插层型类石墨氮化碳复合材料、其制备方法及其应用技术

本发明专利技术提供了一种插层型类石墨氮化碳复合材料的制备方法，包括：将碱金属离子插层的类石墨氮化碳g‑C3N5与过渡金属盐混合，搅拌后得到插层型类石墨氮化碳复合材料。本申请还提供了一种插层型类石墨氮化碳复合材料，其由类石墨氮化碳g‑C3N5和插层于所述类石墨氮化碳g‑C3N5中的过渡金属原子组成。本申请提供的插层型类石墨氮化碳复合材料在光电催化、电催化、能源存储、复合材料等方面有着巨大的应用前景，相对于现有的过渡金属单原子而言，该种复合材料的合成方法简单，负载量大，容易大规模生产。

Intercalated graphite like carbon nitride composite, its preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
插层型类石墨氮化碳复合材料、其制备方法及其应用
本专利技术涉及新型复合材料
，尤其涉及一种插层型类石墨氮化碳复合材料、其制备方法及其应用。
技术介绍
过渡金属单原子具有最高的原子利用率和活性比面积，然而，过渡金属单原子的合成仍具有困难，如原子层沉积方法产率较低而成本昂贵，大规模合成的通用策略也具有一定挑战。类石墨氮化碳(g-C3N5)是一类重要的共轭聚合物半导体，具有优异的电子能带结构(带隙宽度为1.76eV)、化学稳定性和环境友好性，这些特性使得g-C3N5应用广泛，包括在可见光光催化分解水、光降解有机污染物等方面。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题在于提供一种插层型类石墨氮化碳复合材料及其制备方法，本申请提供的插层型类石墨氮化碳复合材料可作为优良的催化剂用于水分解析氧反应中。有鉴于此，本申请提供了一种插层型类石墨氮化碳复合材料的制备方法，包括：将碱金属离子插层的类石墨氮化碳g-C3N5与过渡金属盐混合，搅拌后得到插层型类石墨氮化碳复合材料。优选的，所述碱金属离子插层的类石墨氮化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种插层型类石墨氮化碳复合材料的制备方法，包括：/n将碱金属离子插层的类石墨氮化碳g-C3N5与过渡金属盐混合，搅拌后得到插层型类石墨氮化碳复合材料。/n

【技术特征摘要】
1.一种插层型类石墨氮化碳复合材料的制备方法，包括：
将碱金属离子插层的类石墨氮化碳g-C3N5与过渡金属盐混合，搅拌后得到插层型类石墨氮化碳复合材料。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碱金属离子插层的类石墨氮化碳g-C3N5的制备方法具体为：
将碱金属的溴化物、3-氨基-1，2，4-三氮唑和水混合后，蒸发后研磨，得到混合粉末；
将所述混合粉末初级煅烧，得到初始碱金属离子插层的类石墨氮化碳g-C3N5;
将所述初始碱金属离子插层的类石墨氮化碳g-C3N5再次煅烧，得到碱金属离子插层的类石墨氮化碳g-C3N5。


3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述初级煅烧的温度为500～600℃，所述再次煅烧的温度为400～500℃。

...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈双明，圣蓓蓓，徐文杰，宋礼，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：发明
国别省市：安徽;34