中，所述阴极区部件与所述阳极区部件之间形成介质气室，所述介质气气道结构插设于所述介质气室中；所述介质气气道结构中的气体缓冲室的进气口与外部介质气储气装置连通，所述气体缓冲室的出气口与所述介质气室连通，用以稳定进入所述进入气体缓冲室的介质气的压力。由于上述介质气气道结构具有稳定介质气压力和能使介质气形成均匀气流的作用，所以具有该介质气气道结构的等离子炬也具有相应的技术效果。附图说明通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本技术的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：图1为本技术实施例提供的介质气气道结构的三维结构示意图；图2为图1中介质气体通道的A-A截面示意图；图3为本技术实施例提供的介质气气道结构的剖面图；图4为本技术实施例提供的介质气气道结构的气体缓冲室中的气体流向示意图；图5为本技术实施例提供的介质气气道结构在等离子炬中的装配图。具体实施方式下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。参阅图1和图5，本技术实施例的介质气气道结构包括：安装部1和设置在安装部1上的介质气输送结构2；其中，安装部1分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；所述介质气输送结构2中设置有气体缓冲室21，所述气体缓室21的进气口与所述安装部1的介质气进气通道11连通，所述气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域d连通，用以稳定进入所述气体缓冲室21的介质气的压力。具体而言，安装部1可以为环形盘状结构，其表面上沿周向开设有若干安装孔13，远离安装孔13的位置开设有环形安凹槽14，以便与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配，从而将介质气输送结构2安装在等离子炬的阳极区部件和阴极区部件之间，进而使得从介质气输送结构2中流出的气体流向阴极区部件和阳极区部件之间的阴阳极起弧区域d。介质气输送结构2可以为筒体结构，筒体结构的中空部分用以与阴极区部件相配合。介质气输送结构2沿轴线安装在环形安装部的中空区域中，且介质气输送结构2的轴心和安装部1的轴心可以共线。介质气输送结构2的侧壁中设置有环形空腔a，形成气体缓冲室21。气体缓冲室21的进气口可以与安装部1的介质气进气通道11连通，以存储从介质气进气通道11输送的介质气体，气体缓冲室21的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，以在对介质气体的压力进行缓冲后使其以螺旋状流向等离子炬的阴阳极起弧区域。本实施例中，安装部1与介质气输送结构2采用绝缘材料制成，将等离子炬的阴、阳极区域分开，防止二者直接导通从而起到绝缘作用。上述显然可以得出，本实施例中提供的介质气气道结构，通过在介质气输送结构中设置气体缓冲室，以对进入气体缓冲室的介质气进行缓冲，在稳定介质气压力的同时使其形成均匀的螺旋状气流并流向等离子炬的阴阳极起弧区域，解决了本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种介质气气道结构，其特征在于，包括：/n安装部，其用以分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；/n设置在所述安装部上的介质气输送结构，所述介质气输送结构中设置有气体缓冲室，所述气体缓室的进气口与所述安装部的介质气进气通道连通，所述气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，用以稳定进入所述气体缓冲室的介质气的压力。/n

【技术特征摘要】
1.一种介质气气道结构，其特征在于，包括：
安装部，其用以分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；
设置在所述安装部上的介质气输送结构，所述介质气输送结构中设置有气体缓冲室，所述气体缓室的进气口与所述安装部的介质气进气通道连通，所述气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，用以稳定进入所述气体缓冲室的介质气的压力。


2.根据权利要求1所述的介质气气道结构，其特征在于，所述介质气输送结构远离所述安装部的端面上开设有若干螺旋出气孔，各所述螺旋出气孔均与所述气体缓冲室连通，用以使所述气体缓冲室中的介质气呈螺旋状流向所述等离子炬的阴阳极起弧区域。


3.根据权利要求2所述的介质气气道结构，其特征在于，各所述螺旋出气孔均匀分布在所述介质气输送结构的远离所述安装部的端面上。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的介质气气道结构，其特征在于，所述介质气输送结构为筒体结构，其侧壁中设置有环形空腔，形成所述气体缓冲室。


5.根据权利要求4所述的介质气气道结构，其特征在于，所述环形空腔靠近所述安装部的端部设置有环形凸起，所述环形凸起上开设有若干缺口，各所述缺口形成所述气体缓冲室的进气口，各所述气体缓冲室的进气口与所述安装部上的介质气进气通道连通，用...

【专利技术属性】
技术研发人员：方易剑，
申请(专利权)人：新奥科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13